【課題】従来のＳＥＭでは、帯電した試料においてフォーカスを合わせることができなかったり、倍率を正しく計算することができないために、正しいパターン寸法を計測することができなかった。
【解決手段】一次電子線が試料に到達しないようなリターディング電圧と、一次電子が試料に到達するようなリターディング電圧との間で、リターディング電圧を変化させ、そのときの二次電子検出器の出力を検出し、リターディング電圧と二次電子検出器の出力の関係から試料表面の電位を求める。 （もっと読む）

【課題】ビームをワーク・ピースに向けずに、荷電粒子ビーム・システムにおいてコーティングをワーク・ピースに加えること。
【解決手段】コーティングは、荷電粒子ビーム真空室内において、または荷電粒子ビーム真空室外において、スパッタリングによって加えられる。一実施形態では、スパッタリングは、気体流入システムから針などのスパッタ材料源に荷電粒子ビームを向けることによって実施される。材料は、ビームをワーク・ピースに向けることを必要とせずに、たとえば、保護コーティングまたは導電コーティングを形成するために、スパッタ材料源からワーク・ピースの上にスパッタリングされ、それによりワーク・ピースに対する損傷を低減または排除する。 （もっと読む）

【課題】取付位置の制約の大きいＷＤＸを備える電子顕微鏡としても、搭載できる試料のサイズや試料の移動範囲および観察範囲の大きい電子顕微鏡としても利用できる電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】本発明による電子顕微鏡では、試料室８の一部にアダプタ取り付け用の開口部１４を設け、ＷＤＸ１１を備える電子顕微鏡として利用する場合には、当該開口部１４に、試料３に対するＸ線取出し角を常に一定に保ち、ローランド円Ｘを満足する位置に試料３とＷＤＸ１１を配置することができる、ＷＤＸを取付可能なフランジを備えるアダプタ１２を取り付ける。試料３のサイズや試料３の移動範囲および観察範囲の大きい電子顕微鏡として利用する場合は、試料室８の一部を構成し、試料室８の空間を大きくし、搭載できる試料のサイズや試料の移動範囲および観察範囲を大きくすることができるアダプタ１３を取り付ける。これにより試料室８そのものを交換しなくても容易に試料室８の形状を変更できるようにした。 （もっと読む）

【課題】ウエハ周辺の電界乱れを緩和する電極と干渉することなく、ウエハの移動経路を広く確保した試料の保持装置および荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】試料保持装置が複数の電極を有し、当該複数の電極の一部を上下動させる移動機構を備える。また、当該移動機構は前記複数の電極の一部を試料の導入経路から離脱させるように下降させる。さらに前記試料保持装置は試料の位置決め部材を有し、試料の搭載後に試料の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】再計測に際して電子線照射による影響を最小限にし、計測対象パターンの形状を正確に計測する。
【解決手段】既に電子線を照射した領域外へ計測位置を自動的に移動させる。 （もっと読む）

【課題】試料の角度調整を容易かつ正確に行うことができる走査電子顕微鏡用試料台およびその角度調整方法を提供する。
【解決手段】試料台２５は、試料を貼り付ける試料貼り付け板３０と、試料貼り付け板３０を３点で傾動自在に支持する３個の角度調整ネジ３１と、角度調整ネジ３１が螺入される本体３３と、本体３３に一体形成された接続ネジ３２に接続される台座３７とから構成される。角度調整ネジ３１は、螺入量が回転に応じて一定に変化するものであり、ユーザは、各角度調整ネジ３１を回転操作することにより、試料の角度を容易かつ正確に調整することができる。この角度調整は、実体顕微鏡によって試料の側面方向から試料台２５を観察しながら行う。なお、実体顕微鏡の観察視野内には、グリッド線が等間隔に平行に表示されており、このグリッド線を参照しながら角度調整を行う。 （もっと読む）

【課題】 本発明は所定の最終真空圧力を有する粒子光学装置に関する。
【解決手段】 上記目的のため、当該装置の圧力チャンバが、第1絞り弁を介して、蒸気又は気体が既知の圧力で存在する容積と接続し、かつ第2絞り弁を介して真空ポンプと接続する。当該絞り弁に関連する2つのコンダクタンスの比を校正された比にすることによって、真空チャンバの最終圧力は所定の最終圧力となる。これにより、たとえば真空ゲージ及び制御系の必要がなくなることで、そのような装置を小型に設計することが可能となる。 （もっと読む）

