【課題】 電子光学系１６と試料室１７の圧力比を所定値に保つ差動排気を行い、所定値以上のプローブ電流を満たし、低真空中で生ものや湿気を帯びた試料を観察する低真空ＳＥＭにおいて、十分な偏向領域Ｗを確保するとともに、ＳＥＭの分解能を向上する。
【解決手段】 低真空ＳＥＭは、電子光学系１６における電子ビーム２の対物絞り７と、試料室１７との圧力比Ｘを所定値に保つ差動排気用のオリフィスとを兼用した三段対物絞り１１を持つ。ここで、電子光学系１６における電子ビーム２の偏向支点１２を、三段対物絞り１１の中段１１２に設定する。これにより、試料台１４上の偏向領域Ｗを大きく確保するとともに、所望電流量を得て、低真空ＳＥＭの分解能を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】 試料の側面や裏面の検査が可能な荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】 電子銃３Ａ，３Ｂ、集束レンズ４Ａ，４Ｂ、偏向手段６Ａ，６Ｂ、二次電子検出器７Ａ，７Ｂを備えた２つの電子光学鏡筒１Ａ，１Ｂが、回転ステージ９Ａ，Ｘ方向移動用ステージ９Ｂ，Ｙ方向移動用ステージ９Ｃから成るステージ９に載置される試料１０が設けられる真空チャンバー１５に設けられる。一方の鏡筒１Ａは、該鏡筒からの電子ビームが、少なくとも試料側面の上側を走査出来る位置に、他方の鏡筒１Ｂは、電子ビームが、少なくとも試料側面の下側を走査出来る位置に、それぞれ設けられる。 （もっと読む）

【課題】 試料を内蔵する容器およびこの容器内にあって試料が載置されるステージの間の相対位置変化を検出し、簡易にしかも確実に画像情報への振動による影響を除去できる走査型電子顕微鏡を実現する。
【解決手段】 画像処理部２６において、計測手段１８から、電子ビームを走査する際のステージおよび試料室の壁面の相対位置情報を取得し、この相対位置情報に基づいて、画素位置補正手段９７は、この走査で取得された画像情報に画素位置補正を行い、画像生成手段９８は、この画素位置補正で生じる画素抜けあるいは画素の重複を無くす画像生成を行い、画像切り出し手段９９は、表示画像の切り出しを行うこととしているので、電子ビームの走査中にステージが振動する際の画像情報への影響を、簡便にしかも確実に除去することを実現させる。 （もっと読む）

【課題】 試料に負電圧を印加するリターディング法により試料表面の観察を行う際に、試料を傾斜させても高分解能像を得ることを可能にする走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 内側磁極５ａと外側磁極５ｂの間に絶縁部材５ｄが配置され、内側磁極５ａと外側磁極５ｂが電気的に絶縁される構造となっている。試料６は試料台７に電気的導通を持たせて取り付けられ、試料台７は試料ステージ８と電気的に絶縁されて試料ステージ８に載置される。試料台７と外側磁極５ｂに電源９により負電位が印加されると、試料台７及び試料６と外側磁極５ｂは同電位となり、試料を傾斜させても、電子線の光軸に対して電界の対称性が保たれる。そのため、簡単な構造で且つ複雑な制御を行うことなく、低加速電圧の観察条件においても高分解能の像観察が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 チャンバ内に塵埃が発生しないビーム装置を提供することを課題とする。
【解決手段】
一面が開放面７ａとされ、開放面７ａに向かってビームが照射される試料チャンバ（第１のチャンバ）７と、試料チャンバ７の開放面７ａを覆うように配置され、試料チャンバ７の開放面７ａより大きな形状で、開放面７ａと対向する面側に試料が載せられるステージ７０と、試料チャンバ７外に設けられ、試料チャンバ７の開放面７ａ側の端面７ｂと平行な平面上で、ステージ７０を移動させるステージ駆動手段２００と、ステージ７０を試料チャンバ７の開放面７ａ方向に付勢する排気手段（付勢手段）と、試料チャンバ７の開放面７ａ側の端面７ｂに設けられ、空気圧によりステージ７０と試料チャンバ７の端面７ｂとの間隔を一定に保持する静圧パッド（第１の静圧パッド）８とを有する。 （もっと読む）

【課題】二つの荷電粒子ビームが同一の観察点に集束するための試料の高さを算出して、試料台を傾斜することなく、短時間で精度良くかつ容易に試料の高さ調整を行う。
【解決手段】イオンビーム２ｂ照射による二次電子像と電子ビーム１２ｂ照射による二次電子像の倍率と、イオンビーム２ｂ照射による二次電子像の観察点と電子ビーム１２ｂ照射による二次電子像の観察点との距離から、イオンビーム２ｂと電子ビーム１２ｂが同一の観察点に集束するための前記試料の高さを計算手段１４で算出する。 （もっと読む）

