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Fターム[4M118AA09]の内容

固体撮像素子 (108,909) | 目的、効果 (8,919) | 試験・検査 (235)

Fターム[4M118AA09]に分類される特許

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【課題】基板におけるチップ面積の確保を容易に行うことができ、基板の保持方法による影響を受けることなく、また、高価な計測機器を用いることなく、高精度かつ簡便に、基板の歪みを測定することができる基板の歪み測定装置を提供する。
【解決手段】基板20を保持する保持面に、前記基板20に設けられた位置ズレ測定用のマーク40の比較対象となる基準マーク50を有する基板保持部31と、前記基板20を透過する光を照射する光源部32と、前記光源部32により前記光が前記基板20に照射されることで得られる前記位置ズレ測定用のマーク40と前記基準マーク50との重なりを観察する観察部33と、前記観察部33により観察された前記重なりから、前記基準マーク50に対する前記位置ズレ測定用のマーク40のズレ量を算出する算出部36と、前記算出部36により算出された前記ズレ量から、前記基板の歪みを測定する測定部37とを備える測定装置。 (もっと読む)


【課題】 欠陥画素をより精度良く検出するためには撮像素子の温度上昇や信号電荷の蓄積時間を必要とするため、工場出荷前の調整時間に時間が掛かり、生産効率性の点などにおいて問題があった。
【解決手段】 欠陥画素検出時に、撮像素子内の読み出しゲート部に存在する読み出し電極に印加する電位を読み出しゲート部における半導体基板の界面が空乏状態となるような電位を与えるように撮像素子の駆動方法を変更することにより、温度依存及び露光時間依存しているキズの発生頻度を上げ、欠陥画素検出時間の短縮及び検出精度を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】裏面照射型の固体撮像素子を備えたチップ領域が複数配列された固体撮像素子ウエハにおいて、個片化されるチップ領域のサイズを縮小し、これにより固体撮像素子の小型化を図る。
【解決手段】複数のチップ領域200と、チップ領域200を囲んで配置された分割領域300と、各チップ領域200に設けられた光電変換部20と、各チップ領域200において光電変換部20に対する受光面Aとは逆の表面側に設けられた駆動回路と、駆動回路に接続され各チップ領域200において表面側に引き出されたデバイス用端子33と、駆動回路に接続され分割領域300において受光面A側に露出された検査用端子400とを備えた固体撮像素子ウエハ100−1である。 (もっと読む)


【課題】 高い測定精度を有しつつ、測定時間の短縮が可能なマイクロレンズのモニタ用構造体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 半導体装置は、画素領域に設けられたマイクロレンズと、画素領域の他の領域である周辺領域の上に設けられ、マイクロレンズの形状と相関があり、基板に垂直な面に含まれる断面の形状が同一のモニタ用構造体を有する。 (もっと読む)


【課題】従来に比べて、検査が行い易く、かつ精度よく放射線を検知することができる、放射線検出器、放射線画像撮影装置、及び放射線画像撮影システムを提供する。
【解決手段】画素20は、センサ部103Aとセンサ部103Bとを備えている。画像取得用画素20Aでは、センサ部103Aとセンサ部103Bとが接続配線32により接続されており、センサ部103Aで発生した電荷及びセンサ部103Bで発生した電荷がTFTスイッチ4により読み出されて信号配線3に出力される。放射線検知用画素20Bでは、センサ部103Aで発生した電荷がTFTスイッチ4により読み出されて信号配線3に出力される。また、放射線検知用画素20Bでは、センサ部103Bと信号配線3とが直接、接続配線34により接続されており、センサ部103Bで発生した電荷はそのまま信号配線3に出力される。 (もっと読む)


【課題】一画素から出力される電荷量が少ない場合でも、特定信号配線の断線を検出することができる、放射線検出器、放射線画像撮影システム、断線検出プログラム、及び断線検出方法を提供する。
【解決手段】画素20にバイアス電圧を印加して画素20のセンサ部(フォトダイオード)103のリーク電流によるオフセット電荷を蓄積させ、順次、画素20のTFTスイッチ4のゲートをオンさせて蓄積されているオフセット電荷に応じた電気信号を出力させる。当該電気信号に基づいて、オフセット電荷量の累積値を検出し、制御部106は、検出した累積値と断線検出用に予め定められた閾値とを比較し、累積値が閾値未満の場合は信号配線3が断線していることを検出する。 (もっと読む)


