【課題】
バリア性と透明性に優れ、内容物の直接接触によるバリア性の低下が発生しにくいプラスチック製容器を提供すること。
【解決手段】
少なくとも、プラスチック製容器の内面に無機酸化物膜をプラズマＣＶＤ法により形成して、その無機酸化物膜に、電子密度が１×１０^１４ｍ^−３から１×１０^１８ｍ^−３である水素プラズマ処理をすることにより、イオンを含む内容物を充填しても、長期間ハイバリア性を保持できる包装体を得ることを可能とした。 （もっと読む）

【課題】 一定の肉厚を有するＳｉＣ部材を製造することができると共に、異なる肉厚を有するＳｉＣ部材を同時に製造でき、更に原料効率の良い、ＳｉＣ部材の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】 有底中空形状に炭素材で形成された内側ケース２と、前記内側ケース２を覆う外側ケース３と、前記外側ケース３の外周囲に配置され、前記内側ケース２及び外側ケース３を加熱する加熱手段４と、前記内側ケース２にＳｉＣ膜を析出させるための原料を供給する原料供給パイプ５とを少なくとも備えるＳｉＣ部材の製造装置であって、前記内側ケース２の側壁に所定の間隔をもって複数の開穴２ａが形成されると共に、原料供給パイプ５を内側ケース２の内側に配置し、前記内側ケース２の内底面にＳｉＣ膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】バリアー性、透明性、対衝撃性、フレキシビリティーに優れたガスバリアー性プラスチック容器とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、容器の内面にバリアー層を有し、該バリアー層は珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種あるいは２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類含有し、前記バリアー層中の前記化合物濃度を、前記容器を構成する基材の界面からバリアー層表面への深さ方向において、連続的に変化させてなる。 （もっと読む）

【課題】蒸着成分の付着による目詰まりを生じにくく、しかも付着した蒸着成分の剥がれが有効に抑制され、長期間にわたって安定に均一なガス供給を行うことが可能なプラズマ処理用のガス供給管を提供する。
【解決手段】プラズマ処理室内に保持された容器の内部に挿入され、該容器内にプラズマ処理用ガスを供給するためのガス供給管において、軸方向にガス流路が延びており且つ管壁の少なくとも表面部が多孔質体で形成されており、該管壁には、軸方向或いは周方向に適当な間隔を置いて、径が０．２ｍｍ以上のガス吹き出し孔が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

加工物（１０）の局部又は部分の内面をコーティングするための方法及びシステムを提供する。伝導性のある構造体（１２及び１４）が，加工物の１つ又は複数の開口部に挿入され，コーティングする部分を規定する。実施態様によっては，バイアス電圧（３２）は加工物の部分に接続され，カソードとして機能する。ガス源（１８）及び真空源（２２）は，流れ制御システム（４８及び５０）を通してそれぞれ伝導性のある構造体に接続される。流れ制御システムは，第１の開口部をガスの導入口として機能させ，第２の開口部を真空の排出口として機能させることを可能にする。伝導性のある構造体によって取り囲まれる部分だけが，コーティングされる。コーティング工程が完了すると，伝導性のある構造体を長さに沿って変化させる手段が用いられ，次にコーティングされる部分まで移動する。
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加工物（１０）の内面をコーティングするための方法及びシステムを示している。バイアス電圧（１２）は，カソードとして機能する加工物に接続されている。ガス源（３４）及び真空源（４４）は，流れ制御システムを通して各開口部に取り付けられてある。前記流れ制御システムは，第１の開口部がガスの入口として機能すること及び第２の開口部が真空排気として機能することが可能な，第１のモード（１１０及び１１２）を有する。流れ制御システムは，第２のモード（１１４）も有し，第１の開口部が真空排気として機能すること及び第２の開口部がガスの入口として機能することが可能である。サイクルは，単一の開口部を有する加工物の内面のコーティングのためにも用いることもできる。第１のモードと第２のモードの間の流れ制御システムのサイクルは，加工物の内面に沿って均一なコーティングを達成するまで行う。
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【課題】炭素膜の着色が低減され、より透明性の高いガスバリヤ性を有する炭素膜形成装置及び内面炭素膜被覆容器の製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物である容器Ｂが挿入された時にその容器の外周を取り囲む大きさを有する外部電極６と、前記容器Ｂの口部が位置する側の前記外部電極６の端面に筒状誘電体部材８を介して取り付けられたガス排気管１０と、前記外部電極６内の前記容器Ｂ内に前記ガス排気管１０側から挿入され、接地側に接続される内部電極１８と、前記ガス排気管１０に取り付けられた排気手段と、前記内部電極１８に媒質ガスを供給するためのガス供給手段と、前記外部電極６に接続された高周波電源１３と、を具備し、前記外部電極６は、アースとの間をコイル２１で直流的に短絡してなる。 （もっと読む）

