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Fターム[5C033SS07]の内容

電子顕微鏡 (5,240) | TEM (480) | STEM (87)

Fターム[5C033SS07]に分類される特許

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【課題】本発明の目的は、電子顕微鏡を用いた厚膜試料のSEM観察において、原子レベルの像分解能で、かつ高い倍率精度で行うための電子顕微鏡装置、試料作製方法および観察方法にある。
【解決手段】走査透過電子顕微鏡において、前記電子線経路上に前記電子線の収差を補正する収差補正器と、前記試料の電子線回折像及びロンチグラムを観察するカメラを備え、前記カメラにより取得されたロンチグラムを用いて、前記収差補正器を調整し、前記カメラにより取得された電子線回折像を用いて前記電子線の試料に対する照射方向を調整し、当該調整された電子ビームを試料に照射して当該電子線の照射位置から発生する二次電子を検出し、当該二次電子の信号に基づき試料像を形成する走査透過電子顕微鏡。 (もっと読む)


【課題】正確で精度の高いSTEM像を得ることのできる電子顕微鏡の観察方法を提供する。
【解決手段】電子線を試料に照射し、前記試料を透過または散乱した電子線を検出器において検出し、前記試料を観察する電子顕微鏡の観察方法において、前記検出器により前記試料の画像を取得する工程と、前記取得された画像に最も近い画像を、前記検出器の位置がずれた状態において観察される複数の画像より選択し、前記選択された画像の位置情報に基づき、前記検出器の位置のずれている方向及びずれ量を算出する工程と、算出された前記検出器の位置のずれている方向及びずれ量に基づき、前記検出器を移動させる工程と、を有することを特徴とする電子顕微鏡の観察方法により上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 電子線照射によってシュリンクするレジストをCD−SEMで測長する際に、シュリンク前の形状や寸法を高精度に推定する。
【解決手段】 あらかじめ様々なパターンについて、電子線照射前断面形状データと、様々な電子線照射条件で得られる断面形状データ群やCD−SEM画像データ群と、それらに基づくモデルを含むシュリンクデータベースを準備し、被測定レジストパターンのCD−SEM画像を取得し(S102)、CD−SEM画像とシュリンクデータベースとを照合し(S103)、被測定パターンのシュリンク前の形状や寸法を推定し、出力する(S104)。 (もっと読む)


【課題】重い原子及び軽い原子を同時に観察可能な電子顕微鏡像を生成する画像処理の方法を提供する。
【解決手段】方法は、走査透過型電子顕微鏡により試料を撮像した暗視野像であって、走査透過型電子顕微鏡の光軸からの第1角度と、第1角度よりも大きい第2角度との間に散乱した電子を検出して得られた暗視野像を取得し、この暗視野像と共に撮像された明視野像であって、第1角度よりも小さい第3角度以内に散乱した電子を検出して得られた明視野像を取得し、暗視野像の明暗を反転して反転像を生成し、反転像の各画素の輝度と、反転像の各画素に対応する明視野像の画素の輝度との差を、各画素の輝度とする差分像を生成する。 (もっと読む)


【課題】本発明では、(a)走査(透過)電子顕微鏡において、0.1nm原子サイズ構造の3次元観察を可能とすること、(b)走査(透過)電子顕微鏡において、試料中の原子の3次元構造と材料の特定を可能とすることを目的とする。
【解決手段】本発明は、0.1nm原子サイズ構造の3次元観察を可能とするために、球面収差係数が小さい電子レンズシステムを有し、照射角の変更が可能な絞り、電子線プローブのプローブサイズおよび照射角度を変更することが可能な照射電子レンズ系、二次電子検出器、透過電子検出器、前方散乱電子線検出器、フォーカス可変装置、画像のコントラストを識別する画像演算装置、画像鮮鋭度を演算する画像演算装置、画像の3次元構築を行う演算装置、二次電子信号と試料前方散乱電子信号を混合するミキサー、を有する走査透過電子顕微鏡。 (もっと読む)


【課題】球面収差補正器を備えることにより副次的に生じる2回対称3次スター収差(S3)と4回対称3次非点収差(A3)とを独立して補正することのできる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】第1と第2の多極子レンズ9、13と、その間に伝達レンズ10、12を含む球面収差補正装置を備えた荷電粒子線装置において、第1の多極子レンズ9へ入射する荷電粒子線31の光軸1に対する傾斜角θ1に対し、第2の多極子レンズ13へ入射する荷電粒子線31の光軸1に対する傾斜角θ2が連動して変化するように、第1の偏向手段8と第2の偏向手段11とを制御する。 (もっと読む)


