【課題】欠陥画像がない場合又は欠陥画像が少数しかない場合でも、撮像された基板の検査対象画像から当該基板の欠陥を適切に分類する手段の提供。
【解決手段】欠陥分類装置２００は、設計手段２０１と診断手段２０２を有している。設計手段２０１ではモデル生成部２１３において、テンプレート記憶部２１２内の欠陥テンプレートと教示用画像を合成して欠陥モデルを生成する。第１の分類クラス設定部２１４では、欠陥モデルにおける欠陥の特徴量を算出し、欠陥の分類クラスを設定する。欠陥の特徴量と分類クラスとの関係は、記憶部２２０に記憶される。診断手段２０２では特徴量算出部２３２において、ウェハの検査対象画像から欠陥の特徴量を算出する。分類部２３３では、特徴量算出部２３２で算出された欠陥の特徴量に基づいて、記憶部２２０内の欠陥の特徴量と分類クラスとの関係から、ウェハの欠陥を分類クラスに分類する。 （もっと読む）

【課題】複数の図形要素のベクトルデータである入力データをランレングスデータである出力データに変換する際に、複数の図形要素間に不必要な隙間が生じることを防止しつつ収縮処理を迅速に行う。
【解決手段】データ変換装置では、ランレングス生成の単位となる単位領域８００に垂直な方向に図形要素が収縮されて収縮図形要素８２ａ，８６ａが生成され、収縮図形要素８６ａの左側、および、収縮図形要素８２ａの右側に、収縮幅の２倍の幅を有する第１仮図形要素８６１および第２仮図形要素８２２が生成される。そして、各単位領域８００と重なる第１仮図形要素および第２仮図形要素のランレングスの論理積が求められ、当該論理積と注目単位領域に重なる収縮図形要素のランレングスとの論理和が単位ランレングスデータとされる。これにより、複数の図形要素間に不必要な隙間が生じることを防止しつつ収縮処理を迅速に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明にあっては、粗いムラと細かいムラが混在した周期性の乏しいムラであっても、定量的にムラの度合いを測定することが可能なムラ測定方法を提供することを課題とする。
【解決手段】固体撮像素子を備える撮像装置によって前記物体を撮像するステップと、前記固体撮像素子により撮像された前記物体の画像に対し多重解像度解析をおこなうことにより画像を周波数毎の成分に分解するステップと、前記周波数毎に分解された成分に視覚系の周波数毎の感度を掛け合わせるステップとを備えることを特徴とする物体のムラ測定方法とした。また、前記固体撮像素子を備える撮像装置によって前記物体を撮像するステップにおいて、前記物体を照射する照明光が物体表面で正反射する方向から物体を撮像することを特徴とする測定方法とした。 （もっと読む）

【目的】検査対象試料の被検査パターン画像を適切に検査するために、検査基準パターンの画像を適切に補正した補正画像を生成する装置及びその方法を提供する。
【構成】被検査パターン画像と検査基準パターン画像の位置合わせを行い、サブ画素単位の相対シフト量を算出し、検査基準パターン画像を、この相対シフト量に基づいて垂直または水平方向のいずれか一方のシフト方向にシフトさせ、第１の線形予測モデルを用い検査基準パターン画像を上記シフト方向と垂直方向に補正して第１の補正パターン画像を生成し、第２の線形予測モデルを用い第１の補正パターン画像を、上記シフト方向と同一方向に補正して、第２の補正パターン画像を生成する補正パターン画像生成装置および補正パターン画像生成方法。 （もっと読む）

