【課題】 本発明は第1ホルダ(40)内の第1位置から第2ホルダ(10)内の第2位置へ、及び/又はその逆へ試料(2)を搬送する搬送機構に関する。
【解決手段】 各ホルダ(10,40)は脱着可能な状態で試料を保持するように備えられ、ホルダ間での試料の搬送は、第2位置とは異なる搬送位置で行われる。試料がホルダ(10,40)間を搬送されるとき、機械的案内機構は、第2位置での相互精度よりも高い相互精度でホルダを位置設定し、かつ試料が第2位置にあるときには、ホルダ(10,40)のうちの少なくとも1は位置設定されない。
機械的案内機構は追加部分(50)を有して良い。
ホルダ(40)のうちの少なくとも1は多数の試料を保持するように備えられて良い。 （もっと読む）

【課題】帯電粒子ビーム操作のためにサンプルを配向させる方法および装置を提供する。
【解決手段】サンプルが、サンプルの主表面がプローブ・シャフトに対して垂直ではない角度にある状態で、プローブに付着され、プローブ・シャフトは、サンプルを再配向させるために回転される。一実施形態では、サンプル・ステージに対して４５度などのある角度に配向されたプローブは、平坦領域がプローブの軸に対して４５度で平行に配向された、すなわち、平坦領域がサンプル・ステージに平行であるプローブの先端を有する。プローブ先端の平坦領域は、サンプルに付着され、プローブが１８０度回転されるとき、サンプルの配向は、水平から垂直に９０度変化する。次いで、サンプルは、ＴＥＭ格子をサンプル・ステージ上で垂直配向ＴＥＭ格子に付着される。サンプル・ステージは、薄くするためにサンプルの背面をイオン・ビームに向けるように回転および傾斜される。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム照射表面改質装置において、作業効率を向上させる。
【解決手段】電子ビーム照射表面改質装置１が、電子ビーム発生室２５と、電子ビーム発生室２５を形成し出射口１３ａを有する電子ビームハウジング１０と、加工室３１を形成し入射口３０ａを有する加工ハウジング３０とを備える。電子ビームハウジング１０と加工ハウジング３０とが分離して構成され、電子ビーム発生室２５と加工室３１とが出射口１３ａと入射口３０ａとを介して連通し密閉空間が形成されるように加工ハウジング３０を電子ビームハウジング１０に連結させ、かつ、加工ハウジング３０を電子ビームハウジング１０から離脱させるべく、加工ハウジング３０及び電子ビームハウジング１０の双方に設けられた平行に対向する連結面１０ａ、３０ｄを接近させ、又は、離脱するように、電子ビームハウジング１０及び／又は加工ハウジング３０を移動させる連結離脱手段５０を備える。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームが走査する範囲とステージ移動で定まるパスの範囲を一致させて、荷電粒子ビームの照射位置の位置ずれを防ぎ、ＴＦＴ素子（ピクセル）内の荷電粒子ビームの位置精度を高める。
【解決手段】荷電粒子ビームの照射対象をマトリックス状に配置してなる試料上で荷電粒子ビームを二次元的に走査する走査ビーム装置において、照射対象のピッチサイズに応じて、荷電粒子ビームを走査する走査領域のピッチサイズを可変とする。走査状態では、走査領域のピッチサイズの可変状態と同期してステージの送りピッチおよび送り速度を可変とする。これによって、荷電粒子ビームの照射位置の位置ずれが解消され、ＴＦＴ素子（ピクセル）内の荷電粒子ビームの位置精度を高める。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム加工で使用するためのチャンバ構造を提供する。
【解決手段】 ワークピースの真空電子ビーム溶接用のチャンバ構造１００は、チャンバを画定しかつ少なくとも１つのロード／アンロード開口部３０を有するチャンバハウジング２６と、ロード／アンロード開口部３０を囲みかつロード／アンロード開口部３０に対して回転軸線を中心に回転可能であるようにチャンバハウジング２６に支持されるリング２と、ロード／アンロード開口部３０をシールして閉じるためにリング２に接続されかつロード／アンロード開口部３０に対してリング２と共に回転可能であるチャンバ閉鎖部３とを備えること特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
絶縁物を含む試料表面での帯電を抑制するための経験や熟練技能工程を排除した、信頼性の高い帯電制御技術を提供し、総合的に分析や試料作製効率の良い荷電粒子線装置を提供する
【解決手段】
荷電粒子源（１）と、前記荷電粒子源から放出される荷電粒子線（１１）を集束し偏向せしめるための荷電粒子光学系（５、６）と、荷電粒子線を試料（８）に照射して試料からの２次粒子を検出するための検出器（９）と、試料を搭載する試料台（７）とを備えた荷電粒子線装置において、試料台の表面に対して移動可能に設けた中和用電極（２０）と、中和用電極に印加する電圧および移動を制御する中和用電極制御装置（１０）とを有し、荷電粒子線を照射して帯電した試料上の照射領域と中和用電極との間で電荷交換または電流を発生せしめて、帯電を中和制御するよう構成する。 （もっと読む）

