【課題】製造工程が単純化され、かつ開口率が向上した有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板；基板上に形成される補助電極；補助電極上に形成され、活性層、ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を備えるＴＦＴ；ＴＦＴと電気的に連結され、ソース電極及びドレイン電極の少なくとも一部と同一層に同一物質で形成された画素電極、発光層を含む中間層、及び画素電極と対向するように配置された対向電極が順次積層された有機発光素子；ソース電極及びドレイン電極と同一層に同一物質で一定ほど離隔して形成されて、補助電極と前記対向電極とを電気的に連結するコンタクト電極；を備える有機発光ディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】複数の有機ＥＬ素子への供給電流ばらつきを低減する。
【解決手段】有機ＥＬ素子５０と電源ラインＶＬとの間に、電源ラインＶＬから供給する電流量を制御する素子駆動用ＴＦＴ２０を備え、ＴＦＴ２０のチャネル長方向を、画素の長手方向、又はＴＦＴ２０を制御するスイッチング用ＴＦＴ１０にデータ信号を供給するデータラインＤＬの延在方向、又はＴＦＴ２０の能動層１６を多結晶化するためのレーザアニールの走査方向に平行な方向に配置する。さらに電源ラインＶＬとＴＦＴ２０の間にＴＦＴ２０と逆特性の補償用ＴＦＴ３０を備えていても良い。 （もっと読む）

【課題】開口率、発光効率及び寿命を向上させた発光装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上にある複数の多面構造体１１と、基板１０上にある複数の画素２０と、から構成され、画素２０が、互いに発光色が異なる複数の発光素子部（２１ｒ、２１ｇ、２１ｂ）を有し、前記発光素子部が、第一電極と、第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置される発光層と、を有し、前記発光素子部が、多面構造体１１の傾斜面上にあり、画素２０が、デルタ配列で配列されていることを特徴とする、発光装置。 （もっと読む）

【課題】フリンジ電場切換（Fringe Field Switching=FFS）液晶ディスプレイパネルの表示輝度を向上させる画素アレイ基板と画素アレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】画素アレイ基板であり、基板１０２と、多数本の走査線ＳＬと、多数本のデータ線ＤＬと、多数個の能動素子Ｔと、保護層１０４と、共通電極１０６と、誘電層１０８と、多数個の画素電極ＰＥとを含む。基板が表示領域Ｒ１および周辺領域を有する。走査線とデータ線とが互いに交差し、能動素子と走査線とデータ線とが電気接続される。保護層が能動素子を被覆する。共通電極が保護層上に配置され、表示領域中に位置する。誘電層が共通電極を被覆する。多数個の画素電極が誘電層上に位置し、かつ各画素電極と１つの能動素子が電気接続され、各画素電極が多数個のスリットｇを有し、共通電極が前記多数のスリット箇所で各画素電極により遮蔽されないようにする。 （もっと読む）

【課題】 発光素子において、高い光取り出し効率を有する発光素子を得る。
【解決手段】 基板と、該基板表面上に位置する発光層とを有する発光素子であって、発光層は少なくとも一部の領域に媒質と該媒質とは屈折率が異なる分散体とを備え、分散体は、一部の領域が発光層の他の領域よりも光が散乱するように、媒質中に分散されており、他の領域の屈折率が基板の屈折率よりも大きい （もっと読む）

【課題】本発明は、反射光用領域の輝度の向上を可能とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、凹凸が形成された透明基板と、上記透明基板上に上記透明基板を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板および上記透明基板の凹部に形成された着色層を透過光用領域として用い、上記透明基板および上記透明基板の凸部に形成された着色層を反射光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタであって、上記透明基板の凸部が光路差調整機能を有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置において、ユーザーシーンに応じて「光の利用効率を高めて正面輝度（発光効率）を増大した表示」か、「視野角が大きい表示」かを選択できる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】各画素が、互いに光学特性の異なる副画素１０１，１０２で構成され、画素及び副画素がそれぞれ千鳥状に配置され、副画素１０１，１０２が独立して制御される。 （もっと読む）

