【課題】試料表面に膜を施すことなく試料表面の電荷を平衡に保ち安定した試料の加工および観察が可能な荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】マイクロプローブ１２に固定部５０１を介して固定された枠状の導電板１９を絶縁性試料７に接地（接触）させる。その状態で、導電板１９の枠内にイオンビーム１６を試料７に照射して、加工もしくは観察を行う。このとき、試料７上の電荷は、導電板１９及びマイクロプローブ１２を介して装置方向に移動するため、試料７の表面がチャージアップすることが防止される。加工、観察が終了したら、導電板１９を試料７上から離すため、マイクロプローブ１２を動かし、退避させる。 （もっと読む）

【課題】コレクター電極、これを備えた電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射処理装置において、特別な機構及び処理を施すことなく安定した動作を有する装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射装置において、非磁性のニッケル系合金からなる筒状のコレクター電極及び前記コレクター電極に巻装された高周波誘導コイルを備えるように構成した。 （もっと読む）

【課題】コレクター電極、これを備えた電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射処理装置において、特別な機構を付加することなく安定した動作を有する装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射装置において、導電体から成る筒状のコレクター電極及びコレクター電極に巻装された高周波誘導コイルを備え、コレクター電極は側面に開口部を有し、開口部が高周波誘導コイルの高圧側端部に対応して配置されるように構成した。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子光学装置において試料キャリアの温度を決定する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、荷電粒子光学装置において試料キャリアの温度を決定する方法に関し、該方法は、荷電粒子のビームを用いた試料キャリアの観測を含み、その観測は、その試料キャリアの温度に関する情報を与える。本発明は、TEM、STEM、SEM又はFIBなどの荷電粒子光学装置が、試料キャリアの温度に関する変化を観測するために使用することができるという見識に基づく。その変化は、力学的変化（例えば、二次金属）、結晶学的変化（例えば、ぺロブスカイトの）、及び発光変化（強度又は減衰期間）であってよい。望ましい実施形態において、異なる熱膨張係数を持つ金属（208、210）を示す2つの二次金属（210a、210b）を示し、反対方向に湾曲する。その2つの二次金属間の距離は、温度計として使用され得る。 （もっと読む）

【課題】
帯電防止用ガスの対物レンズを含む光学系への進入を抑制することのできる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】
荷電粒子源と、試料台１４と、荷電粒子線を試料７上に収束させる光学系（５）と、真空排気系と、荷電粒子線の照射による試料７の帯電を防止するガスを試料７に吹き付ける吹き付けノズル１６とを備えた荷電粒子線装置において、吹き付けノズル１６は、ガスの進行方向に垂直な断面の面積が先端部で小さくなり、最小値をもった後に大きくなる構造を有する。これにより、ガス流の指向性を高め、ガス拡散を低減する。また、吹き付けガスを排気する排気ダクト２９を設け、ガス拡散を低減する。 （もっと読む）

【課題】
試料へのダメージが少なく加工効率に優れたイオンミリング装置、更には平面加工および断面加工にも柔軟に対応できる処理能力の高い装置を提供する。
【解決手段】
個別に制御可能な複数のイオン銃3を一つ試料室5に設け、このイオン銃3に対応して複数の試料1を試料ステージ8に設置する。複数のイオン銃3および試料ステージ8は制御装置９によって個別に制御可能であり、複数のイオン銃3を同時に作動させ、試料ステージ8をスイング又は傾斜・回転するすることで、複数の試料を同時に平面加工もしくは断面加工する。 （もっと読む）

【課題】従来のシリコンの水素化物やハロゲン化物を原料ガスとして用いたデポジションに比べ、高速な半導体膜デポジションが可能な荷電粒子ビーム装置を提供すること。
【解決手段】荷電粒子源１と、集束レンズ電極２と、ブランキング電極３と、走査電極４と、試料９を載置するための試料台１０と、荷電粒子ビーム照射により試料９から発生する二次荷電粒子７を検出する二次荷電粒子検出器８と、シクロペンタシランを原料ガスとして収容するリザーバ１４と、原料ガスを試料９に供給するガス銃１１と、を備える荷電粒子ビーム装置を用いる。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡法（ＴＥＭ）研究に適した材料試料（ＴＥＭ「薄片」）、特にＨＲＴＥＭ薄片（ＨＲ＝高分解能）、その製造プロセス、及び当該プロセスを実行する装置。
【解決手段】ＴＥＭ薄片を製造するプロセスは、厚さを有する板状基板を支持体に取り付けるステップ（Ｓ１）と、第１ストリップ状凹部を基板の第１面に、支持体に対して第１角度で、粒子ビームを用いて製造するステップ（Ｓ３）と、第２ストリップ状凹部を基板の第２面に、支持体に対して第２角度で、粒子ビームを用いて製造するステップ（Ｓ５）であって、第１ストリップ状凹部第２ストリップ状凹部が、薄肉の重なり領域を形成するようにする。薄片は、厚肉のリム領域及び薄肉の中央領域を有し、第１ストリップ状凹部を薄片の第１の平坦面に、第２ストリップ状凹部を薄片の第２平坦面に有し、第１凹部及び第２凹部は、相互に鋭角又は直角を形成する。 （もっと読む）

