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Fターム[5C030AA06]の内容

電子源、イオン源 (2,387) | ビーム制御 (294) | 軸合せ (104)

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Fターム[5C030AA06]に分類される特許

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【課題】複雑な調整機構を用いることなく安定したビームの照射を図ること。
【解決手段】針状のチップ1と、チップ1にガスを供給するイオン源用ガスノズル2とイオン源用ガス供給源3からなるガス供給部と、チップ1との間で電圧を印加し、チップ1の表面に吸着したガスをイオン化してイオンを引き出す引出電極4と、イオンを試料13に向けて加速させるカソード電極5からなるイオン銃部19を備え、イオン銃部19とレンズ系の間に配置された第二のアパーチャ10と、試料13にイオンビーム11を集束させる集束レンズ電極6と対物レンズ電極8からなるレンズ系を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】複雑な調整機構を用いることなく安定したビームの照射を図ること。
【解決手段】針状のチップ1と、チップ1にガスを供給するイオン源用ガスノズル2とイオン源用ガス供給源3からなるガス供給部と、チップ1との間で電圧を印加し、チップ1の表面に吸着したガスをイオン化してイオンを引き出す引出電極4と、イオンを試料13に向けて加速させるカソード電極5からなるイオン銃部19を備え、イオン銃部19より試料13側に位置し、イオン銃部19から放出されたイオンビーム11の照射方向を調整するガンアライメント電極9と、試料13にイオンビーム11を集束させる集束レンズ電極6と対物レンズ電極8からなるレンズ系を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】アライメント偏向器の偏向条件を第1の状態にしたときに、光学素子を少なくとも2つの状態に変化させたときの試料像間の第1のずれを検出し、アライメント偏向器の偏向条件を第2の状態にしたときの試料像間の第2のずれを検出し、当該2つのずれの情報に基づいて、前記アライメント偏向器の動作条件を決定する。 (もっと読む)


【目的】荷電粒子ビームの光軸が偏向器内の中心付近をできるだけ垂直に進むように調整する装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置100は、電子ビーム200を放出する電子銃201と、試料101を載置するXYステージ105と、電子ビームを偏向して、試料上の所望の位置へと荷電粒子ビームを照射する偏向器208と、偏向器208に流れる電流値を測定する電流測定部122と、電流値を用いて、偏向器208内を通過する電子ビームの光軸をアライメントする第1と第2のアライメントコイル212,214と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】相対位置が固定された二段のコンデンサレンズから収束レンズが構成される場合に、各コンデンサレンズと対物レンズのそれぞれの中心に電子ビームの光軸が通るように軸合わせを行うことを可能とする。
【解決手段】それぞれ焦点調整が可能な二段の収束レンズ31、32と電子銃1との間に入口側ビーム偏向部2を、収束レンズ31、32と対物アパーチャ板5との間に出口側ビーム偏向部4を配置する。各ビーム偏向部2、4はそれぞれ軸C方向に配置された二段の偏向器からなる。収束レンズ31、32のレンズ中心が軸C上にない場合でも、入口側ビーム偏向部2でビームを二段階に偏向させることで両収束レンズ31、32のレンズ中心に光軸を合わせることができ、さらに、出口側ビーム偏向部4でビームを二段階に偏向させることで対物レンズ7の中心に光軸を合わせることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、種々の要因で対物レンズの光軸等に、ビームが斜めに入射されたときに生ずる諸問題を解決する荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子線の走査領域を試料上で移動する第1の偏向器に対し、第2の偏向器によって、荷電粒子線の第1の偏向器に対する入射位置を調整し、第1の偏向器は、前記入射位置の調整が行われた荷電粒子線を、対物レンズの光軸に沿って前記試料に入射するように偏向する方法、及び装置を提案する。当該方法、及び装置によれば、荷電粒子線を対物レンズの光軸に沿って適正に試料に入射することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線の状態が変化した場合、高精度かつ高速に光軸調整を可能とする荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】試料に荷電粒子線を照射し、該試料から発生する二次信号から画像を生成する荷電粒子線装置として、荷電粒子線を試料へ集束させる電磁界重畳レンズと、荷電粒子線を試料に対して減速させるリターディング電極と、記試料から発生する二次信号を検出器へ引上げるブースティング電極と、荷電粒子線の光軸調整を、リターディング電極に印加する電圧の可変制御による調整とブースティング電極に印加する電圧の可変制御による調整のいずれかを選択的に実行するコンピュータとを搭載するものを提供する。 (もっと読む)