【課題】FIB加工装置による加工で生じた試料のダメージ層の除去の精度は作業者の技量に依存する。
【解決手段】イオンビームにより発生したダメージ層の除去加工中に、電子ビーム光学システムで形成された電子ビームを試料に照射することにより発生する透過電子を二次元検出器で検出し、当該二次元検出器で得られたディフラクションパターンのぼけ量に基づいてダメージ層の除去加工を終了するタイミングを判定する。 (もっと読む)


【課題】ロンチグラム法の簡易性を備えながら、反射・二次電子走査像を利用するSEMにおいても適用可能な、また特別に撮影用の検出器を必要としない収差測定法、或いは収差測定に供する収差情報の取得方法を提供する。
【解決手段】走査像を得る為のビーム走査を、通常対物レンズ直上に置かれる走査コイルで行うのではなく、収差被測定レンズである収差補正器ならびに対物レンズ上方置かれた走査コイルによって行うことによって、収差被測定レンズの持つ収差を反映した歪走査を試料面上で行い、これによって発生する散乱電子線、透過電位線、もしくは反射・二次電子線から走査像を形成することで、従来のロンチグラムと等価な収差情報パターンを、走査型で得られる手段を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、透過型電子顕微鏡の性能を改善することである。
【解決手段】 透過型電子顕微鏡用の検出器システムは、パターンを記録する第1検出器、及び、前記パターンの部位の位置を記録する第2検出器を有する。前記第2検出器は、前記第1検出器上のパターンの位置を安定化させるフィードバックとして用いることのできる正確かつ迅速な位置情報を提供する位置に敏感な検出であることが好ましい。一の実施例では、前記第1検出器は、電子エネルギー損失電子スペクトルを検出し、かつ、前記第1検出器の後方に位置して、前記第1検出器を通過する電子を検出する前記第2検出器は、ゼロ損失ピークの位置を検出して、前記第1検出器上のスペクトル位置を安定化させるように電子の経路を調節する。 (もっと読む)


【課題】 共焦点走査透過型電子顕微鏡装置及び3次元断層像観察方法に関し、薄層状試料における異なった深さにおける原子配列を一画像で観察可能にする。
【解決手段】 電子を放出する電子源と、電子源から放出された電子を加速する手段と、加速された電子線を試料上に収束させる収束レンズと、電子線を試料表面上に走査するための走査コイルと、試料表面に焦点を合わせるための対物レンズと、試料により散乱された電子線の取り込み角度を制御するための投影レンズと、走査顕微鏡像を取得するための走査顕微鏡像検出器と、試料の組成および電子状態を分析する分析装置と、試料厚さを計測するための計測部と、対物レンズの焦点深度を調整する焦点深度調整手段とを有し、対物レンズの前段に対物レンズの球面収差を補正する球面収差補正装置と、対物レンズの色収差を補正および調整する色収差補正装置とを設けるとともに、対物レンズの色収差係数を調整するための制御部と、色収差係数を測定する測定部とを設ける。 (もっと読む)


【課題】高分解能観察において、収差の変化を伴う時間的遅延を最小に留め、且つ、収差係数の算出精度が高い収差補正方法及び収差補正装置の提供を目的とする。
【解決手段】収差補正子を有する走査透過電子顕微鏡において、複数の検出面を備える検出器に対して電子線を入射させ、前記電子線による暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に撮像し、前記暗視野像を観察像の位置基準として前記複数の明視野像から収差係数を算出し、算出した前記収差係数に基づき、収差が低減するように前記収差補正子を制御する。 (もっと読む)


【課題】直流超高圧電源、直流加速管及び多数の超高圧用電磁レンズを使用しなくても、超高圧に加速された電子線による試料観察が可能な対物レンズ系及び電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電磁レンズからなる1対の対物レンズ(対物前方電磁レンズ2a,対物後方電磁レンズ2b)の入射側に、マイクロ波空洞からなるマイクロ波加速器3を配設すると共に、出射側にマイクロ波空洞からなるマイクロ波減速器4を配設する。そして、これらマイクロ波加速器3及びマイクロ波減速器4の空洞に、高周波電力源5から導波管6を介して、相互に位相が異なるマイクロ波を供給する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、サンプルの中を通り抜けた電子を検出する複数の検出器を提供する。
【解決手段】 検出器は、望ましくは、電子のエネルギーに従って電子を分離するプリズムの中をそれらの電子が通り抜けた後に、それらを検出する。異なるエネルギー範囲における電子は、次に、異なる検出器によって検出され、望ましくは、それらの検出器の少なくとも1つは、電子がサンプルの中を通り抜けるときにそれらによって失われるエネルギーを測定する。本発明の一実施形態は、コア・ロス電子においてEELSを提供する一方、ロー・ロス電子からの明視野STEM信号を同時に供給する。 (もっと読む)


