【課題】
試料となるウェーハを割ることなしにウェーハ断面を水平から垂直迄の方向からの断面
観察や分析を高分解能，高精度かつ高スループットで行える微小試料加工観察装置および
微小試料加工観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と
電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し
、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 （もっと読む）

【課題】
試料となるウェーハを割ることなしにウェーハ断面を水平から垂直迄の方向からの断面
観察や分析を高分解能，高精度かつ高スループットで行える微小試料加工観察装置および
微小試料加工観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と
電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し
、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 （もっと読む）

【課題】
試料となるウェーハを割ることなしにウェーハ断面を水平から垂直迄の方向からの断面
観察や分析を高分解能，高精度かつ高スループットで行える微小試料加工観察装置および
微小試料加工観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と
電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し
、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 （もっと読む）

【課題】
試料となるウェーハを割ることなしにウェーハ断面を水平から垂直迄の方向からの断面
観察や分析を高分解能，高精度かつ高スループットで行える微小試料加工観察装置および
微小試料加工観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と
電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し
、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 （もっと読む）

【課題】本発明は荷電粒子線装置に関し、従来技術で問題になっていた破壊検査を非破壊検査とし、チャージアップによる異常コントラストを抑え正常な画像を取得することができる荷電粒子線装置を提供することを目的としている。
【解決手段】荷電粒子を試料に照射する第１の照射手段１９と、試料７から発生した電子を捕獲し、画像化する画像化手段と、試料７に電圧を印加する印加手段９とを備えた荷電粒子線装置において、前記第１の照射手段１９と異なるソースから上記と同じ試料に照射できるようにした第２の照射手段２０を供えて構成される。 （もっと読む）

【課題】高精度の試料ステージ機構を用いることなく、メモリーセルをカウントし、特定のセルの位置を検出する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム装置では、試料が繰り返しセルを有するとき、セルに対応したスケールパターンを生成し、それを試料の繰り返しセルの画像に重畳させることにより、目的セルを特定する。更に、試料の繰り返しセルの少なくとも３つの端の位置に基づいてセルの配列を求め、このセルの配列から目的セルの位置を特定する。ビーム偏向機能によるズームとソフトウエアによるズームを組み合わせてズーム画像を生成し、試料ステージを移動させることなく、ソフトウエアによって画像シフトを行う。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＤデータと電子顕微鏡ステージのステージリンク精度を向上させる。
【解決手段】複数のアライメントポイントを記憶し、ステージ移動に伴い、現在のステージ位置１８（２２）に見合った、妥当な局部領域のアライメントポイント１９，２０，２１（２３，２４，２５）を自動的に選択してアライメント補正値を更新する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は走査型顕微鏡に関し、滑り機構・ガイド機構における当たり面圧力の不足を補うため、観察部位の探索を終了した後に、試料ステージの粗動機構を固定し、機械的振動による観察画像へのノイズの影響を低減することができる走査型顕微鏡を提供することを目的としている。
【解決手段】 試料上を走査して走査の結果得られた画像を得る走査型顕微鏡において、試料を３次元方向に移動させる試料ステージ１１と、該試料ステージ１１を機械的に固定する粗動固定機構３５と、電子線走査領域のイメージシフトを行なうイメージシフトコイル９を有し、倍率が所定の閾値を超えたら、前記粗動固定機構３５により試料ステージ１１を固定し、前記イメージシフトコイル９により画像をシフトさせて画像を得るように構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明はプラズマ発生装置及び低真空走査電子顕微鏡に関し、小型で雑音の影響を受けにくく、プラズマ発生による光が画像検出系に悪影響を与えないプラズマ発生装置及び走査電子顕微鏡を提供することを目的としている。
【解決手段】 円筒状をなし、その内部に電離化用のガスを流す石英管６０と、該石英管６０の先端部に巻回された高周波コイル６３と、前記石英管６０及び高周波コイル６３の周囲を覆うモールド６５と、トーチ全体及び陽極部近辺までを覆った金属部６６と、該金属部６６の内側に設けた絞り７３とパイプ６７及び陽極７４を含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】 振動の影響を受けにくい荷電粒子線装置の試料移動装置を提供する。
【解決手段】対物レンズ４０に剛に固定された試料ホルダ支持体駆動手段により前後に移動させる試料ホルダ支持体１７を、試料ホルダ１１に一定の接触力にて接触させて振動を低減し、高い解像度あるいは高い加工精度が得られるようにする。また、試料ホルダ１１と試料ホルダ支持体１７との間に電圧を印加し、試料ホルダ１１と試料ホルダ支持体１７との間に流れる接触電流Iが一定に維持されるように、試料ホルダ支持体駆動手段を支持体制御部２４により制御する。 （もっと読む）

【課題】 真空を保持したままマニピュレータの探針の交換作業が迅速に行える荷電粒子ビーム用マニピュレータを提供する。
【解決手段】 プローブマウント３２を移動して使用済のプローブ２７をプローブ交換位置２０に移動させ、必要に応じてプローブホルダ３４を回転させ、空のプローブ収納部３５をプローブ交換位置２０に移動させる。次に使用済のプローブ２７をプローブ固定板ばね２９から取り外し、空のプローブ収納部３５に収納する。次にプローブホルダ３４を回転させて未使用のプローブ２７ａが収納されているプローブ収納部３５ａをプローブ交換位置２０に移動させる。未使用のプローブ２７ａをプローブ収納板ばね３０から取り出し、プローブ固定板ばね２９に装着すればプローブ交換が完了する。 （もっと読む）