【課題】従来技術の問題に対する解決をもたらす。
【解決手段】本発明は粒子−光学装置のための熱スイッチに関する。例えば、低温ＴＥＭ（透視型電子顕微鏡）において、試料ホルダ７の末端２０に配置される試料３４が、例えば、液体窒素の温度に維持され得る。例えば、顕微鏡を低温から室温に全体的に加熱することなしに、簡単な方法において室温で試料を検査し得る必要がある。熱スイッチ４０を使用することによって、これは可能になる。このために、熱スイッチは、装置内の冷源２２と試料ホルダ７の末端２０との間の熱経路変更し、それによって、１つの位置、位置４６ａにおいて、末端２０から冷源２２への接続が行われ、他の位置、位置４６ｂにおいて、室温に維持される装置の一部４４に接続が行われる。 （もっと読む）

【課題】
従来よりも加工時間を長くすることなくイオンビームによる試料の断面形成の加工精度を向上せしめ、試料を割断することなく微小試料を分離または分離準備する時間を短縮するイオンビーム加工技術を提供する。
【解決手段】
イオン源１からイオンビームを引き出す軸と、前記イオンビームを第１の試料ステージ１３に載置された試料１１に照射するイオンビーム照射軸とが傾斜関係にある構造とし、さらに、前記試料からイオンビーム加工により摘出した試料片３０３を載置する第２の試料ステージ２４が、傾斜軸周りに回転することによりイオンビームの前記試料への照射角度を可変できる傾斜機能を持ち、前記イオンビーム照射軸に垂直な面に前記イオン源からイオンビームを引き出す軸を投影した線分が、前記第２の試料ステージの傾斜軸を前記イオンビーム照射軸に垂直な面に投影した線分と少なくとも略平行関係とすることが可能な構造であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多くの電子電流を引き出すことが可能であると共に、長寿命化を図ることが可能なニュートラライザを提供する。
【解決手段】一方の端部から電子電流を引き出し可能な放電管４と、放電管４内にガスを導入するガス導入管３と、この放電管４の内部でプラズマを発生させる高周波誘導コイル５と、放電管４の内部に配設されたカソード電極６と、放電管４の開口４ａ側に配設された第一のキーパ電極７と、カソード電極６よりも正電位となるように第一のキーパ電極７に電圧を印加する引出し電源１３と、第一のキーパ電極７と離間して配設された第二のキーパ電極８と、この第二のキーパ電極８にカソード電極６よりも正電位となる自己バイアス電圧を印加するコンデンサ１６と、を備える。第二のキーパ電極８の自己バイアス電圧により多くの電子電流が引き出すことができると共に、第二のキーパ電極８はスパッタされにくくなるため、長寿命化を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】試料上にレジスト材料が形成されていても、その表面形状を、ミラー電子プロジェクション式検査装置によって検出可能にするパターン検査技術を提供する。
【解決手段】試料７のレジスト材料表面に照射することでその表面の電気伝導度を上げることのできる波長（１６０〜２５０ｎｍ）の紫外光を、紫外光源３０より試料表面に対して全反射する角度（試料水平方向に対して約１０度以下）以下で入射させることにより、試料表面のみを導電性にするよう構成する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、複数方向からの加工や観察の可能な試料ホールダを提供することにある。
【解決手段】
上記目的は、荷電粒子線装置用試料ホールダにおいて、ホールダに備え付けた試料台が、任意の角度に方向付けられる機構と、微動装置を備えることで達成される。このような構成によれば、微小試料片を試料台から取り外すことなく、イオンビームによる加工および任意の方向からの二次電子像および電子顕微鏡観察が可能となる。 （もっと読む）

【課題】気体イオンビーム装置とＦＩＢとＳＥＭを用いて、効率よくTEM試料作製ができる複合荷電粒子ビーム装置としての構成方法を提供する。
【解決手段】ＦＩＢ鏡筒１と、ＳＥＭ鏡筒２と、気体イオンビーム鏡筒３と、ユーセントリックチルト機構とユーセントリックチルト軸８と直交する回転軸１０とを持つ回転試料ステージ９と、を含む複合荷電粒子ビーム装置であり、集束イオンビーム４と電子ビーム５と気体イオンビーム６とは、１点で交わり、かつＦＩＢ鏡筒１の軸とＳＥＭ鏡筒２の軸はそれぞれユーセントリックチルト軸８と直交し、かつＦＩＢ鏡筒１の軸と気体イオンビーム鏡筒３の軸とユーセントリックチルト軸８とは一つの平面内にあるように配置する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料上に不純物を付着させることなく、試料を取り扱うことが可能な荷電粒子線装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】以上のような目的を達成するために、真空室内にて移動する移動部材の摺動部分に潤滑剤を塗布した走査型電子顕微鏡において、当該潤滑剤として、低分子成分が除去されたものを採用する。これによって、試料汚染を抑制することが可能となり、試料測定後のプロセスにおける不良発生の抑制が可能となる。 （もっと読む）

