【課題】荷電粒子線を高い効率で「水の窓」領域を含む０．６〜６ｎｍの波長領域の軟Ｘ線に変換すること及び荷電粒子線の試料内での拡散範囲を狭く抑えて試料へのダメージを抑制すること。
【解決手段】
本発明の試料支持部材（１１）は、窒化シリコン膜またはカーボン膜の試料支持膜（１１ａ）の一方主面に、電子線照射により０．６〜６．０ｎｍの波長領域の特性Ｘ線を放射する金属膜（１１ｂ）が設けられている。これは、電子線の照射を受けた金属膜（１１ｂ）から軟Ｘ領域の特性Ｘ線を高効率（高強度）で放射させるためであり、このような高強度の特性Ｘ線を試料（１０）に照射させることにより、観察画像のＳＮ比を向上させることができる。また、金属膜（１１ｂ）には、試料支持膜（１１ａ）内での電子の拡散範囲を抑制するという効果もあるため、入射電子線の加速電圧を高めることが可能となり、ＳＮ比の向上のみならず分解能の向上にも効果がある。 （もっと読む）

【課題】真空容器への適用が可能で、設計自由度及び設置の自由度が高く、メンテナンス性の良い２軸ステージ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る２軸ステージ装置は、Ｙ軸方向に移動可能なＹテーブル４と、Ｙテーブル４上に載置された中間テーブル１５と、中間テーブル１５上に載置され、該中間テーブル１５上に設けられたＸ方向ガイド１１によってＹ軸方向と直交するＸ軸方向に移動可能なＸテーブル９を有している。Ｙ送りねじ５はＹモータ２の回転をＹ軸方向への直線運動に変換し、Ｙテーブル４をＹ軸方向に移動させる。一方、ボールスプライン軸１４はＸモータ７によりＹ軸方向を回転中心として回転する。スプラインナット１４１には歯車１３が固定されており、この歯車１３とＸテーブル９に固定されたラック１２によってボールスプライン軸１４の回転がＸ軸方向への直線運動に変換され、Ｘテーブル９をＸ軸方向に移動させることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は透過型電子顕微鏡の試料作製方法及び試料保持体に関し、試料片への通電を容易に行なうことができる透過型電子顕微鏡の試料作製方法及び試料保持体を提供することを目的としている。
【解決手段】真空外で、半月状の導電性部材１の弦の部分に電気的絶縁膜３を形成し、該電気的絶縁膜３の上に金線４を接着し、アクチュエータを用いて、予め作製されていた試料片を前記半月状の導電性部材１の弦の部分に取り付けて固定し、真空内で、前記試料片部分に電気的導通のためのデポジションを行ない、前記金線４と試料片２ａとの間に導電性プローブを固定のためのデポジションにより取り付け、前記導電性プローブを切断することにより透過型電子顕微鏡の試料を作製するように構成する。 （もっと読む）

【課題】試料台の回転中心位置を特定する回転中心探索方法及び回転中心探索システムを提供する。
【解決手段】観察対象の試料７を固定する平面部４２を有する試料台４１の平面部４２に予め定めた観察点１０を設ける。試料台４１を平面部４２に沿う方向に回転しつつ、観察点１０の各角度における座標を記憶する。記憶された座標に基づいて図形１１を描画する。描画された図形１１の内部の点を試料台４１の平面部４２における回転中心を特定する。 （もっと読む）

【課題】試料ホルダの形状や搭載状態を、ステージマップ上に表示できる表面分析装置を提供する。
【解決手段】複数の試料ホルダを搭載可能な試料ステージ１９、試料ステージ１９を駆動するステージ駆動手段１１、複数の試料ホルダにそれぞれ収納された試料に対して、逐次測定をする測定手段１２を有する測定ユニット１と、ホルダベース、複数の試料ホルダの装着位置座標及び複数の試料ホルダの形状に関する表示情報を生成するマップ表示情報生成手段２３１、複数の試料ホルダの装着位置及び複数の試料ホルダの種類の情報を含む配置情報を生成するホルダ配置情報生成手段２２２、配置情報からホルダ配置図を生成するホルダ配置図生成手段２２３、ホルダ配置図をステージマップ図に合成するステージマップ表示手段２２６を有する演算処理装置２２ａと、ステージマップ図を表示する表示装置２６とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、冷却しながらの荷電粒子による加工もしくは観察を効率的に行うことに関する。特に、熱ダメージの影響が懸念されるような材料を冷却した状態で加工観察することに関する。また、荷電粒子を用いた試料加工法による影響を冷却により効果的に軽減することに関する。
【解決手段】本発明は、イオンビーム照射により試料から摘出された試料片を固定できる試料台と、該試料台を所望方向に回転させる回転機構と、を備え、イオンビーム装置と透過電子線顕微鏡装置に装着可能であり、前記試料台と冷却源とを熱的に接続する可動な熱伝達物と、前記試料台と該熱伝達物質を熱的に外界から隔離する隔離物質を有する試料ホールダに関する。本発明により、効率的に冷却しながら荷電粒子線による加工や観察を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】イオンビーム加工中の試料温度を任意の温度に保ちながらイオンビームエネルギーによる試料の温度上昇を抑制して、試料構造変化などのダメージを抑制して清浄な断面作製を実現する。
【解決手段】本発明は、イオンを発生するイオン銃と、試料を搭載する試料台と、試料と前記イオン銃の間に配置されたマスクと、前記イオン銃から放出されたイオンビームにより、前記マスクから突出した試料を削る加工装置において、前記マスクは前記試料の上面に接触し、当該マスクには、冷却機構が接続されていることを特徴とする。この冷却機構は、温度調節機構であってもよい。また、同様に、前記試料台に冷却機構を備えたことを特徴とする。さらに、前記試料台には、振動発生機構が取り付けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透過光検出用の撮像素子を真空室内部に別途設置することなく、簡易な構成の装置によって、一次線透過部を探し出すことのできる試料検査方法及び装置を提供する。
【解決手段】試料保持体の一次線透過部に保持された試料２１に対して、一次線透過部を介して一次線を照射し、これより試料２１から発生して一次線透過部を通過した二次線を二次線検出手段３により検出して試料像の取得が可能であり、また、試料２１に対して一次線透過部が位置する側とは反対の側から光（照射光）２４を照射し、これによる反射光を検出して試料２１の光学像の取得が可能である試料検査方法及び装置において、照射光２４を試料２１に照射したときに、試料２１を介して一次線透過部を通過する通過光２４ａを二次線検出手段３によって検出することにより、試料２１上への照射光２４の照射領域と一次線透過部との位置合わせを行う。 （もっと読む）