【課題】距離に依存せずに高い精度で位置制御が可能な位置制御装置を提供する。
【解決手段】位置制御装置１００は、第１情報を取得し、前記第１情報から特定される基準位置Ｂとステージ１との間の距離と所望の距離との差が、所与の範囲に含まれるか否かを判定し、前記所与の範囲に含まれない場合には、前記差が前記所与の範囲に含まれるようにステージ１の位置を制御する第１位置制御処理を行う第１制御手段３１と、前記差が前記所与の範囲に含まれる場合には、前記第２情報を取得し、前記第２情報から特定される基準位置１とステージＢとの間の距離に基づいて、基準位置Ｂとステージ１との間の距離が前記所望の距離となるようにステージ１の位置を制御する第２位置制御処理を行う第２制御手段３２と、を含む。 （もっと読む）

【課題】イオンミリング装置において、高い熱伝導性と耐久性とを兼ね揃えた冷却装置を実現する。
【解決手段】
真空外の冷却源と真空内の試料および試料台とを接続する熱伝達手段として、樹脂チューブの内部に、イオン液体を充填した金属製の編み線が設置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ラメラを作製するための方法およびシステムを開示する。
【解決手段】方法は、マスクおよび試料のアラインメントをマニピュレータによって実行するステップ、マスクと試料との間の空間的関係を変化させることなく、マスクおよび試料をイオンミリング装置の前に配置するステップ、試料の第１露出部分を、ラメラの第１側壁が露出するまでミリングするステップ、マスクが試料の第２マスキング部分を遮蔽するように、マスクおよび試料をイオンミリング装置の前に配置するステップ、ラメラの第２側壁が露出するまで試料の第２露出部分をイオンミリング装置によってミリングするステップ、ミリング装置によってラメラの両側から物質を除去するステップ；および試料からラメラを切り離すステップを含む。 （もっと読む）

【課題】対比観察や画像合成に際して、対応する光学画像と電子顕微鏡画像の対の取得作業を容易にする。
【解決手段】電子線撮像手段１１で取得された電子顕微鏡画像と、光学系撮像手段１２で取得された光学画像を、切り替えて、又は同時に表示するための表示手段と、電子線撮像手段１１又は光学系撮像手段１２のいずれか一方で取得された画像の倍率を認識し、該画像と略同一の表示サイズの画像を他方の観察手段で取得するための倍率を、他方の観察手段の基準に基づく倍率に換算するための倍率換算手段と、電子線撮像手段１１又は光学系撮像手段１２のいずれか一方で取得され表示手段に表示された画像の倍率を取得し、倍率換算手段で換算した換算倍率に他方の観察手段を設定可能かどうかを判定して表示手段に表示するための換算倍率表示手段を備える。 （もっと読む）

【課題】回転による視野の変化を試料台の位置に依らず一定にして変化の把握を容易にする。
【解決手段】内部空間を中空状として減圧可能な試料室を構成する胴部と、胴部の開口端を開閉自在に閉塞し、試料室を気密状態に維持可能な蓋部と、試料室内の電子顕微鏡画像を取得するための電子線撮像手段と、胴部を回転させるための回動手段と、試料室内に設置され、観察対象の試料を載置するための試料載置面を有する試料台３３と、試料台３３をＸＹ方向に線状移動させるためのＸＹ移動機構７５と、試料台３３をＸＹ面と直行するＲ軸を中心として回転移動させるためのＲ軸回転機構７６とを備え、Ｒ軸回転機構７６は、ＸＹ移動機構７５による試料台３３の位置に依らず、回転中心であるＲ軸を電子線撮像手段による観察視野中の所定位置とするＲ軸維持機構７７を備える。 （もっと読む）

