【課題】ＰＢＮ製品に適用可能な新規有用なトレーサビリティ表示手法を提供する。
【解決手段】少なくとも表面２がＰＢＮからなる本体１を製造した後、該本体表面の任意箇所に純化黒鉛でトレーサビリティ表示２を設け、該トレーサビリティ表示を含めた本体表面をＰＢＮオーバーコート３で被覆して、ＰＢＮオーバーコート製品４が製造される。ＰＢＮオーバーコートの膜厚を７００μｍ以下とすれば、本体表面に表示した製品シリアル番号を読み取るに十分な透明性を与えることができるので、トレーサビリティ表示手法として好適である。黒鉛はＰＢＮの物性に悪影響を与えないので、これを用いて形成されるトレーサビリティ表示が本体ＰＢＮ表面とＰＢＮオーバーコートとの間に介在しても、ＰＢＮ製品本来の機能や耐久性を損なわない。 （もっと読む）

【課題】微粒子の表面に被覆した超微粒子又は薄膜からなるマイクロカプセル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るマイクロカプセルは、優れた生体適合性を有するＤＬＣからなる超微粒子又は薄膜により形成されたマイクロカプセルであって、生体内部に導入した際、又は、生体に接触させた際、生体あるいは生体構成要素の持つ本来の機能を損なわない性質を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【解決課題】 粉末材料の安定供給とプラズマ中での速やかな加熱・溶融・蒸発とを、同時に満たすことができるプラズマスプレーＰＶＤ用粉末、かかる粉末を用いた堆積膜の製造方法、ならびに、堆積膜を提供する。
【解決手段】 １次粒子の少なくとも一部の粒子が融着してなる２次粒子を含むプラズマスプレーＰＶＤ用粉末であって、該プラズマスプレーＰＶＤ用粉末のＢＥＴ比表面積が、前記２次粒子の平均粒子径から算出した外部比表面積の１００倍以上１５０００倍以下であるプラズマスプレーＰＶＤ用粉末。 （もっと読む）

【課題】基板表面の凹凸や亀裂等に金属酸化物薄膜を成膜するための酸化物膜形成方法および酸化物被膜部材を提供する。
【解決手段】大気開放型ＣＶＤ装置を使用し、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）焼結体基板１０へ大気開放型ＣＶＤ法を用いてＹ₂Ｏ₃膜を生成する。Ｙ₂Ｏ₃膜の出発原料としてＹ(ＤＰＭ)₃を用いることで、酸化イットリウム膜を基材に沿って合成でき、基板表面の凹凸の均一化、粒界亀裂等の最奥部までの酸化イットリウム膜の蒸着による埋孔が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、燃料電池に利用可能な白金及びルテニウム含有混合微粒子薄膜及びその製造法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、有機白金錯体及び有機ルテニウム錯体を、実質的に同時に供給して、化学気相蒸着法により白金及びルテニウムを含有する薄膜を形成させることによって得られる白金及びルテニウム含有混合微粒子薄膜によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 粉末状担体の全体に金属ナノ粒子を均等に担持させることができる金属蒸着装置および粉末状担体の撹拌方法を提供すること。
【解決手段】 真空チャンバ１１内で容器４１を水平な状態とし内部の粉体状アルミナＡへ施す例えば１００回の真空アーク放電による白金の蒸着と間欠的な次の同様な蒸着との間において、容器４１を揺動軸４５の回りに第１の方向（例えば右方向）へ揺動させ、傾斜する容器４１の底面４２上で粉体状アルミナＡを容器４１の端部の方へ滑落させて撹拌し、容器４１の右側の端部が下方の衝突部材を兼ねる衝突検知センサ４７によって所定の傾斜角度に達したことが検知されると、直ちに揺動の方向を逆にして容器４１を水平にすると同時に、端部の方へ滑落している粉体状アルミナＡを容器４１の中央側へ跳ね戻し粉体状アルミナＡを裏返しにするように撹拌する。 （もっと読む）

