【課題】乾式下であっても、大気中において、摺動部材の摩擦係数を低減することができる組合せ摺動部材を提供する。
【解決手段】この組合せ摺動部材は、摺動面に非晶質炭素膜を形成した第一摺動部材と、該第一摺動部材の摺動面と摺動する摺動面に窒化炭素膜を形成した第二摺動部材と、を有してなる。 （もっと読む）

イオンビームスパッタリング法を用いて、表面に凹欠点を有する基板上にＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜を成膜する方法であって、前記基板をその中心軸を中心に回転させつつ、前記基板の法線と前記基板に入射するスパッタ粒子とのなす角度αの絶対値を３５°≦α≦８０°に保持してイオンビームスパッタリングを実施することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜の成膜方法。
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【課題】 イオンガンのグリッドにおける異常放電の発生を防止し、イオンガンの長時間にわたる安定動作を可能とする。
【解決手段】 真空チャンバ１１に、電圧が印加されるグリッドを放射端に具備したイオンガン１３を備え、その真空チャンバ１１内にターゲット１４と基板とを収容して、その基板上に絶縁性の薄膜を成膜するイオンビームスパッタ装置において、真空チャンバ１１内に導電性材料を加熱蒸発させる蒸発手段（蒸発源３１）と、その蒸発手段からの蒸発粒子に対してその飛散方向を限定してイオンガン１３の放射端に向く指向性を与える遮蔽手段（覆い３２）とを設ける。イオンガン１３のグリッドに導電膜を形成することができ、よって絶縁膜がグリッドに堆積付着することによって発生していた異常放電を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、成膜装置並びに成膜方法に関するものである。特に、波長１３ｎｍ帯の極端紫外線を用いたリソグラフィ用反射型マスクブランク多層膜の無欠陥成膜に用いて有用である。マスクブランク多層膜の成膜では、サイズ３０ｎｍ以上の欠陥密度零が要求され、これまでの成膜技術では達成困難であった。
【解決手段】 本発明の成膜装置は、真空容器と、この真空容器に、成膜材料源と、イオンビーム発生部と、成膜を施す基板の保持手段と、前記成膜材料源から発生する粒子の飛行速度を検出する手段とを、有する。粒子の飛行速度の計測に基づいて、形成中の膜面を、大きな粒子をエッチングするか、所望の膜を堆積するかを判定する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマビームの移動速度を効率よく高められるのみならず、作製及び構成が簡単なプラズマ加速装置及び該装置を備えるプラズマ処理システムを提供する。
【解決手段】 プラズマ加速装置は、一端部を開放する出口を有するチャンネルと、チャンネル内にガスを供給するガス供給部と、チャンネル内のガスにイオン化エネルギーを供給してプラズマビームを生成するプラズマ生成部、チャンネル内に所定の間隔を隔てて横方向に配置され、生成されたプラズマビームを電場によって出口に向かって加速する複数の格子からなるプラズマ加速部とを含む。 （もっと読む）

本発明は、基材上にホウ素から作られた少なくとも１つの薄層を真空被着するための方法であって、ホウ素に関して化学的に不活性であるか又は活性である少なくとも１種のアトマイゼーションを選び、工業規模の設備内に配置される少なくとも１つのリニアイオン源を用いて、前記アトマイゼーション種を主として含む平行イオンビームを発生させ、このビームをホウ素から作られた少なくとも１つのターゲットに向けること、前記基材の少なくとも１つの表面部分を、ターゲットのイオン衝撃によってアトマイゼーションされた物質又は当該アトマイゼーションされた物質と前記アトマイゼーション種のうちの少なくとも１種との反応の結果生ずる物質が前記表面部分に被着されるように、前記ターゲットに面して配置することを特徴とする方法に関する。
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【課題】内燃機関の燃焼ガスに曝されるチタン部品の疲労強度および衝撃強度を向上する。
【解決手段】本発明による内燃機関用チタン部品は、表面に形成されたセラミックス層７を有している。セラミックス層７は、１０ｎｍを超え７５０ｎｍ以下の厚さを有し、かつ、シリコンまたはアルミニウムを含む。 （もっと読む）

