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Fターム[4M106CA17]の内容

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【課題】半導体装置からのエミッションの検出を加熱しながら行う半導体装置の検査装置を提供する。
【解決手段】検査装置1は、半導体チップ2を載置する観察ステージ16を、半導体チップ2の基板材料と同じSiで製造し、半導体チップ2の裏面側に撮像素子35を配置した。半導体チップ2で発生した微弱な光は、半導体チップ2、観察ステージ16を透過して撮像素子35に入射する。観察ステージ16は、Siから製造されているので、ヒータ25によって簡単に加熱できる。また、観察ステージ16の上方には、プローブカード19及びLSIテスタ20が配置されており、半導体チップ2の回路のテストが可能である。 (もっと読む)


【課題】 検査に必要な光を容易に被検査体に照射させる構成を簡素化させることができる検査装置を提供する
【解決手段】 本発明は、受光部と電極を備える被検査体とプローブカードを用いて電気的に接続して被検査体に関する検査処理を行う検査装置に関する。そして、プローブカードは、被検査体と電気的に接続するための接触子と、接触子と電気的に接続する基板と、基板で接触子と同じ板面に配置された、被検査体に向けて光を発光することが可能な光源を備える照明部とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板に形成されているフォトデバイスの光励起キャリア発生領域を非接触で検査する技術を提供する。
【解決手段】検査装置100は、フォトデバイスが形成された太陽電池パネル90を検査する。検査装置100は、パルス光LP11を太陽電池パネル90の受光面91S側から照射する照射部12と、該パルス光LP11の照射に応じて発生するテラヘルツ波パルスTL1の電界強度を検出する検出部13(検出器132)とを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光学条件の調整を容易に行うことを目的とする半導体検査装置等の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、荷電粒子線装置を備えた半導体検査装置、或いは荷電粒子線装置の画像,光学条件選択装置であって、異なる複数の光学条件にて得られた画像データと、設計データに基づいて形成される画像データとの間でマッチングを行い、当該マッチングに基づいて、前記光学条件、或いは画像の選択を行う半導体検査装置、或いは荷電粒子線装置の画像,光学条件選択装置を提案する。 (もっと読む)


【課題】LADA効果を誘起する非線形2フォトン吸収機構を利用する故障位置測定システムを提供する。
【解決手段】DUT210がテストベクトルで刺激されている間に、シリコンのバンドギャップより低いフォトンエネルギーを有する波長のフェムト秒レーザパルスを関心領域に送出し、レーザパルスはDUT刺激に同期しているので、スイッチングタイミングが2フォトン吸収効果を用いて変更され、レーザ光源がなければ合格するDUTが不合格になる瞬間において光線の位置が求められ、不合格の原因となっているトランジスタの位置を求める。 (もっと読む)


【課題】個片のLED素子の発光波長がばらつく場合にあっても、LEDパッケージの発光特性を均一にして、生産歩留まりを向上させることができるLEDパッケージ製造システムを提供することを目的とする。
【解決手段】複数のLED素子の発光特性を予め個別に測定して得られた素子特性情報12、規定の発光特性を具備したLEDパッケージを得るための樹脂の適正塗布量と素子特性情報12とを対応させた樹脂塗布情報14を予め準備し、部品実装装置M1によって実装されたLED素子の基板における位置を示す実装位置情報71aと素子特性情報12とを関連付けたマップデータ18をマップ作成処理部74によって基板毎に作成し、樹脂が塗布された完成品を対象として発光特性検査装置M7によって検査され樹脂塗布装置M4にフィードバックされた検査結果に基づいて樹脂塗布情報14を更新する。 (もっと読む)


