【課題】本発明は、２次平面あるいは３次曲面に成膜をする真空装置のうち圧力が１００Ｐａから０．１Ｐａの中真空と呼ばれる領域で成膜する装置において、成膜安定性を向上させる成膜圧力を調整可能な成膜方法を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマＣＶＤ法でプラスチック容器内面に酸化珪素皮膜を形成する真空成膜技術において、成膜ガスとは別種のガスを、成膜ガスの流量変化に応じて流量を調整しながら容器外部に放出することを特徴とする成膜圧力を調整可能な成膜方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、成膜時にプラズマ化されたガスの汚れ等でガス供給管の孔がつまることなく中空容器の表面に均一な膜を成膜するプラズマ成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】マイクロ波エネルギーにより原料ガスをプラズマ化し、中空容器８の表面に薄膜を成膜するプラズマ成膜装置であり、原料ガスを注入するガス供給管５の先端のガス孔角度が中空容器８の底面部位に対して水平方向から３０〜６０°方向に設けられていること、および前記ガス供給管５が周方向に均等に孔を配置し、これが円筒軸に平行に均等の間隔を有しながら周方向に配置された場合、該ガス供給管５の先端の孔径が同径であることを特徴とするプラズマ成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマＣＶＤ法により薄膜を成膜する３次元中空容器の薄膜成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】円筒型金属製容器１と成膜対象物である３次元中空容器３を収納し、該中空容器３内に金属製原料ガス導入管４が該円筒型金属製容器１の中心軸上に配置され、排気口５と円筒型樹脂製容器２が具備され、該円筒型金属製容器１の天面からマイクロ波エネルギーを注入する手段として該金属製ガス導入管４との兼用を可能とする中心導体４を具備し、さらに該マイクロ波エネルギーによる共振状態を調整するための金属製原料ガス導入管４と同軸線上下部に位置する中心導体Ｂ８を該円筒型金属製容器１の底面に具備し、マイクロ波エネルギーによって得られるプラズマＣＶＤ法により薄膜を成膜することを特徴とする３次元中空容器の薄膜成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】中間層に存在する欠陥に起因するピンホールの発生を抑制し、これにより、大型化しても透過係数比が高い優れた品質のガス分離用のセラミック膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明のガス分離用セラミック膜の製造方法は、気化有機ケイ素化合物含有ガスである材料ガスを、基材のガス分離膜を形成する側に供給し、基材の材料ガスを供給する側の反対側に対向ガスを供給して、該基材の材料ガスが供給された表面上にて基材上に酸化ケイ素からなるガス分離膜を形成させるガス分離用セラミック膜の製造方法において、該材料ガスを加熱および加圧しながら該基材表面上に供給することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラスチックや紙を原料としたプラスチックボトルや紙容器等の３次元中空容器の表面にマイクロ波プラズマＣＶＤコーティングを行うプラズマを使用した容器処理装置に関する。
【解決手段】
マイクロ波を供給するための導波管（１）の導体面に１つ以上のプラズマ処理を行うための金属空洞筐体（２）を有し、その側面が電気的に接合され、各々の接合面に空けられたスリット（３）により金属空洞筐体（２）と導波管（１）の電磁界エネルギーが結合するプラズマを使用した容器処理装置であって、前記接合面に穿設されたスリット部分にマイクロ波の結合を調整する為の空間部（４）を備えた事を特徴とするプラズマを使用した容器処理装置である。 （もっと読む）

【課題】プラスチックや紙を原料としたプラスチックボトルや紙容器等の３次元中空容器の表面にマイクロ波プラズマＣＶＤコーティングを行うプラズマを使用した容器処理装置に関する。
【解決手段】
プラズマ処理を行うための金属空洞筐体（１）の側面にマイクロ波を供給するための導波管（２）の導体面が接合されているプラズマを使用した容器処理装置であって、前記接合面に穿設された少なくとも２つ以上のスリットにより金属空洞筐体（１）と導波管（２）の電磁界エネルギーが結合する事を特徴とするプラズマを使用した容器処理装置である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマＣＶＤ法により第１、２の円筒型容器に同時におおよそ同レベルのマイクロ波エネルギーが供給されることで薄膜を成膜することを特徴とする２分岐導波管を有するプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】円筒型容器７−２と、マイクロ波エネルギーを注入するアンテナ７−４と、ガス供給管７−５とを有し、前記円筒型容器７−２全体が一体の空洞共振器（同軸共振器）７−１となるものが２個以上存在し、前記円筒型容器７−２に各々マイクロ波エネルギーを注入する２個以上の導波管６と２個以上のチューナ５が設けられ、これらの２個以上の円筒型容器７−２各々にマイクロ波エネルギーの供給方向を一定にしてエネルギー分岐を実現させたサーキュレータ３とアイソレータ２で構成されたことを特徴とする２分岐導波管を有するプラズマ処理装置である。 （もっと読む）