【課題】 プラズマが着火した直後において発生し得る，負荷インピーダンスの急変に起因するプラズマの消失を回避するためのインピーダンス制御を実現する。
【解決手段】 本発明による成膜装置は，高周波電源９と，整合回路２３と，その整合回路を介して高周波電源９から電力を受け取り，その電力によって成膜対象である樹脂ボトル２を収容する成膜室１１の内部でプラズマを発生させる外部電極５と，整合回路２３のインピーダンスを制御するための制御部２６とを具備する。制御部２６は、高周波電源９が外部電極５に電力を供給し始めた第１時刻ｔ_１から始まる第１期間において整合回路２３のインピーダンスを一定に保ち、第１期間が終了する第２時刻ｔ_２から始まる第２期間において、外部電極５からの反射波電力に応答して整合回路２３のインピーダンスを制御する。 （もっと読む）

【課題】 簡単かつ安価に、しかも内径の小さい被処理物に内面コーティングを行う。
【解決手段】 真空槽１２内に被処理物としてのパイプ３０，３０，…をセットした後、当該真空槽１２内を排気する。そして、この排気後、放電用ガスとしてのアルゴンガスを真空槽１２内に導入すると共に、パルス電源装置４２から各パイプ３０，３０，…に非対称パルス電力を供給する。これによって、真空槽１２内にプラズマが発生すると共に、各パイプ３０，３０，…内にホロー放電が生じる。そして、真空ポンプ１６によって真空槽１２内の圧力を制御することで、当該ホロー放電を安定化させる。この状態で、真空槽１２内にアセチレンガス等の材料ガスが導入されると、各パイプ３０，３０，…の内面に、当該材料ガスに従う被膜が形成される。つまり、ホロー放電を積極的に利用することで、内面コーティングを実現する。 （もっと読む）

緻密化のための１つ以上の多孔質基材（１０）がオーブン内に入れられ、そこに、少なくとも１種の気体の炭化水素Ｃ_xＨ_y（ここで、ｘおよびｙは整数であり、ｘは１＜ｘ＜６を満たす）を含む熱分解炭素前駆体ガスが、メタン及び不活性ガスから選択される少なくとも１種のガスを含むキャリヤーガスと共に入れられる。入れられたガスの残留成分と共に、水素を含んだ反応生成物を含有した排ガスがオーブンから取り出され、排ガスから取り出され且つ熱分解炭素前駆体試薬ガスを含有したガス流の少なくとも一部が、オーブン内に入れられる反応ガスへと再循環される（回路８０）。再循環は、排ガスに含有された重質炭化水素の除去（処理４０）の後に実施される。 （もっと読む）

【課題】基材に対して第２相をより確実に付与するための方法とそれによって得られる複合材料を提供する。
【解決手段】反応系内に有機金属錯体、金属アルコキシド及び金属ハロゲン化物の少なくとも１種の化合物又はこれを加熱して得られるガスの存在下で基材を熱処理することにより、前記基材の表面に金属、合金及び無機化合物の少なくとも１種を含む粒子又は皮膜を形成することを特徴とする複合材料の製造方法及びそれにより得られる複合材料に係る。 （もっと読む）

【課題】アモルファスカーボンと基材との密着力が向上すると共に、ガスバリヤ性を付与するアモルファスカーボン膜被覆基材及びアモルファスカーボン膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明にかかるアモルファスカーボン膜被覆基材２０は、基材２１の表面に減圧下で放電プラズマによりアモルファスカーボン膜２２を成膜してなるアモルファスカーボン膜被覆基材であって、前記基材２１とアモルファスカーボン膜２２との界面に、酸素、窒素のいずれか一方又は両方を有する活性処理層である活性処理層２３を含むものである。 （もっと読む）