【課題】多値画像を比較するパターン検査において、２枚の画像が高周波領域にある場合に発生しやすい擬似欠陥の誤検出を防止して、欠陥検出精度を高くする。
【解決手段】特徴量算出部２１は、参照画像と被検査画像について着目画素の近傍における画素値の空間的変化量ΔＲＥＦ、ΔＯＢＪを画素ごとに求める。２つの空間的変化量の比較結果に応じて、被検査画像の着目画素と参照画像の着目画素のうち一方が許容画素、他方がターゲット画素として選択される。比較部２７は、許容画素に対して設定された許容範囲を考慮して、許容画素とターゲット画素の間で画素値の差分値ＶＴＭを求める。比較結果補正部２８は、２つの空間的変化量に基づき、差分値ＶＴＭを補正する。欠陥判定部３２は、補正後の差分値ＳＵＢに基づき被検査物における欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】入力画像の対象物対応領域がテンプレート画像の対象物領域と比べて変形している場合や、入力画像にノイズが重畳している場合でも、対象物を正しく検出することができる（検出したかどうかの判断が可能となる）一致度を計算する。
【解決手段】入力画像と、対象物のテンプレート画像とを対比し、入力画像とテンプレート画像との一致度を計算する一致度計算装置であって、入力画像を、テンプレート対象物領域と整合するように変形する変形手段と、変形後の入力画像とテンプレート画像との一致度を計算する手段とを備え、前記変形手段は、入力画像の対象物対応領域において、テンプレート対象物領域の形状に合わせて非背景領域を整形する手段と、入力画像の対象物非対応領域において、テンプレート対象物対応領域に接する非背景領域を、前記一致度に影響を与えないように設定する処理手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターンを有する試料の外観検査において、欠陥検出精度が欠陥サイズに依らないパターン検査装置を提供する。
【解決手段】繰り返しパターンを有する試料の外観検査を行うパターン検査装置であって、画像データ中の注目画素に対して繰り返しパターンのパターンピッチの距離だけ離れた複数の画素を比較画素とし、前記比較画素が既に欠陥部と判定されていた場合には、前記欠陥部の比較画素の代わりに、前記注目画素からパターンピッチの整数倍離れ、かつ、既に正常部と判定された点を比較画素と再設定し、前記注目画素および前記比較画素の輝度データを大小で並び替えて中央値を設定し、前記注目画素の輝度データと前記中央値を比較することにより前記注目画素の良否判定を行うことを特徴とするパターン検査装置である。 （もっと読む）

【目的】より実画像に近い参照画像を生成可能なパターン検査を行う装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、サンプル光学画像データをＮ倍の解像度に変換する倍率変換部５０と、サンプル光学画像データのＮ倍の解像度で対応する階調値を定義した設計画像データと所定の低域ろ過関数とを畳み込み積分するＬＰＦ５４と、この設計画像データと所定の光学モデル関数とを畳み込み積分するＰＳＦ５６と、これらの画像データを用いて光学モデル関数の係数を取得する係数取得部１４２と、パターン形成された被検査試料の実光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、係数を用いて、前記被検査試料の実光学画像データに対応する参照画像データを作成する参照回路１１２と、実光学画像データと参照画像データを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料の部分透視画像どうしを接合して全体透視画像を構築するに当たり、凹凸の存在する試料等であっても、従来に比して接合部分での像の繋がりをより良好なものとすることのできるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】互いに隣接する部分透視画像を接合する際、双方の部分透視画像について、相互に接合すべき辺の近傍領域の画素の輝度情報に基づいて、例えばその領域の輝度の平均値よりも明るい画素群等、当該領域の画素のうちの一部の画素の輝度情報を用いて、当該辺に沿った輝度情報の分布が双方の部分透視画像において互いに最も類似する箇所を、相互に接合すべき箇所と決定して接合することにより、凹凸の存在する試料等においては例えば試料厚さの薄い部分の像を主眼とした接合を実現し、全体透視画像上における像の接合の違和感をなくすことを可能とする。 （もっと読む）

