化学蒸着（ＣＶＤ）によって形状記憶または超弾性薄膜を堆積する方法、ならびにステント、移植片、ステント移植片、ステントカバー、閉塞およびフィルタメンブレン、および薬物送達デバイスを含めた、それによって作製される医療デバイス。この方法は、ニッケルチタン形状記憶または超弾性合金の被膜の製造時にＣＶＤ反応を使用して基板表面上に薄膜が堆積されることを含む。そのようなニッケルチタンベースの形状記憶または超弾性合金は、二元ニッケルチタン合金であってよく、または三元、四元、もしくはそれよりも高いレベルの合金を形成するために追加の化合物を含んでいてもよい。
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【課題】酸素に鋭敏な飲料や発泡飲料の容器として適するプラスチック容器及びこのようなプラスチック容器を製造することができる製造装置を提供する。
【解決手段】膜厚が５０〜４００ÅのＤＬＣ膜をプラスチック容器の内壁面に形成する。ＤＬＣ膜は、プラスチック容器５の外側に配置された外電極と、プラスチック容器５の内側に配置された内電極１１と、減圧されたプラスチック容器の内側に炭素源の原料ガスを供給する管路１２と、原料ガスの供給後、外電極および内電極の間に電圧を印加してプラズマを発生させることによりプラスチック容器の内壁面に硬質炭素膜を形成する高周波発振器９と、を備え、外電極は、プラスチック容器の底部に沿って配置される底部電極４と、プラスチック容器の胴部に沿って配置される胴部電極３と、を備えるとともに、底部電極の上端はプラスチック容器の上下端の中央位置よりも下方に位置付けられた製造装置を用いて形成できる。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で、酸素等に対する高いガスバリア性を維持しつつ、水蒸気バリア性の向上が図られた合成樹脂製容器を提供する。
【解決手段】本発明は、PET樹脂からなる容器本体を構成する壁部1の内側表面に、有機系珪素化合物ガスと、酸素ガスとを原料として、プラズマCVD法により、珪素、酸素及び炭素の組成比(atom％)のうち、酸素の組成比が50(atom％)以上、且つ、炭素の組成比が3(atom％)以上、20(atom％)以下の珪素酸化物を含むバリア性膜2を成膜したPETボトルであり、好ましくは、バリア性膜2の炭素組成比を8(atom％)以下とする。 （もっと読む）

本発明は、加工物、特に中空体加工物のプラズマ処理の方法に関する。この方法によれば、反応室内で処理区域が少なくとも部分的に排気され、処理区域内、特に加工物の中空体内にプロセスガスが導入され、放射される電磁エネルギーを用いて処理区域に導入されたプロセスガスでプラズマが点火される。本発明は、プラズマ処理中に、処理区域の両端間を通ってプロセスガスが流れることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、プラズマＣＶＤ法によりプラスチック製容器の内面にガスバリア性を保持する蒸着膜を成膜する際に、原料ガス導入管への成膜を無くした成膜容器の製造方法およびその製造装置を提供するものである。
【解決手段】
容器を収容する空所を取り囲む様に電極を形成した成膜装置の、前記空所内に前記容器を収容し、該容器の開口部が接する絶縁部材により前記電極を絶縁し、前記容器の内側に該容器の開口部から原料ガス導入管を挿入し、前記容器内を排気し、該容器の内側に前記原料ガス導入管から原料ガスを供給した後に排気と前記原料ガスの供給を止め、前記原料ガス導入管を前記容器外に出した後、前記電極に高周波を印加することを特徴とする成膜容器の製造方法。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内での金属汚染等を低減し、基板等への成膜処理を良好に行うことができる薄膜作製方法を提供する。
【解決手段】 高蒸気圧ハロゲン化物を生成し得る金属を含む材料で形成した被エッチング部材１１を、ハロゲンを含有する作用ガスＣｌ_２でエッチングして前記金属とハロゲンとからなる前駆体（ＴｉＣｌ_Ｘ）を形成する一方、チャンバ１の温度を前記被エッチング部材１１の温度よりも低温に維持した状態で、前記チャンバ１の内面に前記前駆体を吸着させることにより、前記チャンバ１の内面に前記金属のハロゲン化物の薄膜を形成するとともに、前記金属のハロゲン化物の薄膜を、作用ガスのプラズマにより得るハロゲンラジカルＣｌ^＊で還元して前記金属の薄膜であるプリコート膜２００を形成する。 （もっと読む）

