【課題】試料表面に膜を施すことなく試料表面の電荷を平衡に保ち安定した試料の加工および観察が可能な荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】マイクロプローブ１２に固定部５０１を介して固定された枠状の導電板１９を絶縁性試料７に接地（接触）させる。その状態で、導電板１９の枠内にイオンビーム１６を試料７に照射して、加工もしくは観察を行う。このとき、試料７上の電荷は、導電板１９及びマイクロプローブ１２を介して装置方向に移動するため、試料７の表面がチャージアップすることが防止される。加工、観察が終了したら、導電板１９を試料７上から離すため、マイクロプローブ１２を動かし、退避させる。 （もっと読む）

【課題】ターボ分子ポンプやイオンポンプ、あるいはロータリーポンプなどといった通常入手できる排気系を採用した電子顕微鏡において、希少性の高い対象物の観察または吸着を安全に実行できる装置を実現する。
【解決手段】探針と、試料室内を所定のガスで置換する手段と、イオン電流検出や吸収電流検出による画像化手段を備えることにより、放電の危険性の低い安全なＳＥＭを実現する。また、探針に印加する電圧の極性を制御する手段を設ける。更に、探針への印加電圧値を試料室内の真空度に応じて制御する制御手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】マイクロスケールの照射位置あるいは使用回数といった使用状態を簡便に管理できる機能を備えた走査電子顕微鏡あるいは荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】マイクロスケール上のセルの配置に対応したマップを作成し、当該マップ上に各セルの使用状態を表示する。装置ユーザは、実際に使用するマイクロスケール上のセルをマップ上に示されるセルから選択する。表示の際には、単純に使用回数を文字表示するのではなく、マップ上のセルを使用状態に応じて色分けして表示する。また、マイクロスケールの使用状態を適当なカテゴリに分類し、分類したカテゴリ毎に色分け表示する。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭ装置での検査速度高速化技術の提供。
【解決手段】ウェーハ下方の第１サーチダイの左下隅がカメラ中央付近に位置するようにステージを移動し、パターンマッチ用テンプレート画像を取得する。第１サーチダイの右隣のダイを第２サーチダイとし、第２サーチダイの上隣のダイを第３サーチダイとし、ステージを移動し、上記テンプレート画像を用いて自動でパターンマッチを実行することで、第２サーチダイ及び第３サーチダイのパターンの厳密な座標値を取得する。第２サーチダイのパターンマッチ座標と第３サーチダイのパターンマッチ座標の関係より、上隣ダイのパターンへの移動量を算出した、第１サーチダイの上隣のダイのパターンが存在すると予想される座標へステージを移動。テンプレート画像を用いてパターンマッチを実行することで、観察中のパターンの厳密な座標値を更新取得することを繰り返して精度を高めてゆく。 （もっと読む）

【課題】光学顕微鏡での観察に使用したスライドガラスをそのまま観察試料として使用可能な、走査電子顕微鏡用試料ホルダおよび当該試料ホルダを搭載した走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】本発明による走査電子顕微鏡は、低真空制御が可能な真空排気系１３と、エネルギー分散型Ｘ線検出器１４と、スライドを搭載できる試料ホルダ１５を有することで、偏光顕微鏡で観察するのに使用したスライドをそのまま電子顕微鏡に搭載することが可能となり、同一試料による観察および分析ができる走査電子顕微鏡の提供が可能となる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム・システム用の環境セルを提供すること。
【解決手段】荷電粒子ビーム・システム用の環境セルは、Ｘ−Ｙステージ上に取り付けられたセルと集束カラムの光軸との間の相対運動を可能にし、それによってセル内に副ステージを配置する必要性を排除する。後退可能な蓋などの柔軟なセル構成は、ビーム誘起プロセスおよび熱誘起プロセスを含むさまざまなプロセスを可能にする。荷電粒子ビーム・システム内において光電子のガス・カスケード増幅を使用して実行される光子収率分光法は、セル内の材料の分析およびセル内の処理の監視を可能にする。後退可能な鏡を使用してルミネセンス分析を実行することもできる。 （もっと読む）