【目的】参照画像生成モデルの精度をより向上させることが可能なパターン検査方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査方法は、サンプル光学画像データと設計画像データを入力し、参照画像作成モデル関数の複数の係数を取得する工程（Ｓ１０２）と、複数の係数の１つを用いて作成された参照画像データと被検査試料の実光学画像データとを比較して、欠陥候補パターンを検出する工程（Ｓ１０８）と、欠陥候補パターンを含む参照画像データについて、残りの係数を用いて、作成された残りの係数分の参照画像データと欠陥候補パターンを含む実光学画像データとを比較する工程（Ｓ１１２）と、複数の係数分の各参照画像データと欠陥候補パターンを含む実光学画像データとの複数の比較結果のうち、所定の条件に沿った比較結果を出力する工程（Ｓ１２０）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一様な照明変化ではなく各スペクトルが変動した場合において、画像の照合が困難であった。
【解決手段】基準画像の各画素と、対象画像の各画素について、２以上の色成分を取得する色成分取得部と、基準画像の各画素の色成分ごとに、方向符号値を算出し、１以上の方向符号値の集合である第一の方向符号値群を取得し、かつ、対象画像の各画素の色成分ごとに、方向符号値を算出し、１以上の方向符号値の集合である第二の方向符号値群を取得する方向符号値算出部と、色成分ごとの第一の方向符号値群と、色成分ごとの第二の方向符号値群との類似度である第一の類似度を算出し、当該色成分ごとの第一の類似度を用いて、基準画像と対象画像との類似度である第二の類似度を算出する類似度算出部と、第二の類似度を出力する類似度出力部を具備する画像処理装置により、カラー画像の類似度の精度の高い検出が可能となる。 （もっと読む）

【課題】イメージスキャナを用いて低コストで上面に印刷された半田付け状態を人手を介さず、連続して検査することができる装置を提供する。
【解決手段】検査装置1は、少なくとも１本のガイド軸21に沿って移動し、画像読取り部54を下側に向けて画像を走査する読取りモジュール5及び該読取りモジュール5を水平状態に支持する水平支持部材を具えたイメージスキャナ2と、該イメージスキャナ2の画像読取り部54の下側に検査対象物であるプリント基板4を搬送するコンベアベルト32と、読取りモジュール5が走査した画像を処理してモニター11に表示する手段を設けている。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成により、検査対象に応じて平面画像と斜め画像の撮影の切換えが可能な基板検査装置および基板検査方法を提供する。
【解決手段】本基板検査装置は、基板上の被検査対象ａに上方から照明光を照射する上側照明具１１０と、斜め側方から照明光を照射する下側照明具１２０と、上側照明具および下側照明具の軸中心上方に設けられた撮影部１３０と、撮影部と被検査対象との間に挿入可能に設けられた斜め画像を撮影しうるように撮影部の光路を被検査対象の斜め方向に誘導する光学手段１４０と、光学手段を移動、回転させることより平面画像と斜め画像の撮影の切換えおよび斜め画像の撮影方向の変更を行う光路変更手段１５０と、これらを制御すると共に、撮影した画像に基づいて被検査対象の状態の良否を判定する制御手段２００と、を備える。この基板検査装置は、さらに、スリット光照射手段１９０を備えることができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明では、同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画
像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いな
どから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する
。また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置
を実現する。
【解決手段】
上記課題を解決するために、本発明では、同一パターンとなるように形成された２つの
パターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査
装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成した。
また、パターン検査装置を、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変
換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であ
っても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【目的】検査対象試料の被検査パターン画像を適切に検査するために、検査基準パターンの画像を適切に補正した補正画像を生成する装置及びその方法を提供する。
【構成】パターン検査用の補正パターン画像生成装置であって、アシストパターン画像と、被検査パターン画像とを合成してアシストパターン付き被検査パターン画像を生成する第１のパターン合成部と、アシストパターンシフト処理部と、シフトさせたアシストパターン画像と検査基準パターン画像とを合成してアシストパターン付き検査基準パターン画像を生成する第２のパターン合成部と、アシストパターン付き被検査パターン画像と、アシストパターン付き検査基準パターン画像を用いて位置シフトモデルを生成するモデル生成部と、検査基準パターン画像の補正を行う補正パターン画像演算部とを備えたことを特徴とする補正パターン画像生成装置。 （もっと読む）

