【課題】 電子線応用装置において、検査を行う一次ビームの良好な集束を保ちつつ、且つスループットを落とすことなく、帯電制御を実現する。
【解決手段】 単一の電子源から複数本の一次ビームを形成し、少なくとも一本の一次ビームで試料の帯電を制御し、同時に、これとは別の一次ビームを用いて試料の検査を行う。また、帯電制御用の一次ビームの照射領域と検査用の一次ビームの照射領域に対して、独立に表面電界強度を設定する。また、帯電制御用一次ビームの電流や、帯電制御用一次ビームと検査用一次ビームの間隔を制御する。 （もっと読む）

【課題】 膜に保持された試料に一次線として電子線等の荷電粒子線を、該膜を介して試料に照射し、これによって試料検査を行う際に、該膜に保持された試料に刺激を与えることのできる試料検査装置、試料検査方法、及び試料検査システムを提供する。
【解決手段】 本発明における試料検査装置は、膜３２を介して試料２０に一次線７を照射する一次線照射手段１と、一次線７の照射に応じて試料２０から発生する二次的信号を検出する信号検出手段４とを備え、２０試料に接近又は接触可能な先端部を具備するマニピュレータ２６と、試料２０の光学像を取得する光学像取得手段２７と、一次線照射手段１、信号検出手段４、マニピュレータ２６及び光学像取得手段２７の各動作を制御する制御手段２８とを有する。 （もっと読む）

【課題】異物の場所を電子顕微鏡画像の中で素早く、効率的に特定できる試料固定台及びそれを備えた電子顕微鏡、並びに、その異物の位置特定方法を提供する。
【解決手段】本発明による試料固定台は、荷電粒子線装置に備え付けられる試料固定台であって、試料固定台上にマーキングが設けられ、外部イメージング装置によって撮像された試料固定台の画像が正常位置から位置ずれしている場合に、マーキングの画像に位置ずれに応じた形状（画像における見え方に）変化が生じる。このマーキング（例えばクロスマーク）は、相対的位置関係が分かるように複数（例えば２つ）設けられている。 （もっと読む）

【課題】 膜を介して試料に電子線等の一次線を照射して試料検査を行う際に、該一次線の膜への照射による膜の損傷を検知し、これにより圧力差による膜の破壊を防止することのできる試料検査方法及び試料検査装置を提供する。
【解決手段】 膜４を介して試料５２０に一次線５０７を照射する手段５０１と、該一次線５０７の照射に応じて該試料５２０から発生する二次的信号を検出する信号検出手段５０４とを有する試料検査装置において、該一次線５０７の照射に応じて得られる該膜４の情報を検出する情報検出手段５０４と、検出された該膜の情報をモニタするモニタ手段５２２とを備える。 （もっと読む）

【課題】撮像レシピ又は／及び計測レシピを自動かつ高速に生成できるようにして検査効率及び自動化率を向上させたＳＥＭ装置又はＳＥＭシステム並びにその方法を提供することにある。
【解決手段】ＳＥＭ装置又はＳＥＭシステムにおける撮像レシピ及び計測レシピ生成方法であって、レシピ演算部において、評価ポイントにおける撮像位置ずれ量の許容値を評価する評価ステップと、回路パターンの設計データ上の任意の領域をアドレッシングポイントとした場合における前記評価ポイントにおける撮像位置ずれ量の予想値を評価する評価ステップと、前記評価ポイントにおける撮像位置ずれ量の許容値と前記評価ポイントにおける撮像位置ずれ量の予想値との関係に基づいて、撮像レシピ及び計測レシピを決定する決定ステップとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡の分解能を高めるのに対物レンズと試料との間隙を微小にする方法がある。局所真空技術を用いた電子顕微鏡の場合、局所的に真空領域を作り出すには、その照射ヘッドにおいて対物レンズと試料の間に静圧浮上の機構と、差動排気の機構を組み込む必要がある。しかし、静圧浮上の機構と、差動排気の機構を組み込むと、対物レンズと試料の間隙を狭くすることが難しくなる。
【解決手段】照射ヘッド５０の対物レンズ５と静圧機構１８とを一体化して固定した。差動排気機構１９を対物レンズ内の中空部内に配置し、傾動可能に取り付け、試料の凹凸やブレに対して差動排気の機構が追従可能とした。また、試料を対物レンズに対して倣わせる試料側の倣い機構を採用した。局所真空技術を用いた電子顕微鏡の対物レンズと試料との間隙を微小にして分解能を向上させることができた。 （もっと読む）