【課題】アスペクト比の大きいコンタクトホールの開口不良を検査する場合，プリチャージをしても，開口ホールと非開口ホール上部の等電位面の歪に差が現れないという問題があった。
【解決手段】試料基板の開口ホール底から光電子を放出させることができる波長の紫外光を照射することで，開口ホール側壁のみを帯電させ，開口ホールと非開口ホール直上に異なった等電位面を発生させる。この歪をミラー電子プロジェクション式検査装置で検査すれば，開口ホールと非開口ホールを区別でき，アスペクト比が高いホールの開口不良欠陥を検査することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は上記状況に鑑み、試料を迅速に冷却することができ、熱ドリフトを軽減して加工精度を向上させることが可能な集束荷電粒子ビームを用いた加工装置の提供。
【解決手段】 集束荷電粒子ビームにより観察・加工される試料を微小化し、微小試料のみを局所的に冷却する。あるいは、熱ドリフトを緩和可能な構造を有する試料載置部を使用する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム走査手段を備えた複数種類の真空チャンバ装置に対応した静電潜像形成装置、静電潜像測定装置を提供し、静電潜像のビームプロファイルの定量化および再現性を評価可能とする。
【解決手段】複数種類の真空チャンバ装置に対応する、一個の共通真空ステージ取り付け部５４を設け、共通真空ステージ取り付け部５４の一方面にステージ移動手段を設け、反対面に真空装置取り付け中間部材５２を当接させ、複数種類の真空チャンバ装置に取り付け可能とした。複数種類の真空チャンバ装置に対応する真空チャンバ装置取り付け中間部材５２の一方面は共通真空ステージ取り付け部５４と当接し、他方の面には駆動手段６４および構造体７０が配置され、共通真空ステージ取り付け部５４よりも外形が大きく、真空チャンバ装置取り付け基準面が略同一となるように、２重構造となっている。 （もっと読む）

【課題】 イオンミリングは、試料断面の鏡面研磨に有効な方法であるが、マスクと試料の位置あわせが、イオンミリング装置の試料ホルダ固定具の上では構造上の制約で容易でなかった。
【解決手段】 試料３を固定した試料ホルダ２３とその回転機構およびマスク２とその微調整機構とが一体になった試料マスクユニット本体２１を備え、この試料マスクユニット本体２１を試料ホルダ固定具５に取り付け、取り外し可能、且つ、真空チャンバの外部へ取り出し可能にした。これにより、試料マスクユニット本体を別の高性能の顕微鏡下に設置して、試料の鏡面研磨したい部位とマスクの位置関係を精度良く設定することができる。 （もっと読む）

【課題】ミラー電子を使った電子線式検査装置においては、ウェハ上で予備帯電された領域の境界が像となって現れてしまい、正しい検査ができなかった。また、予備帯電は検査と同時に行われるため、照射時間を長くする必要がある場合、ステージの移動速度を遅くせざるを得ず、検査速度が遅くなってしまっていた。
【解決手段】予備照射のビーム源とウェハとの間に、そのサイズが可変な開口を設け、その大きさの一辺をウェハのチップ列の幅と等しくなるように設定し、かつ、チップ列と垂直方向へのウェハの動きに合わせて、開口も移動するように制御する。また、ステージの移動速度を遅くすること無く、ウェハの検査時のステージ移動途中に十分なビーム照射ができるように、その開口をチップ列と平行な方向に大きくするよう設定できるようにした。 （もっと読む）

【課題】
試料から分析や観察に必要な部分のみの試料片を短時間に摘出でき、かつ安定した試料像の観察または精度の高い試料の加工ができる試料作製装置を提供する。
【解決手段】
試料室と、該試料室内に設置される試料ステージと、該試料ステージにセットされた試料から摘出した試料を載置する、該試料ステージに載置された試料ホルダと、前記試料ステージにセットされた試料に集束イオンビームを照射する集束イオンビーム照射光学系と、を備えた試料作製装置であって、前記試料ホルダを前記試料ステージと独立して移動させる試料ホルダ移動機構を備えた試料作製装置。 （もっと読む）

【課題】
真空装置内でプローブを操作するマニピュレータにおいて、小型で広範囲に移動でき精度が高く、かつマニピュレータの駆動手段（アクチュエータ）の長寿命化が期待できる試料観察装置，集束イオンビーム装置を提供すること。
【解決手段】
試料を載置する真空室と、該真空室内で移動可能なプローブと、該プローブを移動させるプローブ駆動手段と、該プローブ駆動手段の負荷を軽減する負荷軽減手段と、を備え、かつ該負荷軽減手段の軽減力を前記プローブの位置の情報に基づいて変化させる制御手段を備えた試料観察装置。 （もっと読む）