【課題】画素構造の開口率を増やすことのできる画素アレイおよびそれを有するディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】複数の画素構造を含む画素アレイを提供する。画素構造のうち少なくとも１つは、スキャンラインと、データラインと、能動素子と、画素電極と、読み出しラインと、ＥＭＩ遮蔽層と、検出装置とを有する。スキャンラインおよびデータラインは、基板の上に配置される。能動素子は、スキャンラインおよびデータラインに電気接続される。画素電極は、能動素子に電気接続される。読み出しラインは、データラインの上方または下方に配置される。ＥＭＩ遮蔽層は、データラインを覆い、読み出しラインとデータラインの間に位置する。検出装置は、スキャンラインおよび読み出しラインに電気接続される。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴと重なる領域に柱状スペーサを配置すると、一対の基板の貼り合わせ時に
圧力がかかり、ＴＦＴに影響を与える恐れ、クラックが発生する恐れなどがある。
【解決手段】ＴＦＴと重なる位置に形成される柱状スペーサの下方に無機材料からなるダ
ミー層を形成する。このダミー層をＴＦＴと重なる位置に配置することによって、一対の
基板の貼り合わせ工程時にＴＦＴにかかる圧力を分散し、緩和する。このダミー層は、工
程数を増やすことなく形成するため、画素電極と同じ材料で形成することが望ましい。 （もっと読む）

【課題】画素部に形成される画素電極やゲート配線及びソース配線の配置を適したものとして、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を有するアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁表面上のゲート電極及びソース配線と、前記ゲート電極及びソース配線上の第１の絶縁層と、前記第１の絶縁膜上の半導体層と、前記半導体膜上の第２の絶縁層と、前記第２の絶縁層上の前記ゲート電極と接続するゲート配線と、前記ソース電極と前記半導体層とを接続する接続電極と、前記半導体層と接続する画素電極とを有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、輝度を低下させずに高精細化を図ることを目的とする。
【解決手段】複数の画素電極２４を有する回路基板１０に、複数の貫通穴４０を有する蒸着マスク３８を使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層３０を形成する蒸着工程を含む。複数の画素電極２４は、複数の列をなすように配列されている。複数の貫通穴４０は、複数の列をなすように配列され、列に沿った方向に長くなる形状を有し、各列で２つ以上の貫通穴４０が並んでいる。各列に並ぶ画素電極２４の数は、少なくとも、各列に並ぶ貫通穴４０の数の２倍以上ある。蒸着工程で、それぞれの貫通穴４０の内側に、いずれかの列に並ぶ２つ以上の画素電極２４を配置して、複数の画素電極２４上に複数の発光層３０を形成する。 （もっと読む）

【課題】接触感知機能（touch-sensing function）を有するインタラクティブディスプレイパネル（対話型表示パネル）を提供する。
【解決手段】インタラクティブディスプレイパネルが、走査線と、第１データ線と、副画素と、フォトセンサーと、第２データ線とを含む。走査線および第１データ線が交差して副画素領域を定義する。各副画素が副画素領域中に位置するとともに、１つの表示領域を有し、各副画素が走査線の１つ及び第１データ線の１つにそれぞれ電気接続される。フォトセンサーが副画素の表示領域の外側に位置する。走査線および第２データ線が交差し、かつフォトセンサーに電気接続される。 （もっと読む）

【課題】構造及び製造工程を簡素化しながら、開口率を向上させた、ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態に係るディスプレイ装置１０１は、基板１１１、前記基板１１１上に形成された前記第１透明導電膜１３０１及び前記第１透明導電膜１３０１上に形成された第１金属膜１３０２を含む多重膜構造と前記第１透明導電膜１３０１で形成された単一膜構造とを含むゲート配線、前記ゲート配線の一部の領域上に形成された半導体層１５３、そして前記半導体層上に形成された第２透明導電膜１７０１及び前記第２透明導電膜１７０１上に形成された第２金属膜１７０２を含む多重膜構造と前記第２透明導電膜１７０１で形成された単一膜構造とを含むデータ配線を含む。 （もっと読む）

【課題】高い画素開口率と、更に広いＴＦＴ製造プロセスマージン、小さな周辺回路レイアウト面積、長い寿命、のいずれかを実現するアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】基板上に、チャネル層と、ソース電極・ドレイン電極と、第１の絶縁層と、第１の電極と、を有し、第１の電極は第１の絶縁層を介してチャネル層と対向して設けられた画素薄膜トランジスタと、基板上に、チャネル層と、ソース電極・ドレイン電極と、第２の絶縁層と、第２の電極と、第３の絶縁層と、第３の電極と、を有し、第２の電極は第２の絶縁層を介してチャネル層と対向して設けられ、第３の電極は第３の絶縁層を介してチャネル層と対向して設けられた薄膜トランジスタと、を有することを特徴とするアクティブマトリクス基板。 （もっと読む）