【課題】 不安定な陽極グローの発生によって、真空槽内の構成要素が損傷したり、被膜の品質が不安定になったりするのを、防止する。
【解決手段】 この発明に係るプラズマＣＶＤ装置１０によれば、真空槽１０内に適宜のガスが導入された状態で、被処理物であるパイプ２０，２０，…に接地電位を基準とする非対称パルス電力Ｗｐが供給されると、真空槽１０内にプラズマが発生する。このとき、接地電位に接続された真空槽１０が陽極として作用するため、当該真空槽１０内に陽極グローが発生する。ただし、真空槽１０内には、当該真空槽１０よりも高電位とされた高融点金属製の補助アノード４０が設けられているので、陽極グローはこの補助アノード４０に集中する。つまり、陽極グローの発生位置が、補助アノード４０に固定される。これによって、陽極グローが安定化され、当該陽極グローによる影響が排除される。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、一つのマイクロ波電源から複数の空洞共振器へマイクロ波エネルギーを供給する装置であって、プラズマ処理時間が短く、常に安定した成膜対象物へのマイクロ波電力注入が可能であるプラズマ処理装置を提供するものである。
【解決手段】請求項１に記載の発明は、マイクロ波エネルギーにより原料ガスをプラズマ化し、中空容器の表面に薄膜を成膜するプラズマ処理装置において、マイクロ波の干渉を防止するための少なくとも１つ以上のアイソレータと、該アイソレータを制御する為の少なくとも１つ以上の外部磁気制御手段を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置である。 （もっと読む）

【課題】筒型基材のプラズマ表面処理において、より均質性に優れたプラズマ処理を可能とする装置および表面処理筒型基材の製造方法を提供する。
【解決手段】同軸上に配置された筒型基材３の外側の電極１と、該外側の電極１と筒型基材３を介して対向するように配置された内側の電極２とを有する同軸型のプラズマ表面処理装置において、プラズマ表面処理側の電極に、軸方向にガスが流動できる溝を設ける。 （もっと読む）

ガス貯蔵コンテナーの内部にコーティングする方法であって、上記方法は化学蒸着のための前駆物質を上記貯蔵コンテナーに供給する工程、および金属コーティングを上記コンテナーの内部表面上に形成する工程を含み、上記コーティングは化学蒸着のための前駆物質より形成される、方法。また、内部表面を有するガス貯蔵容器を含むガス貯蔵コンテナーであって、上記貯蔵容器の上記内部表面上に形成されたライナーを有する、ガス貯蔵コンテナー。上記ライナーは約９９重量％またはそれ以上の純度のタングステン金属を含み得る。さらに、化学蒸着前駆物質発生器および上記前駆物質をガス貯蔵コンテナー中に輸送するための前駆物質注入アセンブリを含み得る金属ライニングされたガス貯蔵コンテナーを作製するためのシステム。上記システムは、上記ガス貯蔵容器からガス状の蒸着生成物を除くための排気出口も含み得る。
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【課題】本発明の目的は、プラズマの発生が反応室の内部、すなわちプラスチック容器の内部のみで起こるように、排気室又はそれ以降の排気経路でのプラズマの発生を抑制し、同時にプラズマを安定して着火させることである。さらに、装置寿命の短縮の防止、インピーダンスの急激な変化に起因する不良ボトルの偶発の防止及び容器主軸方向に対してガスバリア薄膜の膜厚の均一化を図ることである。
【解決手段】本発明に係るプラズマＣＶＤ成膜装置は、反応室３に周波数１００ｋＨｚ〜３ＭＨｚの低周波電力を供給し、且つ、プラスチック容器８の内部にスパーク発生部４０を有するプラズマ着火手段と配置する。このとき、プラスチック容器８と反応室３の内部空間３０との合成静電容量をＣ_１とし、絶縁体スペーサー４と排気室５の内部空間３１との合成静電容量をＣ_２としたとき、Ｃ_１＞Ｃ_２の関係が成立する。 （もっと読む）

【課題】簡単な装置構成でプラズマ処理を行なうことができる、プラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】第１のステップにおいて、電圧を印加するＨＯＴ電極２２の表面を覆う誘電体２４に対向して、導電性を有する被処理物１０を配置する。第２のステップにおいて、誘電体２４と被処理物１０との間２５に処理ガスを供給する。第３のステップにおいて、ＨＯＴ電極２２に電圧を印加してＨＯＴ電極２２と被処理物１０との間２５で放電を発生させ、放電によりプラズマ化した処理ガスを被処理物１０の表面１１に接触させて、被処理物１０の表面１１をプラズマ処理する。 （もっと読む）

