【課題】 被駆動部の動作方向を適正に決定することのできる駆動制御方法及び駆動制御システム並びに当該駆動制御システムを具備する電子光学機器を提供する。
【解決手段】 方向入力装置であるトラックボール１５を介して入力される信号に応じた入力情報に基づいて、被駆動部（モータ）３１ａ，３２ａの動作を制御する際に、ＣＰＵ１１は、入力情報の履歴（入力情報履歴）と被駆動部３１ａ，３２ａの動作情報の履歴（動作情報履歴）とをメモリ１４に記録し、所定の入力情報履歴及び動作情報履歴と、直前に入力された信号による入力情報（直前入力情報）とに基づいて被駆動部３１ａ，３２ａの動作方向を決定する。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子ビームを照射して、測定を行う装置内で静電潜像を形成する手段を持ち、潜像形成後の短い時間内に測定を行うことができ、また、非破壊で測定することが可能な静電潜像形成方法および装置、静電潜像の測定方法を得る。
【解決手段】 試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面の静電潜像を測定する。荷電粒子ビームを走査する装置内で、試料３０に対して帯電させ、光学系を介して帯電した試料を露光させることにより、試料３０上に電荷分布を生成させる。電荷分布を有する試料を移動させながら試料面の静電潜像を測定してもよい。帯電手段は電子ビームを照射させる手段１０とし、試料からの２次電子を検出する手段１８を設ける。 （もっと読む）

【課題】 試料表面へ電子ビームを直接照射することなく、試料表面の凹凸を観察する。
【解決手段】 電子ビームを試料に照射し、試料から放出される二次電子を検出することによって試料表面の状態を観察する電子線装置を用いた試料観察方法において、試料の上に誘電体材料を載せ、試料と誘電体材料とを接触させることにより接触帯電を起こさせ、接触帯電に起因して誘電体材料表面に誘起される表面電位のコントラストを二次電子を用いた像によって観察することにより、試料表面の凹凸を観察する。 （もっと読む）

【課題】試料の種類に関係なく、ステージを作動させる前に予め試料との干渉を予測して該干渉を未然に防ぐことができ、オペレータにかかる負担を極力軽減すること。
【解決手段】試料２に対して荷電粒子ビーム（ＦＩＢ／ＥＢ）を照射する照射機構と、荷電粒子ビームの照射によって発生した二次荷電粒子を検出する検出機構と、照射機構及び検出機構の三次元データをそれぞれステージ座標系Ｗに関連付けた状態で予め記憶する記憶部と、試料の三次元データをステージ座標系に変換する変換部と、試料の特定位置を測定ポイントに位置させる際に、変換部によって変換されたデータと記憶部に記憶されたデータとに基づいて、試料と照射機構と検出機構との位置関係をシミュレーションして、予め試料が干渉するか否かを判断すると共に判断結果を報知する判断部とを備えている荷電粒子ビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム装置における倍率校正を精度良く行うために校正位置の特定が容易な校正用標準部材及びそれを用いた電子ビーム装置を提供する。
【解決手段】装置校正用標準部材の超格子パターン近傍に、校正位置を特定するためのマークもしくは標識を形成することで、校正位置の特定が可能な高精度測長校正が実現できる。異なる材料４、５が交互に積層された積層構造の超格子パターンの断面を有する基板１に、電子ビーム装置から放出される一次電子ビーム１１を照射して検出される二次荷電粒子の信号をもとに前記電子ビーム装置の倍率校正を行う校正用標準部材において、前記基板は、前記積層に並行した基板面上にあって前記超格子パターン断面に対して交差する方向に一定の間隔で配列された線状パターン３を有し、該線状パターン３の断面は前記超格子断面と略同一の平面内にあるよう構成して、前記線状パターンにより前記超格子パターンの位置を特定する。 （もっと読む）

【課題】電子銃が真空に保たれる走査型電子顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】電子銃窓３５に加速電子を透過し大気に耐える金属膜、炭素膜、ダイヤモンド膜、ダイヤモンドライクカーボン膜を設け、
密封容器３３内が真空に保たれる電子銃２
を備える走査型電子顕微鏡装置１とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、常に試料をカメラに視野内に位置させることができると共に、カメラによる試料室内への各種機器の設置数を制限させることがない電子顕微鏡を提供することにある。
【解決手段】本発明は、カメラ４を試料微動装置３の試料保持手段（９）に支持させたのである。
このように構成することで、試料８の移動に連動してカメラ４も移動するので、試料８がカメラ４の視野から外れたり、周辺に設置された各種機器６で遮られたりすることがなくなる。また、カメラ４を試料室１の壁に設けることで制限していた各種機器６の設置数を増加させることができる。 （もっと読む）