【課題】電子線装置における電子ビームの集束条件の設定の際に電子ビームを試料に照射する機会や時間を低減することを目的とする。
【解決手段】走査電子顕微鏡１の電子ビームＢの集束状態を検出するために電子ビーム照射面１３ａを使用する。電子ビーム照射面１３ａは、電子ビームＢの光軸方向である高さ方向の位置がその面内位置により異なり、また電子ビームＢを照射されることにより反射電子及び二次電子のうちの少なくとも一方を発生する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、画像精度を確保すると共に、試料を載置したステージの制定時間の短縮を可能にして大幅なスループット向上を図った荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】本発明の荷電粒子線装置は、荷電粒子線を照射して試料を撮像する荷電粒子線装置において、位置制御部に測長器で計測したステージの状態の情報に基づいて荷電粒子線を照射する目標位置からの偏差値を算出する偏差処理部と、試料の撮像時間の間はステージの状態が試料の撮像に可能であるか否かを判断する判定部とを夫々備えさせ、この偏差処理部で演算した偏差値に基づいて荷電粒子線の偏向量を調節する偏向器に指令する偏向制御部を備えて、試料の撮影を行なうように構成した。 （もっと読む）

【課題】ガス処理を行ってもビーム分解能の低下を抑制することができる荷電ビーム装置を提供する。
【解決手段】
電子ビーム１９を生成する電子源３、及びこの電子源３からの電子ビーム１９を試料３０上に集束させる電子レンズを形成する対物レンズ磁路２３を有する鏡体１５０を備える荷電ビーム装置において、試料３０上の電子ビーム１９の照射部分に向かって反応性ガスを噴出する噴出孔１３０を有し、鏡体１５０内に取り付けられたガス銃２８を備える。 （もっと読む）

【課題】光学顕微鏡による観察面の直接観察では発見しにくい、平坦で特徴の少ない面内の極小領域に規則性を持って点在する試料であった場合に、アライメントを容易にする。
【解決手段】走査電子顕微鏡の試料室外もしくは試料室内に、走査電子顕微鏡の観察面に対して斜め方向に光を照射して反射光を検出する光学顕微鏡ユニット２４を設ける。アライメントの際には、複数ある観察対象部位から任意に選択した観察対象部位で、電子顕微鏡の観察面とは異なる端面を斜めから観察した光顕画像を撮影する。撮影した画像をテンプレートマッチングの手法を用いて解析し、実画像上における観察位置の座標情報を推定する。 （もっと読む）

【課題】観察像のコントラスト及びブライトネスが変化しても迅速に適正な値に自動調整することができる荷電粒子線装置及びその画像調整方法を提供する。
【解決手段】試料６に荷電粒子線を照射して観察像を取得する荷電粒子線装置において、二次電子検出器１１での二次電子の電気信号化の際の増幅率を調節する検出器パラメーターＰを設定する調整電源１４と、検出器パラメーターＰの適正値と試料ステージ７の傾斜角θとの相関関係を記憶した記憶部２０と、試料ステージ７の傾動時、記憶部２０に記憶した上記相関関係を基に試料ステージ７の傾斜角θに応じて検出器パラメーターＰの値を補正し調整電源１４に出力する補正演算部１９とを有する。 （もっと読む）

【課題】炭化水素系ガスと確実に化学反応を起こし、除去効率が高く、不揮発性潤滑材が真空装置の内部に残存していた場合にも、活性酸素ガス等に比べて、効率よく除去することができるとともに真空装置内部にある部材に対するダメージが比較的少ないガスを用いることでコンタネーションを除去する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置が、試料室（真空装置）と、真空ポンプ（ＴＭＰ）と、フッ素化合物系ガスであるＸｅＦ_２を導入するガス導入装置と、切替バルブと、大気開放用バルブと、流量調整部と、真空ゲージを有し、試料室内の残留した炭化水素系ガス等によるコンタネーションを除去するため、切替バルブを操作して、不活性ガスと一緒に、フッ素化合物系ガス（ＸｅＦ_２）を試料室内に導入する。流量調整部でフッ素化合物系ガス（ＸｅＦ_２）の流量を調整し、略一定の大気圧状態に維持する。真空度の測定値に応じて流量調整部を調整して、略一定の真空度に保つ。 （もっと読む）

【課題】
走査電子顕微鏡の分解能をモニタする場合，計測する分解能指標値のパターン依存性を低減できるようなサンプルの準備と計測アルゴリズムの採用が，電子ビームサイズの変化を高精度に計測するために必要である。
【解決手段】
本発明では，分解能モニタに適した断面形状のパターンを有するサンプルを提供する。分解能モニタに適した形状とは，具体的には，照射された一次電子ビームがパターンの側壁に当たることのない程度に，側壁が傾斜している断面形状のことである。これにより，パターンの断面形状に依存しない分解能モニタを実現した。 （もっと読む）