【解決手段】 基板を取り外す前および取り外している間に、基板から蓄積電荷をより効率的に除去する静電クランプを開示する。現時点においては、注入処理後に基板から電荷を除去するべく用いられているメカニズムはリフトピンおよびグラウンドピンのみである。本開示は、グラウンドへの低抵抗経路が１以上追加されているクランプを説明する。このように追加されたコンジットによって、基板をクランプから取り外す前および取り外す間に、蓄積電荷を放散させる。基板１１４の裏面から十分に電荷を取り出すので、基板がクランプに張り付いてしまうという問題を抑制できる。この結果、基板の破損が減る。 （もっと読む）

【課題】試料となるウェーハを割ることなしにウェーハ断面を水平から垂直迄の方向からの断面観察や分析を高分解能，高精度かつ高スループットで行える微小試料加工観察装置および微小試料加工観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、試料からの摘出試料の分離等を自動的に行うことに関する。
【解決手段】本発明は、試料における摘出試料となる領域や、それ以外の領域、若しくは、摘出試料を移送する移送手段や、摘出試料を保持できる試料ホルダに、画像認識の精度を向上させる指標を設け、摘出試料と試料の相対的移動等を高精度に画像認識することに関する。本発明によれば、集束イオンビームを用いた微小試料のサンプリングにおいて、摘出試料と試料との分離加工の終点検知等を自動的に実施できるようになる。このため、例えば、無人化した試料摘出が可能となり、大量の試料作製を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、荷電粒子ビームに対して試料面を傾斜させた場合において、最適な位置にて検出信号を検出することに関する。
【解決手段】本発明は、荷電粒子ビームを試料に照射する荷電粒子線装置において、試料の周囲における複数の所望位置に検出器を移動させ、検出器位置を最適化することに関する。本発明により、試料の姿勢や形状に応じた最適な検出信号を得ることができるため、高精度な試料観察、例えば、ＳＥＭ観察，ＳＴＥＭ観察、及びＦＩＢ観察が可能となる。また、ＦＩＢ−ＳＥＭ装置においては、ＦＩＢ加工の終点検知を高精度に実施することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビーム装置による加工の際、マニピュレータとして微小ピンセットとその回転機構とを用いることで、傾斜機構を必要とせずに試料の向きを変えて試料ホルダへ固定可能な集束イオンビーム装置を提供する。
【解決手段】試料２０を固定するための固定面６２ｓを有する試料ホルダ６２と、試料ホルダが設置されている試料台６１と、集束イオンビームを試料に照射する集束イオンビーム照射機構１２０と、試料を挟持し、その軸方向Ｌが試料台の表面と所定の角度θをなす微小ピンセット５０と、微小ピンセットを開閉させる開閉機構５３と、微小ピンセットを軸方向の周りに回転させる回転機構５４と、微小ピンセットの位置を移動させる移動機構５５とを備えた集束イオンビーム装置１００である。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢ装置に組み込んだ微小マニピュレータ部をその場でエッチング加工することで、従来困難であった１μｍ以下の微小物のハンドリングの確実性を高めるとともに、マニピュレータの再利用により作業効率やメンテナンス性を向上する。
【解決手段】微小マニピュレータ部を位置および向きを変えることのできる移動機構で保持することにより、マニピュレーション作業前にマニピュレータ先端部をＦＩＢ加工するとともに、作業中のマニピュレータ先端の汚染や破損があった場合でも、加工により再度使用可能な形状に再生する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ステージの移動条件に因らず、残留反力を低減するステージ装置、或いはガイド機構の直進性を高めることで、ガイド機構によって生じるステージドリフトを低減するステージ装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、残留反力を決定付けるステージの速度等に応じて、追い越し量を制御する試料ステージ装置を提案する。この構成によって、ステージの移動速度等によって変化する残留反力を低減することが可能になる。また、ガイド機構を押圧する押圧機構であって、ガイド機構を支持する支持部材に回転可能に固定され、当該回転によって、前記案内機構を押圧すると共に、前記回転の回転中心とは異なる中心位置を持つ円形の押圧部を有する試料ステージ装置を提案する。このような構成によれば、押圧機構のトルク管理によって、押圧力を制御できる。 （もっと読む）

