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Fターム[4K023BA02]の内容

電気メッキ、そのためのメッキ浴 (5,589) | 基本メッキ浴 (1,380) | クロムの化合物を含有する (41) | 六価クロムを含有する (12)

Fターム[4K023BA02]に分類される特許

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【課題】抗酸化特性およびエッチング特性が良好であり、さらに、高温高圧環境でも剥離性に優れた極く薄い銅箔と、厚さが均一であり、ピンホールがほとんどない担体とを備える、担体としてベリーロープロファイル銅箔付きの極く薄い銅箔を提供すること。
【解決手段】ベリーロープロファイル銅箔を担体とした極く薄い銅箔の製造方法が、担体の両面が平坦で,粗さが1.5μm以下,厚さが18〜35μmのベリーロープロファイル銅箔を;リブテン,ニッケル,クロムとカリウム金属イオンからなるめっき液でめっきして剥離層とし;剥離層の上に、Cu2P2O73H2O;10〜60g/L,K4P2O7:100〜400 g/L,PH=6〜10,浴温10〜600 Cからなるめっき液を電流密度1〜5A/dm2でめっきして剥離層の保護膜を形成し、;更に銅濃度50〜100g/L,硫酸濃度90〜125g/L,浴温40〜700 C,のめっき液を電流密度10〜50A/dm2でめっきして、厚さ1〜6μm以下の極く薄い銅箔とからなること。 (もっと読む)


【課題】生産性を低下させることなく、摺動面に保油用の穴部を適切な面積率で得ることのできる方法を提供する。
【解決手段】Niを主成分とする表面層を有する被処理物にCr及びMoの合金メッキ処理を施す電気メッキ方法において、メッキ浴1Lあたり、Crイオンを130〜151g、Moイオンを21〜26g、硫酸を2.7〜3.1g、メタンジスルホン酸を2.0〜5.0g含むメッキ浴を用い、電流密度と浴温とをパラメータとする領域において、電流密度が25A/dm及び浴温が47.5℃の点Aと、25A/dm及び62.5℃の点Bと、65A/dm及び62.5℃の点Cと、65A/dm及び57.5℃の点Dと、50A/dm及び57.5℃の点Eと、35A/dm及び50.0℃の点Fと、35A/dm及び47.5℃の点Gとで囲まれた範囲内の電流密度及び浴温でメッキ処理する。 (もっと読む)


固体粒子が埋め込まれたクラックのネットワークを備えた構造化クロム固体粒子層について説明する。該構造化クロム固体粒子層において、クラック密度は10〜250/mmであり、固体粒子層の粒径が0.01〜10μmの範囲であり、層全体における固体粒子の割合が1〜30体積%であり、クロム固体粒子層が層の表面に凹部を備えた微細構造を有し、前記凹部が占める表面積の割合が5〜80%である。構造化クロム固体粒子層の生産方法についても説明する。
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【課題】ロータリーピストンエンジンの燃焼室を構成するローターハウジングにおいて、Crめっき皮膜が形成された長円形状の内周面をシール部材が流体潤滑剤の存在下、長軸側内周面では短軸側内周面よりも小さな荷重で接触して且つ短軸側内周面よりも速い速度で周方向に摺動する摺動部材に関し、内周面の全周にわたって低摩擦化を図る。
【解決手段】ローターハウジング1の内周面3のCrめっき皮膜にクラックを形成し、長軸側内周面3aでは短軸側内周面3bよりも、クラック幅が大きく且つクラック数が多くなるようにする。 (もっと読む)


本発明は,表面張力を低下させ,したがってクロム析出プロセスを改良する,クロム電解質用のフッ素界面活性剤を含まない長期間安定な添加剤に関する。 (もっと読む)


【課題】
クロムめっき表面の低摩擦特性、耐摩耗性を維持しながら、防汚性、洗浄性をより向上させた金属部材、特に合成繊維の製造に用いる口金、延伸ローラ、延伸熱板、延伸ピンや糸道規制ガイド等の製糸部材を提供する。
【解決手段】
金属母材1の表面がクロム化合物で電気めっきされており、表面粗さがJIS−B0601:2001規定による算術平均粗さRaで0.3〜5μmである梨地面のクロムめっき層2を有する金属部材であって、該クロムめっき層2の表面をポリシロキサン結合(Si−O−Si)のストレートシリコン樹脂3で皮膜形成する。 (もっと読む)