【課題】パイプ内周面への成膜方法を提供する。
【解決手段】本成膜方法は、真空チャンバ１２の内部に成膜対象であるパイプ２０を配置し、パイプ２０の内部にワイヤ状のターゲット２２を配置し、真空チャンバ１２内に炭化水素と水素とを含む反応ガスを導入し、ターゲット２２に直流負電位を印加して当該パイプ２０とターゲット２２との間にプラズマ２６を発生させてパイプの内周面に炭素膜２８を成膜する。この炭素膜２８は耐腐食性膜、その他の目的で成膜された膜である。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置を構成する構成部材の表面に堆積膜を形成することにより、当該構成部材の耐久性や、前記腐食性ガスに対する耐食性を向上させること。
【解決手段】 処理容器、処理容器内に設けられる部品、処理ガスを処理容器に供給するための配管、この配管に接続されるガス供給機器、または排気管から選択される構成部材の処理ガスとの接触面に原料ガスと反応ガスを交互に供給して、堆積を行うことにより、処理ガスとの接触面に、アルミニウム、ハフニウム、ジルコニウム、イットリウムのいずれかを含む酸化物よりなる堆積膜を成膜する。 （もっと読む）

本発明は、容器（２）内の障壁効果を有する材料の薄膜のＰＥＶＣＤ用装置（１）に関する。前記装置（１）は、電磁波発生装置（１１）を装備して容器（２）を受ける処理装置（４）と、前駆体ガス吸気口（１７）と、容器（２）内へ出てくる底部端（１４）および対向する頂部端（１５）を有して前記前駆体ガスを容器内に導入するためのインジェクタ（１３）と、前駆体ガス吸気口（１７）とインジェクタ（１３）の頂部端（１５）の間の流体接続を確立する前駆体ガス供給管路（２０）と、供給管路（２０）内の、前駆体ガス吸気口（１７）とインジェクタ（１３）の間でインジェクタ（１３）の頂部端（１５）の上流に直ぐのところに置かれる電磁弁（２５）と、を備える。
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【課題】任意形状の容器にガスバリア膜を容易にしかも均質に形成することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１０Ａは、媒質ガス１１を供給してプラズマ処理により被処理容器１２の表面にバリア膜を形成するプラズマ処理装置において、ガス供給部１４とガス排出部１５とを有する真空容器本体１６と、前記真空容器本体１６内に配設された被処理容器１２と、前記被処理容器１２の外部に設けられた放電用アンテナ１７と、前記放電用アンテナ１７に接続した第１の整合器１８−１及び第１の高周波電源１９−１とを具備する。 （もっと読む）

本発明は、プラズマゾーン(18)を画定し、ならびに、軸(A1)を画定しかつプラズマゾーン(18)内に開く内部開口(15)と、前記ゾーン(18)の外側に開く外部開口(16)とをもつ穴(14)を備える、コンテナ(3)のためのハウジング(5)と、電磁波発生器と、穴(14)の軸(A1)上のプラズマゾーン(18)の外側に配置されたセンサ(21)を備える光学プラズマ制御装置(19)とを含む、コンテナ(3)内でバリヤー効果をもつ材料の薄膜のPECVD蒸着のための装置(1)に関する。
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高アスペクト比空間へ共形フィルムを蒸着する方法は、蒸着より前に空間内に前駆体ガスの勾配を形成するステップを含む。例えば、勾配は蒸着チャンバ内を減圧することにより、あるいは、蒸着チャンバの部分的な排出によって形成される。基板の温度がその後一時的に上昇することによって、高アスペクト比空間の閉じている、又は「深い」部分へ前駆物質が蒸着することが好ましい。このプロセスを複数サイクルくり返して、完全に空間を充填する。このプロセスにより、できたデバイスの動作に悪影響を与えるボイドもキーホールも発生させずに、高アスペクト比空間を充填することができる。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性及び基体に対する密着性に優れ、さらには耐熱性にも優れたプラズマＣＶＤ法による蒸着膜を提供する。
【解決手段】有機金属化合物と酸化性ガスとを用いてのプラズマＣＶＤ法による蒸着膜において、該蒸着膜は、基体側に位置する有機無機複合領域Ｙと、有機無機複合領域Ｙの上に形成された無機性領域Ｘとを有し、有機金属化合物に由来する金属元素（Ｍ）、酸素（Ｏ）及び炭素（Ｃ）の元素基準で表して、有機無機複合領域Ｙは、元素比（Ｃ／Ｍ）及び元素比（Ｏ／Ｍ）が、０．２＜Ｃ／Ｍ＜１．８、及び１．５≦Ｏ／Ｍを満足し、且つ該金属元素（Ｍ）の結合エネルギーが無機性領域中で炭素濃度が５％未満の金属元素（Ｍ）の平均値よりも０．１ｅＶ〜０．７ｅＶ低い範囲にあり、無機性領域Ｘは、元素比（Ｃ／Ｍ）が、Ｃ／Ｍ≦０．２を満足している。 （もっと読む）

【課題】合成樹脂製容器にプラズマ蒸着を用いて被膜を形成することにより生じる様々な問題を解決する。
【解決手段】本発明装置10は、加熱体16を備えボトル1の本体を構成する壁部2の口部2aからその内部への挿入及び当該内部からの引き出しが可能なパイプ15と、このパイプ15に原料ガスＧを供給する原料ガス供給手段と、加熱体16の発熱を生起させる発熱手段とを備え、壁部2の内部に挿入したパイプ15を介して供給した原料ガスＧを加熱体16により加熱して原料ガスＧから生成した分解種を壁部2の内側表面に蒸着させて被膜3を成膜する。 （もっと読む）