【課題】隣接するLEDからの干渉がウエハステージテスト中に得た電気的および光学的データに影響しないようにすること。
【解決手段】テストを受ける半導体装置(10)の特性をテストするためのプローブヘッドがテストを受ける少なくとも一つの半導体装置(10)を支持する誘電体フィルム(24)を含み、この誘電体フィルム(24)を支持フレーム(26)がぴんと張って支持する。第1支持体(40)がテストを受ける半導体装置(10)の第1側(16)と電気的に接触するための第1プローブ(28)を位置決めし、第2プローブ(30)を第1位置(P1)と第2位置(P2)の間で動かすアクチュエータを有する第2支持体(34)が第2プローブ(30)を位置決めし、この第2位置(P2)は、このテストを受ける半導体装置の対向する第2側(18)と電気的に接触するためである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的画素欠陥検査と、画像分析による画素欠陥検査を行うことができ、歩留まりを向上させる固体撮像素子の検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】本発明の固体撮像素子検査装置は、複数の画素が形成された固体撮像素子2に対して電気的欠陥検査を行う接触型のプローブ121bを備えるテスタ11と、テスタ11による欠陥画素の検出結果に基づき、欠陥画素が検出された固体撮像素子を撮像する撮像部123、及び、撮像部123からの出力画像を基に異物の有無を検出する画像分析部(例えば、画像分析部112)を備えるプローバ12とを含む。 (もっと読む)


【課題】効率的な照明が可能であり、撮像素子などの感光回路の検査効率を向上させることが可能な照明装置及び検査装置を提供する。
【解決手段】ウェハW上に形成された感光回路(撮像素子)を検査するための検査装置100は、光源111を有し、感光回路に光源111からの光を照射する照明部11と、この照明部11を、感光回路に対して相対移動可能に支持する支持部12と、この支持部12を駆動させて、照明部11を感光回路に対して移動させる駆動部13と、を有して構成される。 (もっと読む)


【課題】OBIRCH法を行う際に、特性チェック素子の特性を容易に測定することができる、半導体装置、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】レーザ光が照射されることにより特性が検査される、特性チェック素子と、前記特性チェック素子よりも上層に位置し、ダミーメタルが配置された、上部配線層とを具備する。前記上部配線層は、前記特性チェック素子に重なる第1領域と、前記特性チェック素子に重ならない第2領域とを備える。前記第1領域における前記ダミーメタルの密度は、前記第2領域における前記ダミーメタルの密度よりも、小さい。 (もっと読む)


【課題】受光素子の光感度特性を高精度で、かつ、容易に測定できるようにする。
【解決手段】Z軸ステージ104が、光軸方向(Z軸方向)に光学制御部101を移動させながら、レーザ発生部121により発生されるレーザ光が受光するとき、受光出力測定部28は、受光素子201が発生する出力電圧を測定する。光感度計算部31は、出力電圧に基づいて光感度を計算する。プロット部29は、Z軸方向の移動位置と光感度をプロットする。Z位置決定部33は、光感度が最大で、かつ、平坦な状態の中央位置となるZ位置を焦点位置として決定する。本発明は、受光素子の光感度測定装置に適用することができる。 (もっと読む)


【課題】光学アダプタとイメージセンサの位置調整を短時間に、かつ、容易に行うことができる照明装置、この照明装置を有する検査装置及び照明装置の位置調整方法を提供する。
【解決手段】照明装置10は、光源11からの光を出射して複数のイメージセンサ41の検査領域に、照明光による像を形成するためのアダプタ20と、イメージセンサ41との相対位置関係を調整するためのアダプタ駆動部15と、制御部6とを備え、制御部6は、複数のイメージセンサの内の少なくとも1つのイメージセンサの中心領域の位置情報を取得して初期位置情報とする初期設定部65と、初期位置情報に基づいてアダプタの移動量を算出するアダプタ変位調整部63と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 発光装置の複雑化及び高価格化を招くことなく、多数の光源を微少なピッチで配置することを可能にすることにある。
【解決手段】 発光装置は、複数の内部配線を有する第1の基板であって、厚さ方向を上下方向とされた第1の基板と、厚さ方向を第1の基板と一致させた状態に、第1の基板の下側に配置された第2の基板であって、該第2の基板を上下方向に貫通する複数の第1の貫通穴を有する第2の基板と、厚さ方向を第2の基板と一致させた状態に、第2の基板の下側に配置された第3の基板であって、該第3の基板を厚さ方向に貫通して、第1の貫通穴に連通された複数の開口を有する第3の基板と、第1の貫通穴から開口に向かう光を発生するように第1の基板に支持された複数の光源であって、内部配線に電気的に接続された複数の光源とを含む。複数の光源は複数列に配置されている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子の測定において、半導体素子の搬送に伴う影響を減らして、正確な測定を行う方法の提供。
【解決手段】半導体測定支援システムは、測定位置に配置された半導体素子11の測定を行う測定手段12と、測定手段12による測定の前後に半導体素子の搬送を行う搬送手段13と、半導体素子11が測定位置に配置されるように搬送手段13を制御するセンサ14と、搬送手段13により半導体素子11が測定位置に配置された場合に、センサ14による搬送手段13の制御を停止させ、測定手段12により当該半導体素子11の測定が終了した場合に、センサ14による搬送手段13の制御を再開させ、搬送手段13により当該半導体素子11を測定位置から搬出させる搬送制御手段15と、を備える。 (もっと読む)