【課題】 めっき法のように廃液の処理が必要なく、環境に対する負荷が小さい表面処理物、表面処理方法及び表面処理装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る表面処理物は、スパッタリング法によってボルトやナット等の被処理体３の表面に耐食性物質又は犠牲物質からなる薄膜が被覆されたことを特徴とする。また、本発明に係る表面処理物は、スパッタリング法によって被処理体の表面に薄膜が被覆され、前記被処理体と前記薄膜を反応させて該被処理体の表面に反応層が形成されたことを特徴とする。前記スパッタリング法は、内部の断面形状が多角形を有する真空容器１ｂを、前記断面に対して略垂直方向を回転軸として回転させることにより、該真空容器内の被処理体３を攪拌あるいは回転させながらスパッタリングを行うものであることを特徴とする。 （もっと読む）

超高純度の光学品質ガラス製品を製造する方法が開示され、前記方法は、
１． 金属酸化物又はメタロイド酸化物を緻密化して約１ミリメートルより小さい平均粒子サイズを有する顆粒にする工程；
２． 場合により、前記顆粒を完全に焼結させて、高純度の人工砂を製造する工程；
３． この顆粒状の人工砂を通常の技術、例えばスリップ注型成形により注型して、高密度の多孔性成形体を作成する工程；
４． 場合により、前記成形体を乾燥及び部分的に焼結する工程；
５． 場合により、前記成形体を真空下で完全に焼結する工程；及び
６． 場合により、前記の完全に焼結した成形体を熱間静水圧加圧成形する工程を有し、
その際、前記金属酸化物又はメタロイド酸化物は、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰインデックス８０より低、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²より低及びアグリゲート平均周長１０００ｎｍより低を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより短い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は０．２μｇ／ｇより低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度二酸化ケイ素である。 （もっと読む）

金属または前記金属の合金（前記金属は、周期律表の列ＶＩＩＩＢおよびＩＢからの金属から選択される）の、１種以上の前駆体から、化学気相堆積（ＣＶＤ）によって基質の上に分散された、ナノ粒子を堆積させるプロセスであって、そこにおいて堆積が５０容量％以上の反応性酸化性気体を含む気体の存在下で遂行されるプロセス。
金属から、または金属の合金から、たとえば、銀からまたは銀合金から作られたナノ粒子がその表面に分散された、少なくとも１つの表面を含む基質。
化学反応、たとえばＮＯ_ｘ脱離反応、を触媒するための基質の使用。 （もっと読む）

【課題】高分子材料であって、実用上求められるだけの潤滑性を有するとともに摩耗によってもその潤滑性が低下せず、しかもこの材料の強度が損なわれていない高分子材料を得るための炭素膜片の製造方法及びかかる炭素膜片の製造に用いることができる膜片製造装置を提供する。
【解決手段】容量結合型プラズマＣＶＤ法を用い、真空容器１内を所定真空度に維持するとともに炭素膜形成の原料ガスを導入し、電力印加電極２に高周波電力を印加してプラズマを発生させてこの電極２上に潤滑性のある炭素膜を形成し、この電極２の加熱・冷却を繰り返すことでこの電極２から炭素膜片を剥離させ、炭素膜片を回収する。かかる炭素膜片製造に利用できる膜片製造装置。 （もっと読む）

【課題】 スイープガスのバブリングによる液体原料の蒸気ガス混合工程中に亘って、容器内の液体原料の液面高さを常に一定に維持して混合比が一定した混合ガスの供給を可能とするバブリング式気化器の提供。
【解決手段】 液体原料中に放出されたスイープガスがバブルとして浮上する間にバブルに取り込まれた液体原料の蒸気を容器本体内の液面上でスイープガスとの混合ガスとして回収するバブリング式気化器において、蒸着用液体原料を収容するための容器本体がバブリング室及びバブリング室とオーバーフロー壁によって仕切られたオーバーフロー室を内部に備え、バブリング室には液体原料中でスイープガスを放出するノズル手段が配置され、バブリング室とオーバーフロー室とがバブリング室からオーバーフロー室へ溢流した液体原料をバブリング室に再供給する循環系を介して接続されているものとした。 （もっと読む）