本発明は、粒子光学式走査顕微鏡のための位置決め装置、対応した位置決め補助装置を備える粒子光学式走査顕微鏡、ならびに粒子光学式走査顕微鏡で物体の焦点合わせおよび位置決めを行う方法に関する。焦点合わせおよび位置決め補助装置は、あらかじめ規定された位置で粒子光学ビーム軸線と交差する、粒子光学ビーム軸線に対して所定の角度で、コリメートまたは焦点合わせされた光ビームを生成する照明装置と、対物ステージに位置決めされた物体の画像を、粒子光学ビーム軸線に対して相対的な第２の角度で撮影する、光ビームの波長に対して感応性のカメラと、ディスプレイと、カメラによって撮影された画像を、画像内の粒子光学ビーム軸線の位置を示す標識と一緒にディスプレイ上に形成するための制御装置とを有している。
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【課題】走査フレームサイクル間でラスタ走査領域を調整することによって、画像標本上の電子露光を制御するためのシステムおよび方法
【解決手段】小さいズームイン走査領域および周囲領域は、走査フレーム間で複数回のフレームサイクルの間に正の電荷でフラッドされることによって走査領域と周囲領域との間の電圧差分を減少させ、それによって走査された画像中の小さい特徴を不明確にする傾向にある正の電荷蓄積を減少させる。標本上の画素エレメントへのピーク電流は、通例の映像と比較すると非常に短いライン時間でビームを走査するによって低減される。画像データのフレームは、さらに、任意のプログラム可能パターンで非逐次的に獲得され得る。あるいは、非活性ガスは、電子ビームが標本に当たる点で走査電子顕微鏡に注入されて、電子ビームによる不活性ガスのイオン化によって標本上の電荷蓄積を中和化し得る。 （もっと読む）

【課題】試料の傾斜角にかかわらず、試料の組成や結晶方位に依存した反射電子像を高感度に得られる電子顕微鏡およびその制御方法を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡１００は、試料８を載置し試料８の観察面８ａの傾斜角を変化できる試料ステージ１１を備え、試料８の観察面８ａを、集束した電子線によって走査し、反射電子検出器によって、試料８からの反射電子９を検出するものであって、試料ステージ駆動部１２は、駆動制御部１６の制御により、試料ステージ１１を駆動し試料８の観察面８ａを傾斜させ、反射電子検出器駆動部１７は、駆動制御部１６の制御により、試料ステージ１１の傾斜角に応じて反射電子検出器１０を駆動し、この反射電子検出器１０の検出面１０ａが試料８の観察面８ａに対して平行となるよう傾斜させる。 （もっと読む）

【課題】装置を大形化すことなく、描画誤差、或いは検査誤差に繋がるステージ反力を除去し、安価で高精度な描画、及びスループットの高い検査が可能となる荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】電子線描画装置のベース３０上にはＸテーブル３１がＸ方向に移動可能に配置され、Ｘテーブル３１上にはＹテーブル３２がＹ方向に移動可能に配置される。ベース３０とＸテーブル３１との間にはマステーブル３３が配置され、Ｘテーブル３１の移動方向とは反対方向に移動される。試料の描画方向であるスキャン方向をＸ方向とし、ステップ移動方向をＹ方向とする。これにより、Ｘテーブル３１の移動による水平方向の振動が抑制され、装置を大形化することなく、描画誤差、或いは検査誤差に繋がるステージ反力が除去される。 （もっと読む）

【課題】
試料となるウェーハを割ることなしにウェーハ断面を水平から垂直迄の方向からの断面観察や分析を高分解能，高精度かつ高スループットで行える微小試料加工観察装置および微小試料加工観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 （もっと読む）

【課題】半導体装置等基板上で発生した回路パターンの欠陥、異物、残渣等を二次電子像を比較することにより検査する方法において、絶縁材料を有する回路パターンを高速、安定、高精度に検査可能とする。
【解決手段】被検査基板９に、高速に大電流の電子線１９を照射して回路パターンの部材の電位が変動する前に電子線画像を形成する。また、検査用画像を形成するための第一の電子線以外に第二の荷電粒子線１０４を被検査基板９に照射し、部材の電位状態を安定させた後に検査を実施する。また、二次電子検出信号をデジタル化してから転送し、高効率に高ＳＮ比で良質な電子線画像を取得する。
【効果】上記検査方法により、絶縁材料を有する回路パターンの検査が可能となった。これにより半導体装置など各種基板製造プロセスの過程で発生した従来技術では検知できない不良や異常を発見できるようになり、基板製造プロセスの不良率を低減し信頼性を向上した。 （もっと読む）