【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極に印加する電圧について、イオンビームの偏差角度および発散角度の両方を小さくするのに適した電圧を、短時間でかつ容易に決定することができる方法を提供する。
【解決手段】 第1〜第3電極11〜13に印加する電圧をV1 〜V3 、V1 −V2 を差電圧V12、V2 −V3 を差電圧V23とすると、電圧V1 を所要の電圧に設定する。差電圧V12を変化させて、イオン源2から引き出されるイオンビーム20のビーム電流を測定して、そのピーク値およびその時の差電圧V12を求める動作を、差電圧V23を所定の範囲内で所定の電圧刻みで変えて行う。上記ピーク値の比較を行って、ピーク値が最大となる時の差電圧V12を求めてそれをV12P とする。0<V12≦V12P を満たす範囲内で、電圧V1 は変えずに、電圧V2 と電圧V3 の組み合わせを変化させて、イオンビーム20の偏差角度を測定する。そして、偏差角度が最小となる電圧V2 と電圧V3 の組み合わせを決定する。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、ガス電界電離イオン源の安定性向上に関する。
【解決手段】
本発明は、GFISにおいて、引き出し電極の孔の孔径を少なくとも2種類の値に可変にすること、あるいは、該エミッタ先端から該引き出し電極までの距離を少なくとも2種類の値に可変とすることに関する。また、本発明は、GFISにおいて、固体窒素を利用して冷却することに関する。本発明によると、引き出し電極の孔に対する大角度放出イオンの通過と差動排気の観点からの孔の小径化が両立できる。また、冷却手段の機械振動が低減できる。その結果、高安定なGFISとこれを搭載した走査荷電粒子顕微鏡を提供できる。 (もっと読む)


【課題】試料に対してビームを傾斜しても分解能低下の少ない荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】複数のレンズ6,7に対して一次ビーム4の軌道を軸外に通し、その軸外軌道を制御することにより、ビーム傾斜時に対物レンズ7で発生する収差を他のレンズ6の収差でキャンセルする手段を備え、対物レンズを含む複数のレンズの励磁を同時に変調する手段を設けた。 (もっと読む)


【課題】 試料の局所的な帯電電位計測機能を備えた荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】 ミラー状態におかれた試料に対して一次荷電粒子ビームを走査して、画像を取得する。取得画像は、試料の画像であるまたは荷電粒子光学系の構成部品の画像であるとを問わない。得られた画像と標準試料の画像とを比較して、局所的な帯電電位を計測する。 (もっと読む)


【課題】
荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、上記目的を達成するために、荷電粒子源と、当該荷電粒子源から放出される荷電粒子線を調節する光学素子と、当該光学素子に対して軸調整を行うアライメント偏向器を備えた荷電粒子線装置において、前記光学素子の条件を変化させた際に得られる2つの画像のパターンの重心を検出する手段と、前記2つのパターンの重心のずれを検出する手段と、前記2つのパターンの重心のずれに基づいて、前記アライメント偏向器の偏向量を算出する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置を提案する。 (もっと読む)


【課題】本発明はロンチグラム中心の決定方法に関し、収差補正や軸調整のためのロンチグラム中心を決定することができるロンチグラム中心の決定方法を提供することを目的としている。
【解決手段】走査型透過電子顕微鏡の最終結像面に撮像手段を設け、形状を認識できる試料を配置し、ロンチグラムを観察できるような光学系にして十分なデフォーカスをとり、この状態で前記撮像手段でロンチグラム像1を撮影し、加速電圧を変化させ、既知の色収差により変化したデフォーカス量から拡大率変化を計算し、この状態で前記撮像手段によりロンチグラム像2を撮影し、前記ロンチグラム像1とロンチグラム像2を用いて所定の画像処理を行ない、該画像処理結果に基づき画像の不動点を求めるように構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は収差補正装置の軸調整を大まかに行なう。
【解決手段】収差補正装置40の初段電極に複数の電圧値を印加し、その都度、収差補正装置40における基準軌道がその中心を通過する段の電極に異なった大きさの電圧値を印加したそれぞれの時に、走査偏向器28により電子線21で試料16上を走査して走査画像信号を得、各走査画像信号に基づいて画像の位置ずれ量を算出し、算出した各位置ずれ量と初段電極に供給する各電圧値に基づいて最適電圧値を算出して、収差補正装置40の初段電極にフィードバックさせる。 (もっと読む)