【課題】エネルギー選択範囲の変動を防止し、STEM像に視野カットが発生することを防止する。
【解決手段】試料上で細く絞った電子プローブを二次元的に走査すると共に、透過散乱した電子を電子光学系を介してエネルギーフィルタに導入・検出し、電子顕微鏡像を取得する走査透過電子顕微鏡において、前記エネルギーフィルタはエネルギー分散面上に配置される一対の対向するエッジからなるエネルギー選択スリットを備えると共に、観察条件の変更にかかわらず電子プローブの試料上での水平走査に伴う前記スペクトルの前記エネルギー選択スリット上での移動方向が前記エッジに平行になる又は直交するように前記電子光学系を制御する手段と、電子プローブの垂直又は水平走査に伴い前記エネルギー選択スリット上で前記スペクトルが前記エッジに直交する方向に移動するのを打ち消すように前記エネルギーフィルタを制御する手段とを備える。 (もっと読む)


透過型電子顕微鏡は、電子ビームを生成する電子ビーム源(20)を有する。前記電子ビームを収束させるようにビーム光学系が供されている。収差補正装置(90)は、少なくとも球面収差について前記電子ビームを補正する。前記電子ビームのビーム路中に試料(40)を保持する試料ホルダが供される。検出器(80)は、前記試料を透過する前記電子ビームを検出するのに用いられる。当該透過型電子顕微鏡は、前記電子ビームのゼロ次ビームが検出されない暗視野モードで動作する。当該透過型電子顕微鏡はまた、インコヒーレントな照射モードで動作することもできる。
(もっと読む)


【課題】本発明は3次元画像取得方法及び装置に関し、分解能を向上させることができるトモグラフィー法を用いた試料の3次元画像取得方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】走査透過型電子顕微鏡において、試料の3次元画像を得る3次元画像取得手段を設け、該3次元画像取得手段を用いて試料の第1の3次元画像を得、次に、試料を裏返して該3次元画像取得手段を用いて試料の第2の3次元画像を得、得られた試料の第1の3次元画像と第2の3次元画像とから試料の3次元画像を得る、ように構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、高S/Nで定量的な元素像や、エネルギー精度やエネルギー分解能の高い電子線エネルギー損失スペクトルを計測することに関する。
【解決手段】本発明は、試料の同一照射位置に電子線を所定時間照射するようにしながら、試料上を走査してZコントラスト像を観察し、特性X線スペクトルや電子線エネルギー損失スペクトルを計測する場合、特性X線スペクトルは過剰なX線によるデッドタイムを補正し、電子線エネルギー損失スペクトルはゼロロスピークを基にしてエネルギー補正した計測を行うことに関する。本発明によれば、特性X線による高S/Nで定量的な元素像や、電子線エネルギー損失スペクトルによる高S/Nな元素像やかつ高エネルギー分解能スペクトルを測定できる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、正確かつ迅速に結晶性試料の方位合せを行うことに関する。
【解決手段】本発明は、走査透過像と電子線回折像を用いた結晶方位合せにおいて、走査透過像における試料の結晶配列方向と、電子線回折像の方向を一致させることに関する。例えば、走査透過像の試料の結晶配列方向に連動して、電子線回折像を撮影するTVカメラの受光面を直接あるいは間接的に回転させる。また、例えば、複数の投射レンズに通電する電流を変化させ、電磁レンズの作用によって電子線回折像の方向を変化させる。本発明によれば、STEMの光軸に対して試料の結晶方位を合わせる際、試料を傾斜させるべき方向を電子線回折像の形状から直接判断することができるため、正確かつ迅速な結晶方位合せが可能となる。 (もっと読む)


【課題】高精度かつ短時間で結晶格子像と相似のモアレパターンを得ることを可能にする。
【解決手段】走査型顕微鏡を用いて、結晶構造の結晶格子モアレパターンを取得する方法であって、前記結晶構造の走査面において、前記結晶構造と方位に対応して、複数の仮想格子点を周期的に配置する工程と、入射プローブを用いて複数の前記仮想格子点からの信号を検出する工程と、検出した前記信号に基づいて、前記結晶構造の結晶格子モアレパターンを生成する工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】プラズモンロス像を、計算で簡単に算出することが可能な試料解析装置を提供する。
【解決手段】入力部11がSTEM−EELS法における実験条件と試料情報を取得し、損失関数演算部12が試料情報をもとに損失関数を算出し、吸収ポテンシャル演算部13が損失関数と、実験条件の1つでありプラズモン吸収領域に設定されるエネルギースリットをもとに、エネルギースリットを考慮するか否かで2種類の吸収ポテンシャルを算出し、全散乱電子強度演算部14が2種類の吸収ポテンシャルをもとに、第1及び第2の全散乱電子強度を算出し、プラズモンロス像生成部15が第1の全散乱電子強度と第2の全散乱電子強度との差分からプラズモンロス像を生成する。 (もっと読む)


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