【課題】ウェハ1枚当たりの赤外線センサの取れ数の減少を抑えつつ、ウェハごとに2種類の熱電要素のゼーベック係数を管理することが可能な赤外線センサの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板1の基礎となるウェハ200の一表面側へのn形ポリシリコン層34(第1の熱電要素)の形成と同時に第1シート抵抗モニタ部234を形成し、且つ、ウェハ200の上記一表面側へのp形ポリシリコン層35(第2の熱電要素)の形成と同時に第2シート抵抗モニタ部235を形成するようにし、第1シート抵抗モニタ部234のシート抵抗および第2シート抵抗モニタ部235のシート抵抗それぞれを測定し、予めデータベース化されているシート抵抗とゼーベック係数との関係に基づいて、第1シート抵抗モニタ部234および第2シート抵抗モニタ部235のゼーベック係数がそれぞれの管理規格範囲内にある良品か管理規格範囲外にある不良品かを判定する。 (もっと読む)


【課題】 プローバーテストの製品への影響をさらに軽減して、より一層信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】 半導体装置100を、半導体基板10aと、半導体基板10aの一方の面上に形成された絶縁膜10bと、縦孔配線部30と、金属膜11と、導電性保護膜12とを備える構成とする。金属膜11は、絶縁膜10b内に形成され、縦孔配線部30と電気的に接続される。そして、導電性保護膜12は、絶縁膜10b内において金属膜11に接して形成され、かつ、金属膜11の膜面において製造途中で行うプローバーテスト時のプローブの接触領域を含む領域に形成される。 (もっと読む)


【課題】シリコン界面からの暗電流の発生を防止するために、基板裏面側にp+層を形成する構造を採った場合に種々の問題が発生する。
【解決手段】シリコン基板31の裏面上に絶縁膜39を設け、さらにその上に透明電極40を設け、電圧源41から透明電極40を介して絶縁膜39にシリコン基板31のポテンシャルに対して負の電圧を印加することにより、基板裏面側シリコン界面に正孔を貯めて当該シリコン界面に正孔蓄積層が存在しているのと等価な構造を作り出す。 (もっと読む)


【課題】基板上に配置された光検出器のバイアス条件が改良された検出行列を備える電磁放射検出装置およびこの製造方法を提供する。
【解決手段】検出装置は、第1の導電型の半導体基板(1)を備えている。第1の組織軸に沿って組織化されたフォトダイオード行列が基板(1)上に形成される。各フォトダイオードが基板(1)に少なくとも部分的に形成される。周辺バイアスリングがフォトダイオード行列(1)の周辺に形成される。バイアスリングはバイアス電圧生成器(3)に接続される。導電性コンタクトが基板に接続され、かつ、第1の組織軸上の2つのフォトダイオード間に配置される。コンタクトを2つのフォトダイオードの各々から分離する距離は、第1の組織軸に沿って2つの隣接するフォトダイオードを分離する距離に等しい。コンタクトはバイアス電圧生成器に接続される。 (もっと読む)


【課題】正孔注入阻止層などにキズや膜厚ムラが発生した場合でも、それによる白キズの出現を抑えることができるX線センサを提供する。
【解決手段】本発明にかかるX線センサは、透光性基板17と、前記透光性基板17の一方の面上に形成された透光性電極21と、前記透光性基板17の前記透光性電極21が形成された一方の面上に順次設けられた正孔注入阻止層22と、電界緩和層23と、正孔トラップ層24と、電荷増倍機能を持つ光導電性の感度層25と、電子注入阻止層26とを含む光導電性膜18と、を備え、前記電界緩和層23の厚みが、前記透光性電極21と前記正孔注入阻止層22とからなる層の厚みよりも厚いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】pn接合ダイオードの接合面積を大きくし、かつコストダウンを可能とすること。
【解決手段】半導体基板10とpn接合を形成する第1拡散領域32を含む第1pnダイオード33を含み、前記半導体基板上に形成された電子回路20と、前記電子回路とスクライブライン26との間の前記半導体基板内に設けられ前記電子回路を囲み前記第1拡散領域と同じ導電型であり前記半導体基板とpn接合を形成する第2拡散領域24を、含む第2pnダイオード23と、前記電子回路と前記スクライブラインとの間の前記半導体基板上に、前記第2拡散領域と重なるように設けられ、前記電子回路を囲む金属層18と、を具備する半導体装置。 (もっと読む)


【課題】静電気等に対する耐久性を向上するとともに、検査精度を向上し、かつ、検査時間を短縮した積分アンプを提供する。
【解決手段】演算増幅器OP、および、演算増幅器OPの反転入力端子と出力端子との間に接続したサンプリングキャパシタCfを備えた積分回路41を有する。入力端子部INと演算増幅器OPの反転入力端子との電気的接続の開閉を切り換え可能なモードスイッチSWtestを有する。移送キャパシタCT、および、移送キャパシタCTを充放電させるスイッチSW1〜SW4を備えた検査用回路42を有する。検査用回路42は、移送キャパシタCTの放電により、充電した電荷の一部をサンプリングキャパシタCfに送り込む。スイッチSW1〜SW4により移送キャパシタCTを充電させている状態でサンプリングキャパシタCfを放電させる放電スイッチSWinitを有する。 (もっと読む)