【課題】表面に有機物が形成されている試料の断面を精度よく得ることができる断面加工方法及び断面観察試料の製造方法を提供する。
【解決手段】有機物の層又は構造８を表面に有する試料２に、集束イオンビーム装置１００を用いて集束イオンビームを照射し、試料の断面加工位置Ｌに断面加工を行う方法であって、保護膜となる原料ガスの存在下、断面加工位置を含む試料の表面に集束イオンビームを照射し、有機物の層又は構造の表面に保護膜７ａを形成する保護膜形成工程と、保護膜が形成された断面加工位置に、保護膜形成工程における加速電圧より高い電圧で集束イオンビームを照射し、断面加工を行う断面加工工程とを有する試料の断面加工方法である。 （もっと読む）

【課題】試料の加工断面に不要な段差やリデポによる不要な付着物が生じることを確実に防ぐことのできる試料加工装置を提供する。
【解決手段】試料１が載置される試料台３ａと、試料台３ａに載置された試料１を間に挟んで試料台３ａと対向するように配置された遮蔽板２と、遮蔽板２の上方に位置するイオンビーム源とを備え、試料台３ａの先端側に位置する試料１の部分で遮蔽板２の側縁部２ａから露出された箇所１ａに、イオンビーム源からのイオンビーム１０を照射して試料１の加工を行う試料加工装置において、試料台３ａが、遮蔽板２よりも熱膨張率の大きな材料により構成されている。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの照射により断面を露出させた試料を作製するため試料をイオンビームに対する所定位置に保持する試料作製装置において、イオンビームによる試料の加工中にイオンビームを遮断する遮蔽板のイオンビームに接近する方向への移動を防止し、良好な断面が現れた試料を作製する。
【解決手段】基端側を支持され先端側が自由端である第１の支持部材２と、第１の支持部材２の先端側に基端側を支持され先端側が第１の支持部材２の基端側に向けた自由端である第２の支持部材９と、第２の支持部材９に支持された遮蔽板１０と、第２の支持部材９に取り付けられた加熱ヒーター１３を備え、第２の支持部材９は加熱ヒーター１３により加熱せられて前記第１の支持部材の基端側方向に膨張する構造となされ、遮蔽板１０の第１の支持部材２の先端側に向かう一側縁をイオンビームＢの照射位置として保持し、遮蔽板１０によりイオンビームＢが遮蔽される位置に設置された試料１０１の遮蔽板１０の一側縁より露出した箇所への加工を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料を取り外すことなく、試料を多方向から加工することを可能にする、集束イオンビーム加工装置と透過型電子顕微鏡に用いる共用試料ホルダーを提供することを課題とする。
【解決手段】試料ホルダー本体と、回転操作のための突起を有する円弧状回転台と、試料を搭載する試料台であって前記回転台の突起に嵌合するための穴を有する試料台と、前記試料ホルダー本体に装着された前記試料台を当該試料台の上から押さえる試料台押さえ手段と、前記試料台押さえ手段を試料ホルダーに固定する固定手段と、を少なくとも有すると共に、試料ホルダー本体に、ＦＩＢが入射する側の一部に形成されたＦＩＢ加工用の切り欠き部と、ＴＥＭ観察用の電子線通過穴と、該通過穴に沿った円弧状の溝と、が前記円弧状回転台を嵌合可能に形成されており、試料台押さえ手段によって、前記試料ホルダーに前記試料台を固定する試料ホルダーである。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で安価に平面観察用半導体薄片試料を作製することを可能にする集束イオンビーム加工装置の試料ステージおよびこの試料ステージを用いた透過型電子顕微鏡平面観察用半導体薄片試料の作製方法の提供。
【解決手段】試料ステージ面は、該試料ステージ面に対してメッシュ挟持用の傾斜溝を有する。集束イオンビームの照射により試料基板から微小試料片を切り出し、マイクロプローブで分離摘出後、前記試料ステージ面の傾斜溝に挟み込まれたメッシュを、メッシュの側面が前記集束イオンビームに垂直な向きとなるように傾ける。微小試料片の観察平面が集束イオンビームと垂直な向きとなるように前記メッシュの端面に接着した後、傾斜した試料ステージを回転軸の周りに１８０度回転させる。集束イオンビームを照射して透過型電子顕微鏡平面観察用半導体薄片試料を作製する。 （もっと読む）