【課題】Crめっき摺動部材の摩擦係数を下げる。
【解決手段】摺動部材のCrめっき層の、X線回折分析により特定される(222)面が表面側を向いた(222)配向結晶1の存在率を60%以上80%以下とし、該Crめっき層表面に形成されるCr酸化皮膜3の厚さを薄くする。 (もっと読む)


【課題】磁歪振動が抑制され騒音低減効果をもたらす磁歪特性に優れる方向性電磁鋼板を提供する。
【解決手段】まず、方向性電磁鋼板の表面にフォルステライトを主体とする無機鉱物質被膜を、さらにその上層には、平均密度が3.1g/cm3以上で平均硬度が15GPa以上の被膜を有することとする。例えば、上記上層被膜はコロイダルシリカとアルミナゾルを種々の割合で混合し、この混合物をフォルステライト被膜のある鋼板に900℃から1050℃の温度範囲で焼き付けることで形成される。 (もっと読む)


【課題】
金属母材表面に硬質クロムめっきを施すと共に、該硬質クロムめっきによって形成された硬質クロムめっき層に、微粒子ショットピーニング処理をすることにより、前記硬質クロムめっき層が保有する微細なクラックを減少、または消滅させ、本来の硬質クロムめっきではなし得なかった前記金属母材表面の低摩擦性、耐摩耗性を一層向上させた金属板およびその製造方法を提供する。
【解決する手段】
金属母材1表面に、硬質クロムめっきを施して硬質クロムめっき層2を形成すると共に、更に、該硬質クロムめっき層2に微粒子ショットピーニング処理を施すことにより、該金属母材1表面の微細なクラック3を減少、または消滅させる。 (もっと読む)


構造化硬質クロム層の製造方法を開示する。この方法によって、電解液から加工物の上にクロムを析出させる。電解液は、(a)50g/L〜600g/Lのクロム酸無水物に対応する量のCr(VI)化合物、(b)0.5g/L〜10g/Lの硫酸、(c)1g/L〜20g/Lの、1〜6個の炭素原子を有する脂肪族スルホン酸、および(d)密なカソード皮膜を形成する、10g/L〜200g/Lの少なくとも1つの化合物であって、モリブデン酸アンモニウム塩、アルカリ塩、およびアルカリ土類金属塩、バナジウム酸アンモニウム塩、アルカリ塩、およびアルカリ土類金属塩、ならびにジルコン酸アンモニウム塩、アルカリ塩、およびアルカリ土類金属塩から選択される化合物を含有する。さらに本発明は、この方法によって得られる構造化硬質クロム層およびこの方法を実行するための電解液に関する。
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本発明は構造化硬質クロム層の生成方法に関し、該方法において、クロムは電解質から被加工物上に析出され、該電解質は、a)50g/L〜300g/Lの無水クロム酸に相当する量のCr(VI)化合物と、b)0.5g/L〜10g/Lの硫酸と、c)5g/L〜15g/Lの、1〜6個の炭素原子を有する脂肪族スルホン酸とを含む。電解質は、モリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸のアルカリ金属塩、モリブデン酸のアルカリ土類金属塩、バナジウム酸アンモニウム、バナジウム酸のアルカリ金属塩、バナジウム酸のアルカリ土類金属塩、ジルコン酸アンモニウム、ジルコン酸のアルカリ金属塩およびジルコン酸のアルカリ土類金属塩より選択される化合物のいずれも実質的に含まず、12%以下のカソード電流効率で処理される。本発明は、コーティングの生成方法、構造化硬質クロム層、コーティングおよび電解質にも関する。
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網目状の微小亀裂内に硬質粒子を含有する複合クロムめっき皮膜において、上記微小亀裂の表面占有率は10〜20面積%であり、上記微小亀裂の分布密度は1,200〜2,500本/cmであり、かつ上記硬質粒子の含有量は上記皮膜全体を100質量%として1〜15質量%である複合クロムめっき皮膜。この複合クロムめっき皮膜は、耐摩耗性及び耐焼き付き性に優れ、かつ相手材攻撃性が小さい。 (もっと読む)


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