【課題】 観察装置及び加工装置の少なくともいずれかにおいて、簡素化された移動機構によって作業効率を低下させないことを目的とする。
【解決手段】 試料６を保持する試料ステージ７を備える複合装置において、試料ステージ７を、観察装置の観察位置又は加工装置の加工位置の近傍に移動する試料ステージ移動手段と、試料ステージ７上で、試料６を観察位置又は加工位置に移動する試料移動手段と、試料ステージ７が移動しているときでも、試料６と試料ステージ７の相対位置関係を保持する手段と、を備える。また、試料ステージ７が停止した際に位置を観察位置又は加工位置に調整する手段をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】 機構の駆動に高電圧を必要とせず試料の把持に際し試料へのダメージを与えることがなく、しかも微細なサンプルを人為的ミスによる破損・紛失することなく、操作に熟練技術を要することもないＴＥＭ試料の安全迅速なハンドリング手法を提示すること、また、それを実現する構造的にも単純な微小サンプルホルダを提供する。
【解決手段】 本発明の常閉型微小サンプルホルダは、半導体シリコンプロセス技術によって作製されたものであって、試料を把持する２本の針状体１ａ，１ｂからなる先端部材を有し、該２本の針状体は常時近接又は所定の間隙を持って対向配置されると共に、電極間に電圧が与えられると前記２本の針状体を離反駆動させる静電アクチュエータ２ａ，２ｂとを備え、電圧が印加されると前記２本の針状体の間隔が開き、電圧が解除されると弾性力で間隔が戻るようにした。 （もっと読む）

【課題】 試料の断面構造を観察・解析する場合、試料の温度を調整した状態で断面を加工する。
【解決手段】 試料室内で試料の断面を評価する装置であって、該試料を載置する試料ステージと、該試料の温度を調整するための温度調整手段と、該試料の断面加工、及び観察を行うため該試料に対してイオンビームを照射するイオンビーム発生手段と、前記イオンビームの試料観察の照射に応じて前記試料から放出される放出信号を検出する検出手段とを備えている。前記温度調整手段により前記試料を予め設定された温度に調整した状態で、前記イオンビーム発生手段によるイオンビームの照射、及び前記検出手段による放出信号の検出を行う。 （もっと読む）

【課題】 被加工物の加工時の変形・変質を十分に抑制できる試料保持用プローブ及び試料の製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の試料保持用プローブは、試料を保持する試料保持部を有するプローブ本体と、該プローブ本体を冷却する冷却部とを備える。 （もっと読む）

【課題】電子カラムをモーショニングさせ、試料の動きを最小化することによって、従来の装置に比べ、装置を小型化することを目的とし、さらに、電子カラムを多重化し、モーショニングを可能にして使用することにより、短時間に多くの電子ビームで多くの単位表面積をスキャンして時間的にも有利な装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子ビームを放出する電子カラムと前記電子ビームが照射される試料間に相対運動を与えるモーショニング装置を提供する。このモーショニング装置は、試料に電子ビームを放出するマルチマイクロカラム；前記マイクロカラムを支持する支持部；および前記支持部を動かして前記マイクロカラムを移動させる駆動手段；前記試料を低真空または高真空に維持するための真空室；を含む。 （もっと読む）