処理対象の表面に均一な薄膜層を形成でき、しかも、短時間に処理することができるマイクロ波プラズマ処理方法を提供する。プラズマ処理室１にマイクロ波を導入し、処理用ガスをプラズマ化することにより、前記プラズマ処理室内１に配置した基体１３に薄膜層を形成するマイクロ波プラズマ処理方法において、前記基体１３をプラズマ処理室１の中心軸と同軸上に固定し、前記プラズマ処理室内のマイクロ波の定在波モードを、前記基体の口部１３１から胴部１３３までは、ＴＥモード又はＴＥＭモードとし、前記基体の底部１３２は、ＴＥモードとＴＭモードが共在するモードとしたマイクロ波プラズマ処理方法としてある。
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【課題】
本発明の目的は、ガスバリア膜によってガスバリア性を付与しつつ、容器口部周辺の内壁での着色の過多を緩和し、またプラズマ集中によるボトルの熱変形を防止し、さらにはボトル口部に挿入する物体への炭素系異物の付着を低減することができるプラズマＣＶＤ成膜装置及び容器口部周辺の内壁での着色の過多を緩和したガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明に係るプラズマＣＶＤ成膜装置は、プラスチック容器の内表面にガスバリア膜を成膜するプラズマＣＶＤ成膜装置であり、プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置され、プラスチック容器の内部ガスを排気する排気管と、プラスチック容器の内部へ原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、プラスチック容器の内部に供給された前記原料ガスをプラズマ化させるプラズマ発生手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 プラスチック製容器の開口部の熱変形や穿孔を防ぎつつ、その開口部内面にも薄膜を形成可能とする。
【解決手段】 マイクロ波ＭＷにより反応ガスをプラズマ化してプラスチック製容器Ａの内面に薄膜を形成するマイクロ波処理装置１０において、プラスチック製容器Ａの開口部の内面近傍にマイクロ波ＭＷを遮蔽するためのマイクロ波遮蔽体１４を備える。プラスチック製容器Ａの開口部内面とマイクロ波遮蔽体１４との間には、反応ガスを通すための流路となる空間を設ける。さらに、マイクロ波遮蔽体１４には、反応ガスを通すための貫通孔１４−１あるいは網目部１４−２を設ける。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、容器の着色の低減ないし容器口部周辺の内壁での着色の過多を緩和することが可能な炭素膜コーティングプラスチック容器の製造方法及びプラズマＣＶＤ成膜装置を提供することである。さらに着色の少ない容器を提供することである。
【解決手段】
本発明に係る炭素膜コーティングプラスチック容器の製造方法は、プラスチック容器の内部に炭化水素系の原料ガスを供給し、この原料ガスをプラズマ化してプラスチック容器の内表面に炭素膜を成膜して炭素膜コーティングプラスチック容器を得る製造方法であり、原料ガスとして、水素ガス、珪化炭化水素ガス又は珪化水素ガスの少なくともいずれか一種が炭化水素ガスに添加された混合ガスを使用し、この混合ガスをプラスチック容器の内部にて吹き出させる。本発明に係るプラズマＣＶＤ成膜装置は、添加ガス系統を有している。 （もっと読む）

本発明のプラスチック容器の化学プラズマ処理方法は、プラズマ処理室内にプラズマ処理用ガス及びマイクロ波等のプラズマ化のためのエネルギーを供給してグロー放電を生じさせ、プラスチック容器に化学蒸着膜を形成する際に、該プラスチック容器を冷却することを特徴とする。この方法によれば、プラスチック容器の変形が有効に抑制され、長期間にわたって継続してプラスチック容器内面への化学蒸着膜を形成することでき、生産性を著しく高めることができる。
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【課題】本発明は、３次元中空容器のマイクロ波プラズを用いた内面成膜において、マイクロ波の導入手段を備えた３次元中空容器の薄膜成膜装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波エネルギーを封じ込める円筒型金属製容器と、該円筒型金属製容器内に成膜対象物である中空容器を収納する非金属製の真空チャンバーとを備え、前記中空容器内に原料ガスを注入する原料ガス導入管が配置され、該中空容器内に原料ガスを導入して、該中空容器内面にプラズマＣＶＤ法により薄膜を成膜する３次元中空容器の薄膜成膜装置において、前記非金属製真空チャンバーを覆い被せるように円筒型金属体が配置され、該円筒型金属体の側面には内側にある前記真空チャンバー部へマイクロ波エネルギーを侵入させるための少なくとも一つ以上の開口部を有する円筒型金属体を配置したことを特徴とする３次元中空容器の薄膜成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】バリヤ効果を高めた既知の容器で生じる問題を解決し、経済的条件下であまり複雑でない手段を用いて、内容物を効果的に保護しながら製造しやすい容器を提案する。
【解決手段】本発明は、高真空を発生させたチャンバ内に、基板を形成するポリマー材料からなる容器ブランク１８を導入するステップと、非常に低い圧力下で気相状態のものであって、アルカン、アルケン、アルキン、芳香族化合物等から選択された少なくとも１つの炭素前駆体を反応チャンバ内に注入するステップと、ガラス転移温度よりも低い温度でポリマーを維持し、ポリマー傾向を有する過度に水素と化合させた炭素材料を堆積させる温度条件下で、プラズマを発生させる比較的低い電力で、ＵＨＦ帯域のマイクロ波電磁励起を反応チャンバ内に発生させるステップとからなる方法に関する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波の導入口に近い位置での強いプラズマと、マイクロ波導入口から遠い位置での弱いプラズマとによる被処理物に対する成膜処理の不均一を解消する。
【解決手段】円筒型空洞共振器１内のほぼ中心に被処理物３を装填する円筒型真空チャンバー２と、該円筒型空洞共振器１の側壁部に前記チャンバー２の外側から該チャンバー２内に装填された被処理物３に対してマイクロ波エネルギーｗを導入してプラズマを発生させるマイクロ波導波管７及びマイクロ波導入口８と、該チャンバー２内に装填された被処理物３の内面又は／及び外面とに成膜用原料ガスｇを導入する原料ガス導入管６を備え、該真空チャンバー２内にて前記被処理物３を該真空チャンバー２の筒中心線を回転軸として回転運動させる回転手段４を備える。 （もっと読む）