【課題】
電子顕微鏡に代表される荷電粒子を利用する観察系を有するサンプリング装置において、微小物体を確実にサンプリングする手段を提供することを目的とする。
【解決手段】
前記目的を達成するために本発明は、微小物体試料を載せる基板と、前記微小物体試料を移動させるプローブと、前記微小物体試料を帯電させる電子線照射手段とを備えるサンプリング装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】試料表面に異物が付着することを極力防止することができる電子線検査装置を提供する。
【解決手段】試料２００を配置したステージ１００が真空排気可能な真空チャンバ１１２の内部に設置されており、該試料２００の周囲を包囲する位置に集塵電極１２２が配置されている。集塵電極１２２には、試料２００に印加される電圧と同じ極性で絶対値が等しいかそれ以上の電圧が印加される。これにより、集塵電極１２２にパーティクル等の異物が付着するので、試料表面への異物付着を低減することができる。集塵電極を用いる代わりに、ステージを包含する真空チャンバの壁面に凹みを形成するか、又は、所定の電圧が印加されるメッシュ構造の金属製平板を壁面に敷設してもよい。また、中央に貫通孔１２４ａを有する隙間制御板１２４を試料２００及び集塵電極１２２の上方に間隙制御板１２４を配置することにより、異物付着をより低減することができる。 （もっと読む）

【課題】小型で、短時間で対物レンズの用途切替ができる走査電子顕微鏡及び走査電子顕微鏡の対物レンズの用途切替方法を提供することを課題とする。
【解決手段】対物レンズ５９の外側磁極片１０１に、第１ねじ部１２３を設けし、内壁面に第１ねじ部１２３と螺合可能な第２ねじ部１３９が設け、外壁面に、第２ねじ部１３９と同軸で、ねじ切り方向が逆方向の第３ねじ部１４１が形成され、外側磁極片１０１に着脱可能な補助外側磁極片１３３と、補助外側磁極片１３３の第３ねじ部１４１と螺合可能な第４ねじ部１１７を有し、第４ねじ部１１７の軸が試料ステージの回転中心と一致するように試料ステージ上に設けられ、補助外側磁極片１３３が着脱可能な着脱ホルダ１１１とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ロードロック室に設置された真空計の状態を適切にモニタすることが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、試料室と予備排気室を備えた荷電粒子線装置において、試料室の真空度を測定する第１の真空計と、予備排気室の真空度を測定する第２の真空計と、仕切り弁が開放されたときに、第１の真空計と第２の真空計との測定値の差分が所定値より大きくなった場合、或いは測定値の比率が所定値に達した場合に、所定の信号を発生する制御装置とを備えた荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子線装置の位置決め方法及び装置に関し、周期的な揺らぎを減少させることができる電子線位置決め方法及びその機能を具備する電子線装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子線を発生させる電子源１と、当該電子線を加速、減速、収束及び偏向させる光学系と、当該電子線を走査し、またはブランキング制御するための制御系と、前記電子線が照射される材料７を保持するためのステージ６と、該ステージ６の位置を計測するためのステージ測長系１６ａと、前記材料７から放出される電子線を検出する電子検出部１８と、該電子検出部１８から得られた検出信号を処理するための信号処理系１９とからなる電子線装置において、前記ステージ測長系１６ａからの補正信号に振幅と位相を調整可能な周期信号を加算するように構成される。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡画像、光学拡大観察画像の観察視野切り替えをスムーズに行う。
【解決手段】胴部２４の対向する端面を閉塞する一対の端面板と、第一の観察手段として、胴部２４の円筒状側面の第一の位置４１に固定され、試料室２１内の電子顕微鏡画像を取得するための電子線撮像手段１１と、第二の観察手段として、胴部２４の円筒状側面であって、第一の位置４１と異なる第二の位置４２に装着され、試料室２１内の光学画像を撮像可能な光学系撮像手段１２と、電子線撮像手段１１及び光学系撮像手段１２の光軸を共通の回転軸に向かう姿勢に維持しつつ、該回転軸までの距離を一定に維持するように、電子線撮像手段１１及び光学系撮像手段１２を胴部２４の円筒状側面に沿って回転させるための回動手段と、観察対象の試料を載置するため試料室２１内に設置され、回転軸と略一致する位置に配置される試料台３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】大型試料も観察可能で、しかも小型試料の観察を行う場合にあっては、試料観察開始の待ち時間の短縮をはかることができる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】対物レンズ下部に小型試料観察用の空間制限機構３０を設けて、小型試料又は大型試料の試料観察に対応して、試料室４内で空間制限機構３０の内部空間３６を狭小空間として画成して空間制限機構３０の周囲の試料室４内の空間に対して密閉し、排気シーケンスを切り替えて試料室４内の空間制限機構３０の内部空間３６だけを真空排気する。 （もっと読む）