【課題】固体撮像素子の検査に要する処理量を低減する。
【解決手段】2次元に配置された複数の画素からなる画素領域と、前記画素領域の行方向の一方側に配置され前記複数の画素に行毎に駆動信号を供給する垂直走査回路と、を有する固体撮像素子を検査する。前記固体撮像素子に光を照射した状態で得た、前記画素領域のうちの前記垂直走査回路とは反対側に位置する一部の領域に配置された画素からの信号を、蓄積する。蓄積された信号を、行毎に、前記一部の領域のみに渡って積算する。前記積算段階で得られた行毎の積算値に基づいて、前記固体撮像素子の良否を判定する。 (もっと読む)


【課題】第2セル層の膜厚を、より高精度で計測可能な方法及び膜厚計測装置、並びに、該膜厚計測方法を用いて、基板面内で膜厚が均一になるように第2セル層を製膜する光電変換装置の製造方法を提供する。
【解決手段】透明電極層及び光電変換層が形成された基板面内の任意の位置における透過率と、予め測定された透明電極層ヘイズ率及び第1セル層膜厚とに基づき、第2セル層の膜厚を算出する工程とを含む膜厚計測方法。該膜厚計測方法により第2セル層の膜厚を算出する第2セル層膜厚算出部を備える膜厚計測装置。該膜厚計測方法に基づき、基板面内の任意位置における第2セル層の膜厚を算出する工程と、第2セル層の膜厚が許容膜厚範囲から外れる場合に、第2セル層製膜条件を調整する工程とを含む光電変換装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ウエハスケールレンズおよびウエハスケールカメラモジュールを、ウエハレベルで検査するトレイを用いることによって、検査時間を短縮する方法の提供。
【解決手段】検査装置100は、遮光筺体104内に、検査対象となるウエハスケールレンズ2を保持するウエハトレイ1と、テスト用の被写体101と、検査用のマスターチップである受光部103と、受光部103を保持する保持台102とを備えている。検査装置100は、被写体101と、受光部103との間に配置されたウエハスケールレンズ2の撮像テストを、ウエハレベルで行う。 (もっと読む)


【課題】 半導体デバイスに対して無バイアス状態での検査を好適に行うことが可能な半導体検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】 半導体デバイスSに対し、パルスレーザ光の照射によって発生する電磁波を利用して無バイアス状態で検査を行うとともに、半導体デバイスSのレイアウト情報を参照して検査範囲を設定し、その範囲内でパルスレーザ光の検査光L1による2次元走査を行う。また、半導体デバイスSの検査範囲を光学系の光軸に対して所定位置に配置し、半導体デバイスSに対して固浸レンズ36を設置した状態で、走査手段であるガルバノメータスキャナ30により、固浸レンズ36を介して半導体デバイスSの検査範囲内を検査光L1によって2次元走査するとともに、半導体デバイスSから出射された電磁波を光伝導素子40で検出する。 (もっと読む)


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