【課題】走査線に断線が生じたとしても、読み出される画像データが異常な値になることを的確に防止することが可能な放射線画像撮影装置を提供する。
【解決手段】放射線画像撮影装置1は、各放射線検出素子7から画像データDを読み出す読み出し処理の際に、各走査線5にオン電圧を順次印加して、各走査線5に接続された各スイッチ手段8にオン電圧を順次印加する走査駆動手段15を備え、走査駆動手段15は、走査線5に断線がある場合には、放射線が照射されて行われた放射線画像撮影後の画像データDの読み出し処理において、放射線検出素子7が接続された各走査線5にオン電圧を順次印加して行う画像データDの読み出し処理を開始するタイミングを、走査線5に断線がない場合よりも遅らせる。 (もっと読む)


【課題】プローブ痕による動作の不具合を低減し、かつ、小型化を実現する固体撮像装置を提供する。
【解決手段】固体撮像装置100は、半導体基板1に形成された、受光部を有する複数の画素2と、複数の画素2で生じた電気信号を転送するためのシフトレジスタ部3、4と、シフトレジスタ部3、4に接続され、シフトレジスタ部3、4から転送された電気信号を出力する出力部5と、シフトレジスタ部3、4および出力部5のそれぞれに接続された複数のボンディングパッド6とを備え、複数のボンディングパッド6のそれぞれは、ウェハテストを行うためのプローブ針を接触させるための凹部8を有している。 (もっと読む)


【課題】 電子増倍率を正確に測定可能な電子増倍率の測定方法を提供する。
【解決手段】 固体撮像素子10を備える電子増倍型撮像装置1において、予め設定された所定の電子増倍率で、第1光量の入射光による第1増倍画像と、第2の光量の入射光による第2増倍画像と、を取得し、第1増倍画像に含まれる画素の輝度平均値及び輝度分散平均値と、第2増倍画像に含まれる画素の輝度平均値及び輝度分散平均値と、を算出する。そして、算出した輝度平均値及び輝度分散平均値を用いて、第1及び第2増倍画像の変換係数を算出し、算出した変換係数と、予め保持する基準電子増倍率における変換係数と、を用いて固体撮像素子10の実際の電子増倍率を算出する。 (もっと読む)


【課題】
画素毎に固定した増幅器が割り当てられる撮像素子において、MOSFETの特性バラつきによる各増幅器の特性差を測定する際に、光を均一に当てるテスタを用いずに測定する手段を提供する。
【解決手段】
フォトダイオード1に蓄積された電荷をキャパシタ3に蓄積する代わりに、電荷注入スイッチ8を用いてキャパシタ3に電荷を蓄積する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的画素欠陥検査と、画像分析による画素欠陥検査を行うことができ、歩留まりを向上させる固体撮像素子の検査装置及び検査方法を提供する。
【解決手段】本発明の固体撮像素子検査装置は、複数の画素が形成された固体撮像素子2に対して電気的欠陥検査を行う接触型のプローブ121bを備えるテスタ11と、テスタ11による欠陥画素の検出結果に基づき、欠陥画素が検出された固体撮像素子を撮像する撮像部123、及び、撮像部123からの出力画像を基に異物の有無を検出する画像分析部(例えば、画像分析部112)を備えるプローバ12とを含む。 (もっと読む)


【課題】温度測定手段を容易に配設して、ダーク信号量を正確に求めて撮像を行うことができる撮像装置を提供することを目的とする。
【解決手段】X線変換層23などを保持するベース板41に温度センサ10を配設し、X線変換層23周辺の温度を複数に測定して、X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を温度センサ10は得る。したがって、温度センサ10が設けられた箇所から離れた領域においても温度を正確に求めることができ、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報との相関関係、および温度センサ10で測定されたX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報に基づいて、ダーク信号量算出の機能はダーク信号量を正確に求めることができる。 (もっと読む)


【課題】周辺部から生じる異常による画素劣化及び異常の発生位置を適切に検出する。
【解決手段】放射線検出器60は、放射線が照射されることにより電荷を発生する光電変換部72及び光電変換部72に発生した電荷を読み出すためのTFTを備えた画素部74がマトリクス状に複数設けられた検出領域84を有しており、検出領域84が、放射線画像を示す画像情報を生成する放射線画像領域84Aと放射線画像領域の外周部に設けられた状態検出領域84Bとに区画されている。制御部92により、状態検出領域84Bの画素の情報と予め定めた基準値とを比較して、割れや封止不良などにより放射線検出器60の周辺部から生じる異常を検出する。 (もっと読む)


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