【課題】複数の容器を連続して成膜する際に、プラズマ放電の着火のタイミングを合わせ、良好な成膜が可能となるバリヤ膜形成装置を提供する。
【解決手段】容器を取り囲む大きさの空洞を有する外部電極と、容器内部を排気管を介して減圧する排気手段と、容器内に、排気管側から挿入されバリヤ膜生成用の媒質ガスを吹き出すためのガス吹出し孔と、外部電極と接地電極である内部電極間に電界を付与するための高周波電源と整合器とからなる電界付与手段とを具備してなるバリヤ膜形成装置であって、高周波電源からの電力を複数の外部電極へ供給する同軸線路６２の電力分岐部６１と、複数の外部電極への各電力接続部６３との線路長Ｌは、全て同じ長さであると共に、電気長（Ｌ／λｇ）は、略（Ｎ／４）の関係（ここで、λｇは線路内伝搬波長であり、Ｎ＝２ｎ又はＮ＝２ｎ＋１、ｎは整数である。）を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、排気室でのプラズマの発生を抑制することで、容器の主軸方向に対してガスバリア薄膜の膜厚の均一化を図り、また、排気室及び排気経路での各部品の劣化を生じにくくすることである。
【解決手段】本発明に係る反応室外でのプラズマ発生の抑制方法は、プラスチック容器８と反応室３の内部空間３０との合成静電容量Ｃ_１のインピーダンスＡと絶縁体スペーサー４と排気室５の内部空間３１との合成静電容量Ｃ_２のインピーダンスＢのうち、インピーダンスＢを、インピーダンスＡを基準として相対的に高めて、排気室５におけるプラズマの発生を抑制することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、ポリマー材料上に膜を付着させるための所定の先駆物質から発生させられるプラズマの組成を監視する方法に監視する。この方法は、プラズマによって発光された光の強度を受け取ることを含み、寄生化学種、すなわち、所定の先駆物質の一部ではなく、通常プラズマ中に存在せず、プラズマ中に存在すると付着させた膜の性質に影響を与える寄生化学種の有意の信号が存在できないプラズマ発光スペクトル領域内で選択される第１の基準波長範囲を選択するステップと、寄生化学種の有意の信号が存在する可能性が高いプラズマ発光スペクトル領域内で選択される第２の波長範囲を選択するステップと、選択された２つの波長範囲のそれぞれにおいてプラズマによって発光される選択された２つの波長範囲のそれぞれにおいてプラズマによって発光される光の強度を同時に取得するステップと、これらの光の強度に基づいて少なくとも１つの監視係数を算出するステップとを含む。
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本発明は、容器（２）の内壁にバリヤ材料からなる薄膜をプラズマ蒸着する装置（１）に関する。この装置（１）は、電磁波発生器（３）と、電磁波発生器（３）に接続され、導電性材料で作られているキャビティ（５）と、キャビティ（５）内に配置され、電磁波発生器（３）からの電磁波を透過させる材料で作られているチャンバ（６）と、を有している。この装置（１）は、チャンバ（６）の冷却手段（１４、１５；１６）を備えていることを特徴としている。
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【課題】 上記従来の技術が有する問題点を解決し、外層中の環状３量体含有量が低減されているために同一の加熱延伸金型を用いて多数のボトル成形を続ける長時間の連続運転でもボトルの透明性が維持され、また、フレーバー性、バリア性も向上した多層延伸成形体を与える多層成形体およびそれからの多層延伸成形体ならびに多層成形体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、溶融重縮合反応後の溶融物から得られる熱可塑性ポリエステル（Ａ）層と、環状３量体含有量が８０００ｐｐｍ以下の熱可塑性ポリエステル（Ｂ）層とを含む多層成形体であり、内容物接触面にプラズマＣＶＤ法によって形成される蒸着膜が積層されていることを特徴とする多層成形体。 （もっと読む）

【課題】底部に凹状空間を有する容器の内面にバリヤ膜を処理する際、その設置が容易な容器の内面へのバリヤ膜形成装置を提供する。
【解決手段】容器を取り囲む大きさの空洞１２を有する有底の外部電極１５と、前記容器底部の内側面と前記外部電極底部の外側面の間に介装された電界調節部材１６と、前記容器と花びら状の電界調節部材１６とをマッチングさせるマッチング手段である空気供給部１７と、前記容器の口部が位置する側の前記外部電極１５の端面に絶縁部材１８を介して取り付けられ、容器内部を排気管１４を介して減圧する排気手段と、前記外部電極１５内の前記容器内に、前記排気管１４側から挿入され、バリヤ膜生成用の媒質ガスＧを吹き出すためのガス流路１９ａを有するガス吹出し部１９と、前記外部電極１５と接地電極間である内部電極２０に電界を付与するための整合器２１ａ及び高周波電源２１ｂからなる電界付与手段２１とを具備してなる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、水性物質を内容物とした時でも、常に高いガスバリア性を保持し続け、耐久性に優れた無機膜を内面に形成したプラスチックボトルおよびその製造方法を提供するものである。
【解決手段】
容器の外面から内面へ、基材、無機膜、無機膜保護樹脂の順序で積層されたことを特徴とする成膜容器。
前記無機膜がケイ素酸化物、炭素からなることを特徴とする成膜容器。
前記無機膜保護樹脂が、ポリエチレンまたはポリプロピレンであることを特徴とする成膜容器。
前記基材に前記無機膜をプラズマＣＶＤ法により成膜する工程、該無機膜上に前記無機膜保護樹脂を、該無機膜保護樹脂のパリソンをブロー成型して形成する工程を有することを特徴とする成膜容器の製造方法。 （もっと読む）