【課題】 試料室内の残留ガスによる電子なだれを利用することで、低真空条件でも二次電子像を取得できるガス増幅式イオン電流検出型SEMにおいて、電流信号の応答速度の高速化およびイオン電流の収量の向上を図る。
【解決手段】 一次電子ビーム２の照射によって試料１４表面から放出された二次電子１８は、試料室内に配置された複数の電極の作る電界によって、試料表面から電界供給電極１１に向かってドリフトする。二次電子１８は、電界供給電極１１近傍で残留ガス分子をイオン化させるのに充分なエネルギーをもつまでに加速され、残留ガス分子との衝突によるイオン化が繰り返されて、電子およびイオンの数が電界供給電極１１に近づくに従って指数関数的に増幅される。生成されたイオン１３は上側電極と下側電極を含むイオン電流検出電極７に向かって移動し、短いドリフト時間で当該イオン電流検出電極７よりイオン電流として検出される。 （もっと読む）

【課題】 絶縁体、半導体等の非導電性物質の試料であってもチャージを軽減し、高分解能の像を取得することができる方法及び装置を実現する。
【解決手段】 試料が絶縁物や半導体の場合、チャージの影響を軽減することが高い分解能の像を取得するために必要となる。可変電源１１から試料７にバイアス電圧を印加する。このバイアス電圧の値は、電子銃２の加速電圧が３ｋＶである場合、２ｋＶ、あるいは２．５ｋＶに設定される。また、試料を傾斜したときに、電子ビームが曲がらない試料電圧値と電子銃の加速電圧値の組合せが存在することが判明した。この組合せの範囲をＰＣ１３に記憶させ、試料電圧値と電子銃の加速電圧値とを組合せの範囲内に設定すれば、試料の傾斜を行うことができ、３つの試料のチャージを取り除く方式を同時に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】 チップ１０１の表面をスライスするように除去し、ＳＥＭ１０７により断面観察を行なう工程を繰り返し、３次元像を形成する場合、チップ１０１表面の保護膜１０２が一番先に除去されるため電荷の放出経路がなくなり、チャージアップ現象が発生してしまう。
【解決手段】 斜面１０５を、チップ１０１の表面に対向する位置にある観察面１０６の観察を行なう場合にＳＥＭ１０７からの電子線を遮らぬようＦＩＢを用いて形成する。観察面１０６をＳＥＭ１０７で観察した後、観察面１０６をスライスするように除去し、再びＳＥＭ１０７により新たな観察面の観察を行なう。チップ１０１の表面部には導電性の保護膜１０２が形成されているため、最表面までスライスして除去しても、電荷の逃げ道が確保されているため、チャージアップ現象を防止できる。 （もっと読む）

【目的】本発明は、電子線を真空室内に配置した試料に照射し放出あるいは吸収あるいは透過する電子あるいは２次電子あるいは光をもとに画像を生成する際に、温度変化を与えることなく汚染を防止する電子顕微鏡に関し、真空内に配置された試料に対向してゲッター面を設け、必要に応じて新規なゲッター面に切り替えるあるいは再生成することで、試料に対する温度変化を与えずに残留ガス分子による汚染を低減することを目的とする。
【構成】 真空室内に配置した試料の面に対向して設けたゲッター面と、ゲッター面について、必要に応じて、ゲッター面に新たなゲッター膜を生成する、あるいは他のゲッター面に新たなゲッター面を生成して置換する機構とを有する。 （もっと読む）

集束イオンビーム３１２のスパッタリングエッチング加工を行って薄片を作製すると同時に、薄片の側壁に対して平行な方向から電子ビーム３１４の照射を行って走査電子顕微鏡観察をし、薄片の厚さを測定する。そして、薄片の厚さが所定の厚さになったことを確認して、集束イオンビーム３１２による加工を終了する。
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【課題】 試料上での微少領域を荷電粒子ビームで走査する際に、荷電粒子ビームの走査幅の校正を正確に行うこと。
【解決手段】 試料室内に配置された試料１５上に荷電粒子ビーム１を走査し、これにより試料表面のビーム走査像を取得するとともに、試料室内に設けられたプロービング機構２３のプローブ７を試料１５上で走査し、これにより試料表面のプローブ走査像を取得する顕微装置における荷電粒子ビームの走査幅校正方法において、プローブ７の走査移動量をビーム走査像に基づいて検出し、また当該プローブの走査移動量をプローブ走査像に基づいて検出し、検出された双方の走査移動量を比較し、その比較結果に基づいて荷電粒子ビームの走査幅の校正を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高電圧ケーブルが不要で耐振動性能でも有利な荷電粒子線装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、荷電粒子ビームを発生する荷電粒子ビーム発生源と、荷電粒子ビームが照射される試料を載置する加工用の試料台と、荷電粒子ビーム発生源に加速電圧を印加する荷電粒子ビーム発生源用高電圧電源と、試料に照射する荷電粒子ビームの照射速度を減速する減速電圧を加工用の試料台に印加する減速手段とを備え、減速手段は、昇圧電源部と、低圧供給用外部電源部とを有し、昇圧電源部を加工用の試料台に設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 探針の交換の際に、試料に損傷を与えることのないプローブ装置を提供すること。
【解決手段】 試料情報を検出するための探針１と、先端部２ｂに探針１が保持される探針保持部材２と、探針保持部材２の基端部２ａを支持する支持部材３とを備えるプローブ装置５０において、探針保持部材２がその基端部２ａを支点として、試料情報の検出位置と試料１０からの退避位置との間で回動可能とされている。これにより探針１の交換を行う際には、探針保持部材２が上記退避位置において探針１の交換ができるので、試料１０に損傷を与えることがない。 （もっと読む）