【課題】複数のプロセッサエレメント（ＰＥ）からなる複数のマルチプロセッサユニットを有する画像処理装置において、プロセッサエレメント（ＰＥ）のハードウェアのメモリサイズ制約により、メモリサイズ制約を超える画像処理プログラムを格納することが不可能であることから、複数の画像処理プログラムでの欠陥判定処理機能を実現するのが困難である。
【解決手段】全体制御コンピュータでは、複数の画像処理プログラムを保持しておき、複数のマルチプロセッサユニット内の各プロセッサエレメント（ＰＥ）のメモリ空間に対して、画像処理プログラムのダウンロードを実行することで画像処理プログラムを入れ替え、各プロセッサエレメント（ＰＥ）では、全体制御コンピュータから初期値ファイルを読み取ることで、ダウンロードされた画像処理プログラムを用いた欠陥判定処理を行う。 （もっと読む）

【課題】振動環境下でも被写体の鮮明な画像を取得する。
【解決手段】制御部９は、顕微鏡部２を介して撮像部３が撮像した被写体の画像または振動センサ１０の出力に基づいて、基板１に生じる振動のパターンを調べ、そのパターンに基づいて撮像時間Ｔと撮像間隔ｄｔを導出する。制御部９は、撮像間隔ｄｔでｎ（＝Ｔ／ｄｔ）枚の観察画像を撮像するための制御を行う。観察画像のデータは画像入力部４により取り込まれ、画像メモリ５に格納される。比較判断部６は各観察画像のコントラスト値を算出し、その比較結果に基づいてｎ枚の観察画像の中から被写体の鮮明な観察画像を選択する。 （もっと読む）

【課題】
従来のパターンマッチング方法は、登録されているｎ個の基準パターンについてマッチングを行うため、パターンマッチングの回数が飛躍的に増大し、パターンマッチングのスループットの効率が悪い。
【解決手段】
撮像したＴＶカメラの画像の所定部分のパターンと複数の基準パターンとを比較してパターンマッチングを行うパターンマッチング方法において、上記複数の基準パターンのそれぞれが重み付され、上記複数の基準パターンの一つの基準パターンが上記被測定物の所定部分のパターンと一致した場合、上記一致した基準パターンの重みを変更すると共に、上記被測定物の所定部分のパターンと上記複数の基準パターンとのパターンマッチングを行う場合、上記重み付された複数の基準パターンの内、重みの高い基準パターンから順次上記被測定物の所定部分のパターンとパターンマッチングをするように構成される。 （もっと読む）

【課題】試料の表面の撮像画像を用いて試料表面の反復パターンを検査するパターン検査において、撮像画像内で検査を行うべき検査領域の設定を容易化する。
【解決手段】パターン検査装置１は、試料２の撮像画像とこの撮像画像を反復パターンの繰り返し方向へ繰り返し周期の整数倍となる距離をずらした画像との間の第１の差画像を生成する第１差画像生成部３４と、第１の差画像にて画素値の分散又は標準偏差が第１の閾値よりも小さい第１の候補領域を設定する第１候補領域設定部３５と、撮像画像とこの撮像画像を上記繰り返し方向へ上記繰り返し周期の整数倍ではない距離をずらした画像との間の第２の差画像を生成する第２画像生成部３６と、第２の差画像内にて画素値の分散又は標準偏差が第２の閾値よりも大きい第２の候補領域を設定する第２候補領域設定部３７と、第１及び第２の候補領域の重複部分を検査領域として設定する検査領域決定部３８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】反復パターンが形成された試料の表面上の相互に同一であるべきパターンを撮像した検査画像と参照画像とを比較して、その相違部分を所定の検出感度の下で各々検出し、これら相違部分の存在箇所を反復パターンの欠陥として検出するパターン検査において、検査開始時に行われる検出感度の設定に要する時間を短縮する。
【解決手段】所定の第１仮検出感度の下で検査画像と参照画像との相違部分が存在する箇所を欠陥候補として検出し（Ｓ１３）、各欠陥候補の箇所における検査画像と参照画像との間の差画像を所定の記憶手段に各々記憶し（Ｓ１４）、この差画像のグレイレベル値と第２仮検出感度とを比較することによって、Ｓ１３で検出された欠陥候補の各々のうち第２仮検出感度の下で検出される欠陥候補の集合を得る。 （もっと読む）