【課題】スピン偏極走査電子顕微鏡において、２次電子収集効率やスピン偏極度を維持しながら、試料に１ｋＯｅレベル以上の高磁場を印加しながら測定できる装置を提供する。
【解決手段】電子銃から出射される１次電子線を磁性体試料２０２に照射する照射光学系と、試料を載置する試料載置手段と、１次電子線の照射により試料から放出される２次電子を搬送する搬送光学系と、搬送された２次電子のスピン偏極度を信号として検出するスピン検出器とを有し、スピン偏極度にかかる信号をもとに試料の磁区像を観察するスピン偏極走査電子顕微鏡において、試料載置手段は、試料に磁界を印加する磁場印加機構２０３、２０６、２０７を有し、該磁場印加機構は、１次電子線および２次電子２１０が通過する開口部を備えた磁気シールド部材２０３を有し、該磁気シールド部材を試料の電子銃側表面に配置して、試料面上の浮遊磁界を封じるようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
電子線を照射した際に得られる２次電子像のコントラストが大きく、互いに直交する２種類の直線形状突起物集合体及びこれを用いた走査型電子顕微鏡用寸法校正試料を提供することにある。
【解決手段】
（１００）面単結晶シリコン基板の結晶面を利用して、直線パターンの上面を形成し、上面に対して鋭角の角度を有する側壁を（１１１）面で形成し、＜０１１＞軸に平行または垂直に直線形状突起構造体を形成する。突起構造体の上面に平行な断面は上面から底部に向かって横幅が小さくなる逆テーパ構造とする。
【効果】
本発明によって、互いに直交する２種類の直線形状突起物の境界から得られる２次電子像のコントラストを大きくし、縦方向横方向の２方向で寸法校正を精度良く行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 マルチビーム型の半導体検査装置において、多様な特性を持つ試料に対して、高い欠陥検出感度と高い検査速度を両立させ得る荷電粒子線応用装置を提供する。
【解決手段】 試料上における一次ビームの配置を可変とし、さらに、試料の特性を元に、最適な検査仕様で高速に検査を行うためのビーム配置を抽出する。また、また、多数の光学パラメータおよび装置パラメータを最適化する。さらに、抽出された一次ビームの特性を測定し、調整する。 （もっと読む）

【課題】試料の線幅、欠陥などを精密に測定、検査することができる、荷電粒子ビーム装置のマッチング方法の提供。
【解決手段】電子顕微鏡によるＳＥＭ画像と、試料の設計データとをパターンマッチングさせ、線幅などの測定、欠陥の検査などを行う荷電粒子ビーム装置によるマッチング方法において、校正用マーク又はそれの付された試料をステージ上に設置し、高さを変えて複数のＳＥＭ画像を取得し、当該ＳＥＭ画像の位置歪みと、設計上の位置歪みデータとをマッチングし、高さを変化させたときの校正用補正データを作成する第１ステップと、フォーカスをかけて検査用ＳＥＭ画像を取得する第２ステップと、フォーカスの高さ値より、前記第１ステップの校正用補正データを用いて、検査用ＳＥＭ画像の位置歪みを補正する第３ステップと、当該位置歪み補正を行ったＳＥＭ画像と、設計データとのマッチングを行い、試料の測長または検査を行う第４ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、対物レンズの磁界や電極板の電界に吸い寄せられ、対物レンズ表面や電極板表面に付着した異物が試料観察時に試料表面に落下し付着することを防止することにある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、走査電子顕微鏡の対物レンズ、或いは電子ビームを加速するための加速円筒への励磁電流、或いは印加電圧を、測定対象試料を対物レンズ下から離間させたときに、励磁電流をオフ、或いは離間させる前に比べて弱励磁、又は印加電圧をオフ、或いは離間させる前に比べて低電圧とする電子顕微鏡を提案する。 （もっと読む）