【課題】 本発明はプラズマ発生効率を向上させるようチャネルの内壁に最適の２次電子放出効果のある２次電子増幅コーティング層が備えられたプラズマ加速装置およびそれを備えるプラズマ処理システムが提供される。
【解決手段】 プラズマ加速装置は、内壁、該内壁と所定距離隔てて内壁を取り囲む外壁と、内壁と外壁の一端部をオープンする出口を形成するよう内壁と外壁の他端部を連結する端部壁を備えるチャネルと、チャネル内にガスを供給するガス供給部と、チャネル内のガスにイオン化エネルギーを供給してプラズマビームを生成し、生成されたプラズマビームを出口側に加速させるプラズマ生成／加速部と、を含み、チャネルの内壁、外壁、および端部壁の少なくとも１つの内面にはカーボンナノチューブから構成された第１層を備えるコーティング層が形成される。 （もっと読む）

【課題】成膜時にターゲットから生成されるパーティクルを抑制することが可能な露光光に対して反射に寄与するルテニウム膜成膜用スパッタリングターゲット、そのターゲットを用いたパーティクルの発生を抑制し表面欠陥の少ない多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランク及び反射型マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットの構成を実質的にルテニウム（Ｒｕ）からなり、焼結密度が９５％以上であり、酸素（Ｏ）と炭素（Ｃ）の含有量が共に２００ｐｐｍ以下とする。平均結晶粒径は５ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。このターゲットを用いて基板１上の多層反射膜２の上にルテニウム保護膜６を形成して多層反射膜付き基板３０を得る。この多層反射膜付き基板３０のルテニウム保護膜６上に吸収体膜を形成して反射型マスクブランクとする。また、この反射型マスクブランクの吸収体膜にパターンを形成して反射型マスクを得る。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンのスタンパを効率良く高精度で製造できるスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】所定の凹凸パターンの転写面１０Ａを有する原盤１０に、照射源３２から粒子を一方向に直線的に照射して膜を成膜する成膜法により、原盤１０の表面の法線Ｌｎに対して少なくとも一時的に照射方向を相対的に傾斜させ、且つ、照射源３２に対して原盤１０の姿勢を相対的に変化させつつ導電性材料の粒子を照射し、転写面１０Ａの上に導電膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた無機配向膜を提供すること、このような配向膜を効率良く製造することが可能な無機配向膜の形成方法を提供すること、前記無機配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の無機配向膜は、主として、無機材料で構成された無機配向膜であって、無機材料の比誘電率が６以上であることを特徴とする。前記無機材料は、柱状に結晶化し得るものである。主として前記無機材料で構成された、複数の柱状の結晶で構成され、前記柱状の結晶は、無機配向膜の面方向に対して所定の角度θ_ｃだけ傾斜した状態で配向したものである。前記所定の角度θ_ｃは、３０〜６０°である。無機配向膜の平均厚さは、０．０２〜０．３μｍである。 （もっと読む）

【課題】 プレスパッタ時の飛散物質が被成膜基板に付着しないようにする。
【解決手段】 ターゲットホルダ１５に固定されたターゲット２１に成膜用イオンガン１２からイオンビーム３１を照射してスパッタリングし、そのスパッタ粒子によって基板２２上に成膜を行うイオンビームスパッタ装置において、ターゲット表面の向きを成膜時の状態から反転させることを可能とすべく、ターゲットホルダ１５に設けられた回動機構と、その回動機構の回動軸４３に対し、成膜用イオンガン１２の照射軸と対称な方位に照射軸が位置するように配置されたプレスパッタ用イオンガン４１と、反転されたターゲット表面を囲繞し、その反転状態のターゲット表面にプレスパッタ用イオンガン４１からイオンビーム５１が照射されてスパッタリングされた粒子の飛散を阻止する遮蔽板４２とを備える。 （もっと読む）

本発明は、チタン酸化物被膜の製造方法、及びこの被膜を有する物品、特にランプ、照明手段又は光学素子に関するものである。ルチルによるコーティングが極めて簡単になる一般化した方法を開発し、より低い処理温度でコーティングしうるようにし、且つこのようなコーティングに適した表面を見いだすために、本発明は、ルチル構造が得られるように、コーティングすべき基板の表面上に、スパッタリングにより、規定可能な酸素分圧ｐで１００〜３００℃の堆積温度でチタンターゲットから被膜を堆積することを提案する。
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【課題】液晶材料等の有機材料の分解劣化等を生じさせ難い無機配向膜を提供すること、当該無機配向膜を確実に形成することができる無機配向膜の形成方法を提供すること、前記無機配向膜を備える信頼性の高い電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の無機配向膜の形成方法は、イオンビーム源Ｓ１からのイオンビームをターゲット５００に向けて照射することにより、スパッタ粒子を引き出し、前記スパッタ粒子を基材１００上に入射させ、酸化物で構成された無機配向膜を形成する方法であって、ターゲットとして酸化物で構成されたものを用いるとともに、イオンビーム源に酸素を含むガスＳ１３を導入して酸素のイオンを発生させ、当該酸素のイオンを含むイオンビームを照射することを特徴とする。 （もっと読む）