【課題】 基板内部に生じる局所的帯電の定量的で詳細な大きさを把握でき、チャージングを低減することができる荷電粒子ビーム検査方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 荷電粒子ビーム検査方法及び装置において、荷電粒子ビーム光学鏡筒の下面と試料との間に、導電性を有し、かつ、荷電粒子光学系の光路に沿って開口を有し、かつ、試料の表面上のＥＢ照射点から見て、鏡筒の下部の一部を覆う板を設ける。複数枚のスキャン画像の各々、あるいは複数枚のスキャン画像を積算した積算画像と、設計データとの比較照合を行い、倍率を求め、当該倍率の変動または変動の傾向から、荷電粒子ビームが照射されている局所領域における倍率との相関量を求め、その値に応じてランディングエネルギーを変化させる。 （もっと読む）

【課題】試料全体にわたりチャージアップのない状態で試料表面の観察及び評価を可能にした荷電粒子線装置及び該装置を使用した半導体デバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】荷電粒子線装置は、一次荷電粒子線を試料１９に向けて照射する手段１、２、３と、一次荷電粒子線の試料１９へ向けた照射によって試料１９の表面の情報を得た二次荷電粒子線を検出器Ｄへ導く手段と、検出器Ｄに導かれた二次荷電粒子線を画像として合成する手段と１４を備える。この荷電粒子線装置は、試料１９の表面の帯電電荷量を計測する計測手段２４と、計測手段２４によって計測された帯電電荷量に基づいて、試料１９の表面における帯電電荷量を低減又は消滅させる帯電解消手段６、１７とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子線回折像の解像度を向上させる走査透過電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 試料ステージ９上に装着される試料ホルダー３０内の電子線通過孔は、電子線光軸Ｏに沿った方向の孔３１と該孔に連なり且つ該孔の方向に対し垂直な方向の孔３３から成り、孔３１と孔３３との境界部に散乱角制限絞り１１が挿入され、孔３３内に電子線光軸Ｏに対し傾けてシンチレーター１３が設けられており、該孔３３の出口部には光電子像倍管１４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】試料表面の電位を一定にして精度よく試料を測定することのできる電子ビーム寸法測定装置及び電子ビーム寸法測定方法を提供すること。
【解決手段】電子ビーム寸法測定装置は、電子ビームを試料の表面に照射する電子ビーム照射手段と、試料７を載置するステージ５と、試料７と対向して配置する光電子生成電極５２と、紫外光を照射する紫外光照射手段５３と、紫外光照射手段５３に紫外光を所定の時間照射させて試料７及び光電子生成電極５２から光電子を放出させ、光電子生成電極５２に試料７が放出する光電子のエネルギーと光電子生成電極５２が放出する光電子のエネルギーとの差に相当するエネルギーを供給する電圧を印加して、試料７の表面電位を０［Ｖ］にする制御手段２０とを有する。前記制御手段２０は、試料７の表面の電位を一定にした後、試料７の寸法測定を行う。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で試料の断面を広範囲に観察することができる試料観察方法及び試料観察装置を提供する。
【解決手段】微細パターンが形成されたウエハである平板状の試料Ｓに対して、グロー放電によって表面から深さ方向に掘削し、試料Ｓの表面から深さ方向に掘削断面を形成する。形成した掘削断面に電子線を照射し、ＳＥＭによって試料Ｓの掘削断面の観察を行う。グロー放電によって、試料Ｓの特定の位置に掘削断面を形成することができ、また試料Ｓの表面を広範囲に短時間で掘削することができる。従って、ウエハに形成された微細パターンの欠損の検査を、簡便に短時間で広範囲に実行することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】試料中の沈殿物等の検査対象物に到達するまでの入射電子線及び沈殿物から発生した反射電子等の散乱を極力少なくすることにより、該検査対象物の検査を好適に行う。
【解決手段】本発明における試料保持体は、試料が保持される試料保持空間４９の壁の少なくとも一部が電子線１により透過される膜４４によって構成されているおり、試料保持空間内４９に電場を形成するためのアルミニウム層４３，アルミニウム電極４６が設けられている。アルミニウム層４３，アルミニウム電極４６間に電圧を印加することにより試料保持空間４９内に電場が形成される。形成された電場によって、試料中の検査対象物７３が移動し、膜４４に接する。これにより、膜４４を介して電子線１を試料に照射した際に、電子線１が検査対象物７３に到達するまでに生じる散乱を最小限にすることができ、良好なＳＥＭ像を取得することができる。 （もっと読む）

【課題】試料の斜角部、縁部、または底面の部分を検査するための改良された荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】この装置は、光軸１０２を画定し１次荷電粒子ビームを集束する第１対物レンズ１０４と、試料配置領域を画定する試料台１１０と、試料に衝突させるためのビーム経路に向けて１次荷電粒子ビームを第１対物レンズと試料配置領域の間で偏向させるための偏向ユニット１３２とを備え、この偏向ユニットは光軸１０２に対して移動可能である。 （もっと読む）