【課題】
走査型電子顕微鏡のトータルスループットを向上させる。
【解決手段】
ロードロック部１５に設けた高さ検出器や光学顕微鏡３０といった試料情報取得手段によって、試料室２２で観察する試料の高さ情報やアライメント情報といった試料情報の取得を、ロードロック部１５から試料５を試料室２２への搬送するに際して実行されるロードロック部１５の減圧作業と並行して、ロードロック部１５に収容されている試料５に対して実行する。 （もっと読む）

【課題】 薄片化試料の配置状況に応じて、正確かつ簡単に気体イオンビームの照射角度を制御することが可能な荷電粒子ビーム装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 試料を加工して薄片化試料２を作成するとともに薄片化試料２を観察する集束イオンビーム装置３、及び薄片化試料２を観察する走査型電子顕微鏡４と、薄片化試料２の表面に気体イオンビーム１２を照射して仕上げ加工をする気体イオンビーム照射装置５と、薄片化試料２が固定され且つ少なくとも1以上の回転軸を有する試料ステージ６と、試料ステージ６に対する薄片化試料２の位置関係を認識する試料姿勢認識手段７と、薄片化試料２の表面または裏面に対する気体イオンビーム１２の入射角度を所望の値にするために、姿勢認識手段７により認識した試料姿勢と気体イオンビーム照射装置５の取り付け角度に基づき試料ステージ６を制御する試料ステージ制御手段８を具備する。 （もっと読む）

【目的】本発明は、電子線を細く絞って試料に照射しつつ平面走査し、放出された２次電子あるいは反射された反射電子を検出して画像を生成する走査型電子顕微鏡の試料室差動排気装置に関し、小さな排気系で差動排気性能を有効活用し、試料室の真空を低真空にしても２次電子や反射電子を検出する検出器の寿命を大幅に向上させることを目的とする。
【構成】 試料を配置する試料室と試料室に配置した試料に電子線ビームを照射して放出された２次電子あるいは反射された反射電子を検出する検出器との間に設けた、差動排気するための複数段のオリフィスと、複数段のオリフィスの部分に直接に接続した排気系と
からなる試料室差動排気装置である。 （もっと読む）

【課題】
従来は方向を示すものが無い材料では、試料加工または観察を繰り返し行い、視覚を頼りに水平度調整を行っていた。本発明の目的は、上記問題点を解消し、試料の水平度調整を簡便に行う方法、及び装置を提供することにある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、本発明では、荷電粒子源側から見て、試料の手前部分と、奥行き部分に跨って形成される構造体、或いは試料の手前部分と、奥行き部分との間に、所定の関係を持って形成されている構造体が、所定の関係となるように、試料を傾斜、或いは回転する試料観察方法、及び荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡において試料のチャージを防止する。
【解決手段】 イオン生成器１１でガスをイオン化した後に、イオンを含むガスをガス導入管１６で、試料上の電子ビームを照射しつつ平面走査する領域に導入する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は走査電子顕微鏡に関し、作動距離を短かくした状態で低角度、高エネルギーの電子を集めることができる走査電子顕微鏡を提供することを目的としている。
【解決手段】 試料１の表面に電子ビームを照射し、該試料１表面から放出された２次電子を検出して試料表面の画像を得るようにしたインレンズ型若しくはセミインレンズ型の走査電子顕微鏡において、前記試料１を２次電子放出率の高い材料でできた壁６で覆うと共に、該壁６は電源７から電圧を印加できる構成とし、２次電子検出器４に放出された２次電子を導くように構成される。 （もっと読む）

【課題】
検査の高速化を図ることができる電子ビームを用いた検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】
電子源から発生した電子ビームが対物レンズによって試料に収束され、試料が電子ビームで走査され、それによって試料から荷電粒子が発生するように電子ビームが偏向され、走査の間試料を連続的に移動し、試料の移動中に試料の高さを測定して対物レンズの焦点距離を補正し、試料から発生した荷電粒子が対物レンズと試料との間から荷電粒子検出器によって検出されて電気信号に変換され、この電気信号が画像信号として記憶され、この記憶された画像信号を用いて画像比較が実行され、試料の欠陥が検出される。 （もっと読む）

試料上に電子ビームを照射するシステム、制御サブシステム、方法が提供される。一システムは非均一速度で試料を移動させるように構成されたステージを含む。このシステムは、ステージが非均一速度で試料を移動している間に試料上に電子ビームを照射するように構成された照射サブシステムも含む。また、このシステムは、照射サブシステムが非均一速度に基づいて試料上に電子ビームを照射している間に電子ビームの１つ又は複数の特性を変えるように構成された制御サブシステムを含む。一方法は、非均一速度で試料を移動させるステップと、試料の移動中に試料上に電子ビームを照射するステップとを含む。また、この方法は、非均一速度に基づいて試料上に電子ビームを照射中に電子ビームの１つ又は複数の特性を変えるステップを含む。
（もっと読む）

【課題】検査対象の表面の電位分布を均一にし、撮像した画像のコントラストを向上させる。
【解決手段】電子銃から放出された電子ビームを対象に照射し、対象から放出された電子を検出器を用いて検出し、前記対象の画像情報の収集、対象の欠陥の検査等を行う撮像装置において、前記対象に帯電した電荷を均一化若しくは低減化する手段を有する。 （もっと読む）