【課題】 簡単に電子線光学系のアライメントを行う電子線光学系の調整方法を提供する。
【解決手段】 標準パターンのうち1個だけが他の標準パターンと異なった特殊パターンである標準パターン面を使用し、電子レンズL1のパワーを変調することにより、この特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズL1の中心を通るように、標準パターン面の位置合わせを行う。そして、電子レンズL2のパワーを変調することにより、特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズL1、L2の中心を通るように偏向器D1を調整する。その後、電子レンズL3のパワーを変調することにより、特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズL1、L2、L3の中心を通るように偏向器D2を調整する。その後、特殊パターンの像が結像面の中心に形成されるように偏向器D3を調整する。 (もっと読む)


【課題】短時間で容易に、かつ、精度良くアパーチャの中心軸の位置調整が可能な荷電粒子ビーム装置、及び、アパーチャの軸調整方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置1は、荷電粒子源9と、アパーチャ18と、対物レンズ12と、観察手段32と、アパーチャ駆動部19と、制御部30とを備える。制御部30は、荷電粒子ビームIを照射することで、試料Nの表面N1に複数のスポットパターンを形成させるスポットパターン形成手段33と、スポットパターンのスポット中心の位置、及びハローの幾何学的な中心位置を算出する解析手段34と、各スポットパターンにおけるスポット中心の位置とハローの中心位置とを結んだ線同士が交差する位置に基づいて調整位置を算出する調整位置決定手段35とを有し、調整位置にアパーチャ18の中心軸を移動させることでアパーチャ18の位置を調整する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、自動調整用のガンアライナー機構とその制御回路を省略して安価に製造すること。加えて手動による電子ビーム調整が容易にできるようにすること。
【解決手段】本発明は、フィラメントの加速電圧と加熱電流を規定値より下げ、アノードに向かう電子ビームの照射領域を拡大してアノード穴を通過する電子ビームを確保し、アノード穴を通過した電子ビームが明るくなるように電子ビーム軸方向の向き変え調節を行い、電子ビームの明るいところがアノード穴に来たらフィラメントの加速電圧と加熱電流を規定値に近づけるように上げて前記電子ビームの照射領域を狭め、フィラメントの加速電圧と加熱電流の下げ上げ加減と、電子ビーム軸方向の向き変え調節を繰り返して電子ビームの軸方向の軸ずれを調整することを特徴とする。 (もっと読む)


【目的】ファラデーカップまでビームを到達させる手間を省き、より短時間にアライメントコイルによるビームの光軸調整を行なう方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のアライメントコイルによるビーム軸調整方法は、アライメントコイルを用いて荷電粒子ビームを走査して、アライメントコイルから見て荷電粒子ビーム進行方向の後段に位置するアパーチャの画像を取得する画像取得工程と、取得された画像の輝度に基づいて、輝度の重心位置を演算する重心位置演算工程と、かかる重心位置に荷電粒子ビームが照射されるように上述したアライメントコイルへ流す励磁電流を調整するアライメント工程と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、より短時間でビーム軸を調整することができる。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線の光学系の光軸に垂直な平面内、もしくは少し傾斜した平面内における回転機構をもった装置の回転操作に伴って発生する観察・加工位置の移動の補正を簡便かつ高精度に実現すること。
【解決手段】荷電粒子線装置における試料ホルダー、絞り装置、バイプリズムなどの、当該回転機構の2次元位置検出器とコンピュータ制御による駆動機構を利用し、さらにコンピュータの演算能力を利用することによって該平面内の回転に伴う移動量を演算によって求め、これを相殺させる様に駆動、制御を行なう。また、ひとつの入力によって複数の回転機構を互いに関連をもって操作させる。 (もっと読む)


【課題】
マルチビーム形成部でのビームアライメントを効率よく行うことを可能にする荷電粒子ビーム露光装置を提供する。
【解決手段】
マルチビーム形成部下流でマルチビームを偏向し、縮小光学系内に設置した絞りBA上を走査した像を観察する。絞りの光学的位置を、最上段投影レンズの後側焦点位置BFからずらすことで、マルチビーム数を反映した像が観察できる。マルチビーム形成部内の角度調整機構および像回転調整機構を操作して所望の数のマルチビーム像になるように調整することで、マルチビーム形成部内のビームアライメントを行う。また、ビームアライメントに伴い変化するマルチビーム形成部からの射出角度は、走査像が視野略中心にくるようにアライナを調整することで、下流の投影光学系内で遮蔽されることなく検出できる。 (もっと読む)


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