非常に高い堆積レートで、二軸配向フィルムを連続的に移動する金属テープ基板上に堆積する方法が開示される。これらの方法は、フィルムを基板上に、基板法線から約５°から約８０°の斜め入射角を持つ堆積フラックスで堆積し、同時に、該堆積フィルムを該フィルムの最良イオン配向方向または第２の最良イオン配向方向のいずれかに沿って設けられたイオンビーム入射角でイオンビームを使って照射し、それにより二軸配向フィルムを形成することを含み、堆積フラックス入射面は二軸配向フィルムが早い面内成長速度を持つ方向に沿って平行に設けられる。基板、前記方法で前記基板上に堆積された二軸配向フィルム、及び二軸配向フィルム上に堆積された超伝導層を含む超伝導物品が同様に開示される。
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【課題】
表面粗度が細かくサイズを大きくすることを可能とする回折格子の製作方法を提供する。
【解決手段】
イオンビームを照射するイオン源４とイオンが照射されてスパッタリングされるターゲット材２とターゲット材２から叩き出された原子が堆積する基板１が設置され、ターゲット材２と基板１の間にはマスク３が配設されている。ターゲット材２には二酸化珪素材が使用される。マスク３は基板１より一回り大きく製作され、表面には格子状に透過部であるスリット１６が設けられている。スリット１６は回折格子の溝数に合わせて加工される。マスク３は上下に可動可能にガイド棒ホルダー１２に固定されたガイド棒６に挿入されたマスクホルダー７に取り付けられている。マスクホルダー７の右端はネジ棒９と螺合するボールネジ可動部８と一体にされており、ネジ棒９はモータホルダー１１に固定されたパルスモータ１０と連結されている。 （もっと読む）

【課題】 ナノ狭窄スペーサを有する磁気抵抗（ＭＲ）センサのスピンバルブ内に使用する薄膜の生成方法を提供する。
【解決手段】 スピンバルブのボトムをピン層まで蒸着し、蒸着室を用意し、スペーサ層をその上にスパッタリングする。主イオンビームが磁性チップと絶縁材を含む合成面上にイオンを生成する。同時に、支援イオンビームが基板に直接イオンを供給し、かくしてスペーサ層の柔軟度と平滑度を改善する。中和器もまた配設し、イオン反発を防止し、イオンビーム合焦を改善する。その結果、薄膜スペーサを形成することができ、低保磁力とフリー層とピン層の間の低層間結合とを有するナノ狭窄ＭＲスピンバルブが形成される。 （もっと読む）

【課題】
所望の多層膜周期長を有する多層膜反射鏡、その製造装置（成膜装置）等を提供すること。
【解決手段】
膜厚補正板の厚さをｄ、傾斜角をθとする場合、開口部内側面の遮蔽部としての寄与はｄ×ｓｉｎθである。厚さを０．５ｍｍとすると、膜厚補正板を３０°傾斜させた場合、膜厚補正板を傾けない場合に比べて開口率は約７１％に減少する。膜厚補正板の一部削って厚さを０．４ｍｍに減少させると、膜厚補正板を傾けない場合と比べた開口率の減少幅は縮小し、開口率は約７７％に縮小する。そこで、中央部分の厚さが０．５ｍｍであり、周辺部に向かって板の厚さが徐々に減少し、最周辺部で０．４ｍｍであった場合、この膜厚補正板を３０°傾けて配置して成膜を行えば、周辺部の開口率が周辺部に比べて約８％大きい状態で成膜を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。
【解決手段】 被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】
反射率の低下が小さい多層膜反射鏡、その製造装置（成膜装置）等を提供すること。
【解決手段】
イオントラップ９は、側壁に波板状の散乱板１１を有するとともに、開口部１０を有する箱状のものである。標的材料６の表面で散乱したイオン１４ａ、１４ｂはイオントラップ９の散乱板１１に入射する。イオントラップ９の散乱板１１は波板状となっているので、散乱板１１に入射するイオンの一部はその入射角が浅くなり、散乱板１１はスパッタされにくくなる。一方、散乱板１１に対する入射角が深いイオンは散乱板１１をスパッタするが、イオントラップ９の基板５の方向は閉じていて、スパッタされた粒子は基板５の方向には飛散しないため、基板５に成膜される多層膜中に取り込まれることはない。 （もっと読む）