【課題】従来のブラックマトリックス層等を用いないことで、残渣の問題を解消して、コントラストの低下をなくすことができる情報表示用パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】情報表示画面領域が透明な観察側とする絶縁性基板と背面側とする絶縁性基板とを、基板間ギャップ確保用隔壁を介して対向させて形成した、基板間の情報表示画面領域内の空間に配置された表示媒体を、情報表示画面領域が透明な観察側とする絶縁性基板の内側面および背面側とする絶縁性基板の内側面にそれぞれ形成されている電極を用いて形成した電界で駆動させて情報を表示する情報表示用パネルであって、情報表示画面領域内に配置される基板間ギャプ確保用隔壁４は透明であり、情報表示画面領域内に配置される基板間ギャップ確保用隔壁と絶縁性基板とを接合する接着材９は透明であり、背面側とする絶縁性基板の内側面の少なくとも透明な基板間ギャップ確保用隔壁との間には絶縁性の有色層３１が形成されている。 （もっと読む）

【課題】画素の開口領域における開口率を確保しつつ、所望の電気容量を確保可能な保持容量を備えた電気光学装置、およびこれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置としての液晶装置は、透光性の画素電極１５と、画素電極１５に対応して設けられたＴＦＴ３０および保持容量と、ＴＦＴ３０に電気的に接続され第１方向に延在する遮光性のデータ線６ａと、データ線６ａと交差する第２方向に延在する遮光性の走査線３ａと、を備え、保持容量は、ＴＦＴ３０を覆うように設けられた遮光性の第１電極１６ｂと、第１電極１６ｂに対向し、第１方向および第２方向の一方に延在する本線部と第１方向および第２方向の他方に突出する突出部とを有する透光性の第２電極１６ａと、を有し、本線部は第１電極１６ｂおよびデータ線６ａよりも幅広に設けられ、突出部は第１電極１６ｂおよび走査線３ａよりも幅広に設けられている。 （もっと読む）

【課題】光射出側に透明基板を設けた場合に、その透明基板に起因して光取り出し効率が低下するのを抑制することの可能な表示パネル、表示装置、照明パネルおよび照明装置、ならびに表示パネルおよび照明パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】実装基板１０−１と透明基板１１０−２との貼り合わせに際して、実装基板１０−１上の発光装置１４と、透明基板１１０−２上の樹脂層２６Ｄとを互いに接触させ、樹脂層２６Ｄのうち発光装置１４に接する部分に、発光装置１４側から透明基材２５側に向けて広がるフィレット２６Ａを形成させる。 （もっと読む）

【課題】反射型画像表示装置は基板や共通電極等、いくつかの透明層を介した部分に画像表示体によって描画された画像が存在するため、光の反射率が紙等への印刷物と比較して低く、表示画像の視認性が劣る問題が生じていた。
【解決手段】
少なくとも２つの対向する基材間に画像表示体を有する反射型表示装置であって、該画像表示体よりも視認方向側に発光層を有することを特徴とする反射型表示装置である。また、さらには、前記発光層が蛍光もしくは燐光材料の一方もしくは両方を含むことを特徴とする前述した反射型表示装置である。 （もっと読む）

【課題】画素部に形成される画素電極やゲート配線及びソース配線の配置を適したものと
して、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を
有するアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁表面上のゲート電極及びソース配線と、前記ゲート電極及びソース配線
上の第１の絶縁層と、前記第１の絶縁膜上の半導体層と、前記半導体膜上の第２の絶縁層
と、前記第２の絶縁層上の前記ゲート電極と接続するゲート配線と、前記ソース電極と前
記半導体層とを接続する接続電極と、前記半導体層と接続する画素電極とを有することを
特徴としている。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、幅手の平面性と光学的均一性を兼ね備えた薄膜長尺状λ／４板を提供することにある。さらには、該λ／４板を用いた円偏光板、偏光板により、外光下でも視認性が良好なＯＬＥＤ表示装置、および首を傾けた際の輝度低下を低減できる立体（３Ｄ）画像表示装置を提供することにある。
【解決手段】フィルムの遅相軸が長尺方向に対し２０〜７０°の角度を有し、波長５９０ｎｍにおける面内位相差Ｒｏ（５９０）がＲｏ（５９０）＝１２０〜１６０ｎｍを満たす長尺状λ／４板であって、該長尺状λ／４板が下記（１）式を満たすセルロースアシレートからなる層Ａと、下記（２）式を満たすセルロースアセテートからなる層Ｂを含む積層フィルムであることを特徴とする長尺状λ／４板。 （もっと読む）