【課題】低振動でドリフトが小さく高精度の位置決めを行える電子顕微鏡用ステージ機構を実現する。
【解決手段】ステージの駆動機構に超音波モータを用いるとともに、停止剛性を高める固定機構をモータと一体化する。すなわち、与圧機構に超音波モータと共に固定機構のピエゾ素子をマウントする構造を用い、ステージの加速減速及び位置決めを駆動機構で行った後、固定機構によりステージを固定する際、ステージの両側に位置するピエゾ素子が伸長し、ステージを押圧するように構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料を大気中に置きながらも、誘電体を介して荷電粒子を試料に照射することにより、その静電容量差から容易に試料表面の電位コントラストを検出し、試料表面の観測を可能とした荷電粒子線装置及びこれを用いた試料観測方法を提供することを目的とする。
【解決手段】荷電粒子線を用いて試料表面を観測する荷電粒子線装置１００であって、
内部圧力を真空に保った真空筐体１０と、
該真空筐体の一部に設けられた誘電体膜１１と、
前記真空筐体の外部であって、前記誘電体膜に対向する位置に試料８０を載置する試料台６０と、
前記誘電体膜と前記試料との間に、前記誘電体と前記試料の双方に接触する誘電体９０を供給する誘電体供給手段７０と、
前記誘電体膜に前記真空筐体側から荷電粒子線を照射する荷電粒子線源２０と、
前記誘電体膜から前記真空筐体内に発生した電子を検出する電子検出器４０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
半導体ウエハの高速で高分解能な外観検査と、異物や欠陥の存在部位からＴＥＭ観察や各種分析のための試料を高い位置精度で一貫して作製することのできる検査装置を提供すること。
【解決手段】
同一検査装置内に、ウエハ検査用の走査型電子顕微鏡部（ＳＥＭ部）１と試料作製加工用のイオンビーム部１０１とを併設し、ＳＥＭ部１によるウエハ７の外観検査と、この検査結果に基づいての、ウエハ７上の欠陥（異物やパターン欠陥）の存在部位からのＴＥＭ観察や各種分析のための試料の摘出加工作業とを、同一ステージ８上で一貫して行なえるようにした。 （もっと読む）

【課題】
試料の垂直方向に対して傾斜させた電子ビームを試料に照射して二次元像を得るときに、試料の上下振動が原因で検査時間が長くなることを防止できる走査形電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
走査形電子顕微鏡は、試料ステージの高さ変位量を測定する高さ測定手段と、この変位量と電子ビームの傾斜角とから電子ビームの試料に対する照射位置の変位量を算出し、電子ビームの制御信号を送信するマイクロプロセッサと、マイクロプロセッサからの制御信号に基づいて、ビーム偏向手段により電子ビームの水平方向の照射位置を補正するビーム位置補正手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、たとえばESEM（登録商標）のような、粒子と光子で同時に試料を観察する粒子光学装置に関する。
【解決手段】 圧力制限アパーチャ(PLA)が、ESEM（登録商標）の対物レンズと試料位置との間のダイアフラム内に設けられている。試料位置とアパーチャとの間の距離は、このアパーチャを介して、光子の収集角を大きくできるほど十分に小さい。ミラーが、ダイアフラムと対物レンズとの間に設けられている。光子の収集角が大きいため、大きなNAが実現される。試料位置とアパーチャとの距離が短くなることで、当該装置での電子の散乱は、電子が高圧領域ではわずかに限られた長さしか進行できないという理由でアパーチャと試料位置との間にミラーが設けられているESEM（登録商標）での電子の散乱よりも少なくなる。実施例は、たとえばイマージョンレンズが用いられるような組み合わせについても記載している。 （もっと読む）

【目的】本発明は、電子線ビームを高磁場によって細く絞って低真空の試料室内に配置した試料に照射しつつ平面走査し、放出された２次電子を検出して試料の寸法の測長を行う寸法測長装置に関し、試料のパターンなどを高精度に測長することを目的とする。
【構成】電子線ビームを高磁場で細く絞って低真空の試料室内に配置した試料に照射しつつ平面走査する磁界型対物レンズおよび偏向系と、磁界型対物レンズの高磁場による、試料から放出された２次電子の２次電子軌道の絞り込みが行われる場所に配置し、かつ２次電子を遮断しない可及的に小さな直径を持つ２段以上のオリフィスと、２段以上のオリフィスを、回転しながら通過した２次電子を加速する正の電圧を印加あるいは正の電圧を印加した電極を設けると共に加速された２次電子を衝突させて検出・増幅する２次電子検出器とを備える。 （もっと読む）

本発明は、高圧荷電粒子ビーム・システム内でサンプルを処理する、すなわちサンプルを改変し、画像化する方法および装置を含む。本発明の実施形態は、高圧荷電粒子ビーム処理の間、サンプルがその中に配置される小室を含む。この小室は、処理に必要なガスの量を減らし、それにより迅速な導入、排気、ガス間の切替えおよび処理モードと画像化モードとの間の切替えを可能にする。小室内に処理ガスを保持することは、サンプルチャンバおよびカラムがガスと接触することを防ぐ。いくつかの実施形態では、小室壁およびサンプルの温度を制御することができる。
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【課題】湿潤サンプルの電子顕微鏡検査を可能にすることになる、走査型電子顕微鏡と共に使用するように適合されたチャンバを提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡と共に使用するのに適したチャンバ（３４）。チャンバは、膜（３６）で密封された少なくとも１つのアパーチャを含む。膜（３６）は真空に耐えるように適合され、電子に対する透過性をもち、チャンバ（３４）の内部は、前記真空から隔離されている。チャンバは、生きた細胞を内含する湿潤サンプル（３２）を電子顕微鏡の下で検分できるようにするために有用である。 （もっと読む）