【課題】試料表面を荷電粒子により調査及び／又は改変するのを容易且つ費用効率的に可能にし、表面電荷蓄積に関係する問題が克服されるような装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子により試料を調査及び／又は改変する装置、特には走査電子顕微鏡が提供される。この装置は、荷電粒子のビームと、該荷電粒子のビームが通過する開口３０を持つ遮蔽エレメント１０とを有し、該開口３０は充分に小さく、上記遮蔽エレメント１０は上記試料の表面２０に対して十分に接近して配置されて、上記荷電粒子のビームに対する該表面における電荷蓄積効果の影響を減少させる。 （もっと読む）

【課題】微小ピクセルによる高感度検査を、ステージをスキャン移動させながら効率的に行える電子線検査装置、方法及び記憶媒体を提供する。
【解決手段】本発明による電子線検査装置では、検査対象物がステージ移動方向と垂直な方向に分割された非連続な２つ以上の検査領域を有する場合、電子線走査制御手段は、電子線走査手段が検査領域に挟まれた非検査領域に照射電子線を照射しないように、照射電子線の走査幅を制御する。 （もっと読む）

【課題】 試料を大気中に取り出すことなく試料の断面加工と断面観察が行える荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】 イオン加工時、試料ホルダ２２の第２の被取付部３４がホルダ取付部１６に取付けられる。そして、遮蔽材４０のエッジ部４２から突出した試料部分４１がイオンビームによってエッチングされる。その後、試料ステージが電子光学系の光軸上に配置されて、イオンエッチングで現れた試料断面５０がＳＥＭ観察される。一方、試料表面４５をＳＥＭ観察する場合には、試料ホルダの第１の被取付部３１がホルダ取付部１６に取付けられる。 （もっと読む）

【課題】気体イオンビーム装置とＦＩＢとＳＥＭを用いて、効率よくTEM試料作製ができる複合荷電粒子ビーム装置としての構成方法を提供する。
【解決手段】ＦＩＢ鏡筒１と、ＳＥＭ鏡筒２と、気体イオンビーム鏡筒３と、ユーセントリックチルト機構とユーセントリックチルト軸８と直交する回転軸１０とを持つ回転試料ステージ９と、を含む複合荷電粒子ビーム装置であり、集束イオンビーム４と電子ビーム５と気体イオンビーム６とは、１点で交わり、かつＦＩＢ鏡筒１の軸とＳＥＭ鏡筒２の軸はそれぞれユーセントリックチルト軸８と直交し、かつＦＩＢ鏡筒１の軸と気体イオンビーム鏡筒３の軸とユーセントリックチルト軸８とは一つの平面内にあるように配置する。 （もっと読む）

【課題】試料の構造を高いコントラストで撮像する。
【解決手段】粒子ビーム装置の試料室に導入した試料４の表面５６の特定の位置上にコントラスト剤前駆体５１を供給した後、粒子ビーム５０および／または光ビーム４７を前記特定の位置に供給する。粒子ビーム５０および／または光ビーム４７とコントラスト剤前駆体５１の相互作用によってコントラスト剤層５２を試料４の表面５６の特定の位置に貼付する。所定時間の間、試料４の表面５６上にコントラスト剤層５２を残す。所定時間の間、コントラスト剤層５２の第１の部分５３は試料４内に拡散し、コントラスト剤層５２の第２の部分５４は試料４の表面５６上に残留する。光学装置および／または粒子光学装置および／または粒子ビーム５０を用いて試料４を撮像する。 （もっと読む）

【課題】それぞれ直交に配置された集束イオンビーム鏡筒と電子ビーム鏡筒を有する複合荷電粒子加工観察装置において、試料ステージを、誤操作なく操作性の良い動作をさせる。
【解決手段】観察像を見て観察位置を動かす際、集束イオンビームと電子ビームの像表示部のそれぞれの座標系で指定した試料ステージ２の移動方向に対して、一つの試料ステージ２をそれぞれの座標系に対応した方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】本発明は試料ホルダ及びマルチビームシステムに関し、プリティルトホルダを用いて薄膜加工とＳＴＥＭ観察を試料の乗せ替え無しに行なうことができる試料ホルダを提供することを目的としている。
【解決手段】透過電子検出器２５を電子光学系の電子ビームが試料２３を透過する延長線上に備え、加工状況を２次電子像と走査透過電子像を少なくとも２種類以上同時或いは交互に観察可能になるように試料配置する試料ホルダを有するマルチビームシステムに用いる試料ホルダであって、所定の厚みまで加工した試料を固定するメッシュ２３ｂと、該メッシュに加工した試料をセットするチップオンカートリッジ３０と、該チップオンカートリッジが取り付けられる試料ホルダ部４０とから構成される。 （もっと読む）