【課題】形成したポリシリコン膜の状態を、客観的に、非接触で、精度良く、自動的に評価することができるポリシリコン膜評価装置の提供を目的としている。
【解決手段】 アモルファスシリコン膜をアニール処理することによって形成されたポリシリコン膜を評価するポリシリコン膜評価装置１である。ステージ上のポリシリコン膜が形成された基板Ｗに可視光を照射することによって基板Ｗ上のポリシリコン膜の表面画像を撮像してオーフォーカスする可視光観察光学系４や紫外光の照射による紫外光観察光学系６などを備える。そして、紫外光観察光学系によって得られたポリシリコン膜の表面画像からポリシリコン膜の膜表面の空間構造の直線性および周期性を評価し、この直線性および周期性の評価結果に基づき、ポリシリコン膜の状態を評価する。 （もっと読む）

【課題】 透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。
【解決手段】 本来同一形状となるべきパターンが複数規則的に配置された被検査物の検査装置において、解像度０．１８μｍ以下、より好ましくは０．１３μｍ以下となる照明波長と対物レンズ開口数の関係を備えた撮像光学系と、撮像光学系の結像位置に配置された光電変換器と 撮像光学系とは別に設けられた光路からなり入射角度８５度以上、より好ましくは８８度以上で照明する自動焦点光学系と、自動焦点光学系の検出信号に基づき撮像光学系の焦点位置を調節する手段と、光電変換器の電気信号を処理する手段とを、具備した構成をとる。 （もっと読む）

【課題】 発光点像を測定した後、半導体レーザ素子の出射レーザ光の遠視野像を測定する半導体レーザの特性測定方法において、発光点像測定状態から遠視野像測定状態に再現性、精度を良好に保ったまま変化させる。
【解決手段】 半導体レーザ（１０）の発光点像のＣＣＤ画像における位置座標を測定した後、集光レンズ（４０）と半導体レーザ（１０）の間の光路中から平行平板からなる補正板（３０）を抜き出し、遠視野像をＣＣＤ画像として測定する。該遠視野像のピークのＣＣＤ画像における座標を測定し、前記発光点像の座標と前記遠視野像のピークのＣＣＤ画像における座標から前記半導体レーザの光軸ズレ角を測定する。また、前記遠視野像のＣＣＤ画像から遠視野像特性を測定する。 （もっと読む）