【課題】特に非炭酸飲料用に適した高密度ポリエチレンをベースとするプラスチック容器、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ブロー成形または押出成形された容器は、バリア特性を有しており、また開口１３を有する上壁部、上壁部１２の下に位置した中間側壁部１４、容器を支持するために中間側壁部の下に位置した基部１６を含んでいる。容器は、内面２２および外面を有し且つ高密度ポリエチレンから形成された成形された第１の層、および第１の層の内面上に形成されると共にこれに接着され且つ第１の層と実質的に同じ広がりを有する炭素被覆を含んでおり、炭素被覆は約１０ミクロンより小さい厚みを有する。 （もっと読む）

【課題】外部電極と内部電極をボトル形プラスチック容器と相似形に成形しなくとも、該容器の内面に全体的に均一なＤＬＣ膜を形成することができ、外部電極内の空気を高速排気する際にボトル形プラスチック容器の口の付近で乱流が生じてコーティング効果が損なわれないようにする。
【解決手段】外部電極１がボトル形プラスチック容器２を該容器の底部側から収容可能な形状に成形され、該容器の軸方向と略平行に磁界Ｍを印加する磁界印加手段１７が容器の縮径部１８に対して集中的に磁界を印加するように構成され、外部電極１と排気管１１との間に、複数の貫通孔１２を通じて外部電極１の内部に連通せられる排気流緩和用真空チャンバ１３が介装されている。 （もっと読む）

【課題】室温より高温の環境下でも優れたガスバリア性を保持できる炭酸飲料用プラスチックボトルを提供する。
【解決手段】プラズマＣＶＤにより形成されたガスバリア被膜を内面側に備え、室温より高温の環境下における体積増加率が８．０％以下である。前記室温より高温の環境下における体積増加率は、ガスボリューム４．２の炭酸水を充填して４０℃の温度で２週間保存後の値、またはガスボリューム２．８の炭酸水を充填して容器中心部を６５℃の温度に１０分間以上保持する加熱処理を施した後の値である。前記ガスバリア被膜は、炭素原子を含む出発原料からプラズマＣＶＤにより形成された炭素を主要構成元素とするアモルファスカーボン被膜、または有機珪素化合物を含む出発原料からプラズマＣＶＤにより形成されたＳｉ／Ｏ比が原子比で１／１．５〜１／２．２の範囲にあるケイ素酸化物含有被膜である。前記プラスチックボトルは、ポリエステルボトルである。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性などの性能を有する酸化ケイ素薄膜をばらつきなく安定に形成でき、さらには薄膜に柔軟性を付与することも可能な薄膜成膜方法および成膜装置の提供。
【解決手段】モノマーガスと、酸化性の反応ガスとを含有する混合ガスをプラズマ化し、プラスチック製容器の表面に酸化ケイ素からなる薄膜を形成する薄膜成膜方法において、前記反応ガスに対する前記モノマーガスの供給流量比が０．０５以下の範囲の少なくとも一部を含むように、前記供給流量比を連続的に減少させながら混合ガスをプラズマ化する。この際、複数の成膜チャンバ２０に対して、１つの高周波電源部３０から高周波電力が供給される成膜装置１０を使用することにより、より一層ばらつきなく成膜できる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、チャンバを交換することなく異なる容量の容器に対して、容器高さ方向に対して均一な膜質の成膜をすることができるプラズマＣＶＤ成膜装置を提供すること。異なる容量の容器に対して、容器高さ方向に対して均一な膜質の成膜が為されたガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明に係るプラズマＣＶＤ成膜装置は、プラスチック容器を収容する真空チャンバと、該真空チャンバの側壁に沿って螺旋状に巻きつけられたリボン状コイルと、前記プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置され、該プラスチック容器へ原料ガスを供給する原料ガス供給管と、前記真空チャンバの内部ガスを排気する排気手段と、前記リボン状コイルに高周波電力を印加する高周波供給手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラスチック容器の内壁面に成膜をする場合において、（１）形状の異なる容器ごとに外部電極を準備する必要をなくし、（２）誘導結合型プラズマ又はマイクロ波プラズマのいずれの方式によっても、容器の内部空間と外部空間との圧力差制御機構を設けることなく、前記隙間空間でのプラズマ発生を抑制すること。
【解決手段】本発明に係るプラズマＣＶＤ成膜装置は、プラスチック容器を収容する真空チャンバと、真空チャンバの内壁面とプラスチック容器の外壁面とに挟まれた隙間空間に配置された絶縁体からなるスペーサーと、プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置され、プラスチック容器へ原料ガスを供給する原料ガス供給管と、真空チャンバの内部ガスを排気する排気手段と、プラスチック容器の内部に供給された原料ガスをプラズマ化させるプラズマ発生手段と、を有する。 （もっと読む）