【課題】ケア領域が小さい場合に十分にスループットを向上させることができる評価方法を提供すること。
【手段】複数のダイ２が配列されたウェーハ１に電子ビームを照射して該ウェーハの評価を行う評価方法であって、それぞれのダイ２に、評価を要する小領域３−１〜３−Ｎを設定し、ウェーハ１を載置したステージを、電子ビームが小領域３−１〜３−Ｎを照射する期間には一定の速度で走行させ、電子ビームが小領域３−１〜３−Ｎでない領域を照射し得る期間には一定の速度よりも大きな速度で走行させることにより、スループットを向上させる。表面電荷の蓄積による試料損傷がなく且つスループットを向上させる実施の形態と、光軸上に複数のビームを形成してスループットを向上させる実施の形態についても開示している。 （もっと読む）

【課題】基板上に金属層を堆積させる方法および基板のトポグラフィカルフィーチャを３次元で測定するための方法の提供。
【解決手段】前駆体ガスは、直径約0.7mmのガス噴射システムの管状ノズル５０を用いてサンプル上方に導入される。約8×10¹⁷mol/cm²sのガス流が用いられる。図２に例示される実施形態においては、２つのノズル５０および６０が存在し、２種類の異なる前駆体ガス５５、６５が基板上方に導入される。対象となる領域を走査する走査電子顕微鏡の電子ビーム７０は、前駆体ガス５５、６５を活性化させるために用いられ、この結果、選択された領域４０の基板のトポグラフィカルフィーチャ上に金属層が堆積される。 （もっと読む）

【課題】電子ビームで検出した欠陥を正確に取り出して解析する技術を提供する。
【解決手段】電子ビーム１２の照射により検出したウェーハ３１の欠陥部にデポガス５２を供給しながら電子ビーム１２を照射することでデポジション膜によるマークを形成し、そのマークを基準に、ガスイオン源２１で発生させたプロジェクションイオンビーム２２により、試料片に加工して取り出す。 （もっと読む）

【課題】高スループットな検査装置を提供すること。
【解決手段】シートビーム式検査装置は、ウェハを収納したカセットを保持するカセットホルダ１０と、空間内の雰囲気が制御されたミニエンバイロメント装置２０と、試料を保持するステージ５０と、試料に所定幅のシート状の一次電子線を照射する一次光学系と、試料から放出された二次電子を捕捉する二次光学系とを有するワーキングチャンバ３０と、ミニエンバイロメント装置とワーキングチャンバとの間に設けられ、試料を搬送するローダハウジング４０と備え、ミニエンバイロメント装置とローダハウジングとの間に防振用クッションを備え、ワーキングチャンバが頂壁、周壁及び底壁に囲まれた剛構造からなり、ローダハウジング及びワーキングチャンバの下に、床からの振動の伝達を阻止するための防振装置３７が設けられている。 （もっと読む）

【課題】気体イオンビーム装置とＦＩＢとＳＥＭを用いて、効率よくTEM試料作製ができる複合荷電粒子ビーム装置としての構成方法を提供する。
【解決手段】ＦＩＢ鏡筒１と、ＳＥＭ鏡筒２と、気体イオンビーム鏡筒３と、ユーセントリックチルト機構とユーセントリックチルト軸８と直交する回転軸１０とを持つ回転試料ステージ９と、を含む複合荷電粒子ビーム装置であり、集束イオンビーム４と電子ビーム５と気体イオンビーム６とは、１点で交わり、かつＦＩＢ鏡筒１の軸とＳＥＭ鏡筒２の軸はそれぞれユーセントリックチルト軸８と直交し、かつＦＩＢ鏡筒１の軸と気体イオンビーム鏡筒３の軸とユーセントリックチルト軸８とは一つの平面内にあるように配置する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、電子顕微鏡の試料室等において付着する不純物を除去し、その後の製造プロセスへの悪影響を抑制し得る試料測定方法、及び荷電粒子線装置の提供にある。
【解決手段】上記目的を達成するために、荷電粒子線による試料測定、或いは検査の後であって、次の半導体製造工程前に、試料上の不純物除去処理を行う装置を提供する。これによって、試料室内等で付着する不純物を除去することができるため、測定，検査後の半導体製造工程における不良発生を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

イオン源、システム及び方法を開示するものである。
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