【課題】 試料を大気中に取り出すことなく試料の断面加工と断面観察が行える荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】 イオン加工時、試料ホルダ２２の第２の被取付部３４がホルダ取付部１６に取付けられる。そして、遮蔽材４０のエッジ部４２から突出した試料部分４１がイオンビームによってエッチングされる。その後、試料ステージが電子光学系の光軸上に配置されて、イオンエッチングで現れた試料断面５０がＳＥＭ観察される。一方、試料表面４５をＳＥＭ観察する場合には、試料ホルダの第１の被取付部３１がホルダ取付部１６に取付けられる。 （もっと読む）

【課題】気体イオンビーム装置とＦＩＢとＳＥＭを用いて、効率よくTEM試料作製ができる複合荷電粒子ビーム装置としての構成方法を提供する。
【解決手段】ＦＩＢ鏡筒１と、ＳＥＭ鏡筒２と、気体イオンビーム鏡筒３と、ユーセントリックチルト機構とユーセントリックチルト軸８と直交する回転軸１０とを持つ回転試料ステージ９と、を含む複合荷電粒子ビーム装置であり、集束イオンビーム４と電子ビーム５と気体イオンビーム６とは、１点で交わり、かつＦＩＢ鏡筒１の軸とＳＥＭ鏡筒２の軸はそれぞれユーセントリックチルト軸８と直交し、かつＦＩＢ鏡筒１の軸と気体イオンビーム鏡筒３の軸とユーセントリックチルト軸８とは一つの平面内にあるように配置する。 （もっと読む）

【課題】それぞれ直交に配置された集束イオンビーム鏡筒と電子ビーム鏡筒を有する複合荷電粒子加工観察装置において、試料ステージを、誤操作なく操作性の良い動作をさせる。
【解決手段】観察像を見て観察位置を動かす際、集束イオンビームと電子ビームの像表示部のそれぞれの座標系で指定した試料ステージ２の移動方向に対して、一つの試料ステージ２をそれぞれの座標系に対応した方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの照射による断面加工において，断面に熱によるダメージを与えないイオンビーム加工方法を提供する。
【解決手段】イオンビームを発射するイオン銃２と，加工すべき試料６を載置する試料台７と，イオンビームの一部を遮蔽する遮蔽板８とを備えるイオンビーム加工装置において，試料６の下面に熱伝導部材９を，試料６の上面に熱伝導部材１０を設けるとともに，熱伝導部材１０を遮蔽板の端部８ａより，ずらして突出させて非遮蔽部10ａを形成し，イオンビームをこの非遮蔽部10ａに照射して，試料６の断面加工処理を行う。断面に加工処理による熱が発生しても，熱伝導部材９，１０を経て外部に熱放出され，高熱による試料断面６ａのダメージを回避できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は試料ホルダ及びマルチビームシステムに関し、プリティルトホルダを用いて薄膜加工とＳＴＥＭ観察を試料の乗せ替え無しに行なうことができる試料ホルダを提供することを目的としている。
【解決手段】透過電子検出器２５を電子光学系の電子ビームが試料２３を透過する延長線上に備え、加工状況を２次電子像と走査透過電子像を少なくとも２種類以上同時或いは交互に観察可能になるように試料配置する試料ホルダを有するマルチビームシステムに用いる試料ホルダであって、所定の厚みまで加工した試料を固定するメッシュ２３ｂと、該メッシュに加工した試料をセットするチップオンカートリッジ３０と、該チップオンカートリッジが取り付けられる試料ホルダ部４０とから構成される。 （もっと読む）