【課題】 任意の試料（生細胞など生の生物試料を含む）に対して、前処理を全く必要とせず、大気圧の状態で観察を行うことができる電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 真空筐体１００に電子透過膜（例えば、コロジオン膜）１３２付きの微小なオリフィス１３０を設けて差動排気を行う。また、電子線Ｂを走査する代わりに、可動ステージ２０２（特にスキャナ２０４）を用いて試料Ｓを走査する。さらに、試料Ｓを電子透過膜（コロジオン膜）１３２に近づけて、電子線Ｂの照射による試料Ｓからの反射電子Ｒ（および二次電子）を、高真空側の上部反射電子検出器３０４と大気圧側の下部反射電子検出器３０６（ならびに高真空側の二次電子検出器３０２）を用いて検出する。
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【課題】ステレオペア画像の取得の操作性を向上させる。
【解決手段】操作用兼画像表示用のモニタ１００上にステレオ画像取得モードへ切り替えるボタン１０１を設置し、このボタンを押すことにより、画像の左右方向が試料の傾斜方向と一致するように電磁的視野回転手段によりの画像の回転角度を自動で設定する。この状態で、片側の画像１１０をキャプチャしてモニタに表示し、試料を視差角度分だけ傾斜させた状態のライブ画像１１１と重ね合わせ表示し、立体観察しつつ、試料の傾斜角度、画像のずれ量を微調整して立体観察に最適な状態に設定する。 （もっと読む）

【課題】 アライメントマークが認識領域から外れた状況下でも、比較的短時間でアライメントマークを検出することを可能とするアライメントマーク、及びアライメントマークの検出方法を提供する。
【解決手段】 本発明のアライメントマーク１は、位置検出に使用されるメインパターン１ｍと、メインパターン１ｍの周囲に近接して設けられた複数のサブパターン１ｓを備える。サブパターン１ｓはメインパターン１ｍと異なる形状を有しており、メインパターン１ｍとサブパターン１ｓとの間隔を、位置ずれによりメインパターン１ｍが認識領域外に位置するときに、少なくとも１のサブパターン１ｓが認識領域内に位置する間隔とすることで、サブパターン１ｓによりフォーカスを合わせることが可能となる。認識エラーによる測長ＳＥＭの動作停止を回避することができるとともに、比較的短時間で、位置検出を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】試料のイオンビーム照射による高精度の薄膜加工と電子ビーム照射による高分解能のＳＴＥＭ観察の両者を、ほぼ試料を動かすことなく、高スループットで実施する。
【解決手段】ＦＩＢ照射系１６の照射軸とＳＴＥＭ観察用電子ビーム照射系５の照射軸をほぼ直交させ、その交差位置に試料７を配置して、試料のＦＩＢ断面加工面をＳＴＥＭ観察用試料の薄膜面にとる。透過・散乱ビーム検出手段９ａ，９ｂは、電子ビーム照射軸上で電子ビーム照射方向からみて試料の後方に配置する。 （もっと読む）

電子ビーム（１２）を試料（２４）の表面に照射する電子銃（１４）と、試料の表面の帯電量に基づいた電圧を試料に印加することにより、試料の表面の電位を予め定められた電位に制御する電位制御部（５０）と、電子ビームが試料の表面に照射されることにより生じる電子を検出する電子検出部（１６）と、電子検出部が検出した電子に基づいて、試料の表面の状態を取得する状態取得部（３２）とを備える試料観察装置を提供する。
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【課題】ウェーハ面内の反りの影響を排除して特定の位置に精度良く移動する傾斜荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】基準点として予めステージ平面と同じ水平と高さを決めた視野合せ調整用マーク４７を形成した部位４６をウェーハホールダ上に設けた。試料上の観察点の高さをマーク４７の高さに調整し、その時の傾斜カラムと垂直カラムの視野の既知のオフセットを用いることにより、傾斜カラムと垂直カラムの視野を一致させる。 （もっと読む）