【課題】配線で可動範囲が制限されたりすることなく試料又はマスクの位置をより柔軟に調整することができる荷電粒子線装置、試料移動装置、マスク位置調整機構、試料位置調整方法及びマスク位置調整方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の試料ステージ００８に対する試料の位置を調整する試料移動装置０４０であって、ＳＥＭ制御ユニット０１５からの指令に応じて出力指示信号を生成する赤外線ランプ制御ユニット０１４と、赤外線ランプ制御ユニット０１４からの出力指示信号に応じて赤外線信号を照射する赤外線ランプ０１０と、試料ステージ００８上に固定された試料台ホルダー００７と、試料台ホルダー００７に対し変位可能に取り付けた試料台１０２と、赤外線ランプ０１０からの赤外線信号を受光する赤外線センサー１０８と、赤外線センサー１０８で受光した赤外線信号に応じて試料台１０２を駆動するモーター１１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ディスク媒体に同心円状に形成されたトラックのパターンを、回転ステージの回転同期軸振れの影響を受けることなく、適正に検査できるようにする。
【解決手段】本発明のパターン検査装置１は、レジスト膜への電子ビーム照射によりパターン描画されているとともにパターン描画が周方向への回転動作を利用して行われたディスク媒体４のトラックのパターンを検査するものであって、ディスク媒体４が載せられる回転ステージ１４と、この回転ステージ１４に載せられたディスク媒体４に対して電子ビームを照射する照射光学系２と、この照射光学系２による電子ビームの照射によって回転ステージ１４上のディスク媒体４から発生する電子を検出する電子検出器３とを備え、回転ステージ１４は、ディスク媒体４にパターン描画するときに当該ディスク媒体を回転動作させるために用いた回転ステージと同一の回転ステージで構成されている。 （もっと読む）

【課題】試料台とその上に被せられる蓋体を有する試料導入用ホルダーであって、分析の際に、分析装置の外部からの操作を要せずに、蓋を取外して試料を開放することができる試料導入用ホルダーを提供する。
【解決手段】分析用試料を保持する試料台及びこの試料台に被せられる蓋体を有し、前記試料台と蓋体により試料及びガスを包含する空間を形成し、前記空間内と蓋体外部との圧力差が所定値以下では、前記空間内と蓋体外部間が雰囲気遮断状態となるように、試料台と蓋体がかん合しており、かつ前記かん合における試料台と蓋体間の接着力が、前記圧力差が前記所定値を超えたとき前記圧力差により蓋体が試料台上から除去される大きさであることを特徴とする試料導入用ホルダー。 （もっと読む）

【課題】非破壊で且つ高精度にイオンビームの照射位置の位置決めが可能なイオンビーム照射位置決め装置を提供する。
【解決手段】イオンビーム照射位置決め装置は、試料台１０と観察装置２０とイオンビーム装置３０とマッピング処理部４０と位置決め部５０とマニピュレータ６０とからなる。観察装置２０は、試料の顕微鏡像を出力するものである。イオンビーム装置３０は、試料にイオンビームを照射するものである。マッピング処理部４０は、観察装置により得られる顕微鏡像を用いて試料を座標にマッピングする。位置決め部５０では、マッピング処理部によるマッピング座標を用いて、イオンビームの照射位置座標を決定する。そして、イオンビーム装置によるイオンビームの照射前に、マニピュレータ６０により、位置決め部により決定される照射位置座標に対して、観察装置の視軸とイオンビーム装置の視軸とが同軸となるように試料台を移動させる。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度位置決めを実現できるステージ装置，それを用いた荷電粒子線装置及び縮小投影露光装置，およびステージ制御方法を提供することにある。
【解決手段】ステージ装置は、ステージ１０を駆動するモータ３０と、モータにより駆動されるステージの位置が最終目標位置となるような前記アクチュエータの駆動量を算出するステージ制御演算器１００を有する。ステージ制御演算器１００は、ステージの目標位置とステージの位置の差分に基づいて、ＰＩＤ制御する補償演算器１２０を有する。また、ステージの特性を同定するモデル同定器１３０と、モデル同定器によって得られた情報を基に、補償演算器におけるステージ制御用補償パラメータを演算する制御ゲイン演算器１４０を備える。 （もっと読む）

【課題】試料の高さ方向のばらつきを検査する。
【解決手段】試料２９を保持するホルダ２１１と、ホルダ２１１に保持された試料２９帯電処理する帯電制御部２３と、ホルダ２１１に保持された試料２９に電圧を印加するリターディング電源２４と、リターディング電源２４により電圧が印加された試料２９に向けて電子線を照射して、試料２９の表面近傍で引き戻されたミラー電子を結像させる電子光学系２０と、ミラー電子を結像させることで得られたミラー画像を画像処理する画像処理部２７と、を有する。画像処理部２７は、ミラー電子を結像させることで得られたミラー画像と、予め用意された標準品のミラー画像との差に応じた情報を、試料２９の高さ方向のばらつきとして出力する。 （もっと読む）

【課題】ＴＥＭ薄片観察の能力を向上させ、かつその構成において効率よく試料の配置と姿勢を制御することを図ること。
【解決手段】ＦＩＢ鏡筒１のビーム照射軸と、ＳＥＭ鏡筒２のビーム照射軸と、回転可能な台の第一の回転軸が、試料観察位置でそれぞれが互いに略直交に交わり、回転可能な台が第一の回転軸を中心に回転可能な支持部を有し、支持部が試料５を試料観察位置に配置可能な並進機構と接続する。 （もっと読む）