【課題】 ポインティング・デバイスを用いて、顕微鏡システムにおけるステージなどの操作対象を位置制御する情報処理装置、位置制御方法、プログラムおよび記録媒体を提供すること。
【解決手段】 本発明の情報処理装置１１０は、ポインティング・デバイス１１４により指し示される操作画面上の座標値を取得する手段１７２と、この座標値から操作対象の位置の目標値を算出する手段１７４と、操作対象の位置の目標値と現在値との差分を算出する手段１７６と、座標値の取得時間間隔内に操作対象を差分だけ移動させるために必要な速度から、予め設定された平滑化係数に応じて減速した値として、操作対象を駆動する同期モータのパルススピードの目標値を算出する手段１８０と、差分が有り、かつ、順方向の駆動信号が出力されている場合に、算出されたパルススピードの目標値を設定し、このパルススピードの目標値に向けた加減速制御を指令する手段１８４とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、上記の問題点を鑑み、材料やイオンビーム照射角度に依存しない加工をする手法を提供することを目的としている。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、イオンビームを試料に照射して試料を加工する加工装置において、前記イオンビームに対し、試料を回転傾斜させる試料傾斜回転機構を備え、当該試料回転機構は、試料をイオンビームに対し回転させる回転軸と、当該回転軸に対して直行し、前記試料をイオンビームに対して傾斜させる傾斜軸を備え、前記試料の回転と傾斜を同時に行うことを特徴とする加工装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】トップテーブルの小型化と、トップテーブル質量の軽量化を実現しつつ、かつ長尺の反射体を必要とせず真空試料室の小型化が可能な真空内処理装置ないし荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】測長に使用する一対の干渉計および反射体の両者が可動となるようステージを構成し、かつステージが持つ複数の移動軸のうち上記一対の干渉計および反射体によって測長が行われる方向とは交差する移動軸と平行な方向に対して、上記一対の干渉計および反射体が互いに対向する状態を保ったまま移動できるようにステージを構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ホトマスクの表裏面に押圧部材を押し当てることなく、ホトマスクの搬送及び測定，検査時に、当該ホトマスクの除電を行う試料保持装置の提案を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、真空試料室と、予備排気室との間で搬送され、ホトマスクを保持する試料保持装置であって、ホトマスクのパターンが形成された面を正面としたときに、ホトマスクの側面よりホトマスクを押圧する押圧機構を備え、押圧機構は、ホトマスクの側面に平行な回転軸を持つ回転部材を有し、回転部材は、回転軸と交差する２つの辺の間に形成される頂角部を有し、頂角部が前記ホトマスクの側部との接触部となるように構成した。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの照射による断面加工において，断面に熱によるダメージを与えず，加工面に荒れを生じさせないイオンビーム加工方法を提供する。
【解決手段】加工すべき試料６にイオンビームを発射するイオン銃２と，試料６を下面に装着しイオンビームの一部を遮蔽する遮蔽板７とを備えるイオンビーム加工装置において，試料６の断面作成側の側面６ａに，熱伝導部材８を接触して設け、試料の上面６ｃを遮蔽板の端部７ａより、ずらして突出させて被加工部６ｂを形成し，イオンビーム４を，この被加工部６ｂの上面６ｃ，熱伝導部材８の側面近傍の上面８ｂに照射して，試料６の被加工部６ｂを研削し，加工処理を行う。断面に，加工処理による熱が発生しても，熱伝導部材８を経て外部に熱放出され，熱によるダメージで断面に荒れが生じるのを回避できる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、加工や観察を所望する微小領域を急冷しつつ、試料汚染や霜付着を防止することに関する。
【解決手段】本発明は、気体もしくは液体を直接試料に吹き付けることにより、加工・観察を所望する微小領域を急冷することに関する。冷媒の照射量と照射位置を切り替えることにより、試料汚染や霜付着を防止できる。本発明によれば、冷却条件下であっても試料汚染や霜付着を防止できる。これにより、例えば、冷却条件下における試料への保護膜形成を効果的に行うことできる。 （もっと読む）

【課題】 試料に電子線を照射してＸ線分析を行なう電子線装置において、高感度のＸ線検出を行なうと共に、試料とＸ線検出器の装置への脱着を簡易に行なうことのできる試料ホルダを提供する。
【解決手段】 サイドエントリー型の試料ホルダＳＨの先端部に試料台支持部材３１で支持されたシリコンドリフト型Ｘ線検出器を組み込む。Ｘ線検出素子１の上に分析試料Ｓを直接載置する。試料位置移動はレバー３２により試料台支持部材３１を動かすことにより行なう。電子線ＥＢにより試料Ｓから発生した特性Ｘ線は、試料の直下にあるＸ線検出素子１により高感度で検出される。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】電子顕微鏡において温度制御デバイスを用いる方法。デバイス構造の温度を制御して、以前は取得することができなかった反応及びプロセスに関する情報を抽出することを可能とする。 （もっと読む）

【課題】検査装置内部の汚染に起因した、形状観察、寸法精度の観察分解能の低下を防止及び観察対象の汚染を抑制する。
【解決手段】検査装置内部の汚染をモニターする手段として、固体表面に汚染成分を吸着し、吸着した汚染成分を加熱ガス化して気体分析装置により検出する。
モニターした汚染量に応じて、検査装置内の清浄化を実施する。検査装置清浄化は、試料観察室に酸素の活性種を生成する手段を設け、観察室内部に残留している汚染を低減し、汚染影響による観察分解能の低下が少ない形状観察や寸法測定を可能とするとともに、観察対象の試料の汚染を防止する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、放出ガスの発生個所であると考えられる摺動部から放出される放出ガスを高効率、且つ簡単な構成で除去する真空排気方法及び真空排気装置の提供にある。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、真空室内に移動装置を備えた真空装置において、前記移動装置の移動に伴って、摺動する摺動機構を備え、当該摺動機構の被摺動部を、活性金属材料を含むゲッタ面とし、摺動部を当該ゲッタ面を摩擦する摩擦部材とすることを特徴とする真空装置、及び移動機構の移動に伴って、活性金属材料表面を摩擦することで、ゲッタ面を新生する真空排気方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、微小試料片およびまたはその周辺領域を汚染することなく、確実で安定的な微小試料片の分離、摘出、格納を行う装置および方法を提供することにある
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【解決手段】試料基板から観察すべき領域を含む試料片をイオンビームスパッタ法により分離し、試料を押し込んで保持し、引き抜いて分離するための、根元に比較して先端が細く、該先端部が割れている形状で、該形状により得られる試料片を保持する部位の弾性変形による力で試料片を保持する棒状部材からなるはり部材を用いて、前記試料片を試料基板から摘出し、試料片を載置するための載置台上へ移動させた後、前記はり部材と前記試料片を分離することで該試料片の格納を行う。 （もっと読む）