【課題】製造コストを大幅に増大させずに情報を記録することができるとともに、情報を容易に再生することのできる電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００の素子基板１０において、外周領域１０ｃに複数の容量素子５６を形成しておき、外部からいずれの容量素子５６に高い電圧を印加して絶縁破壊させるかによって、電気光学装置１００の一つ一つにＩＤ等情報を記録する。容量素子５６は、ダミー画素１００ｂに設けた蓄積容量５５であり、データ線６ａ、走査線３ａおよび容量線５ｂのうち、外周領域１０ｃで延在している部分を配線として利用して、容量素子５６への電圧印加および信号検出を行う。 （もっと読む）

【課題】額縁領域を大きさを抑えつつ、製造時に発生する静電気による静電破壊を防ぐダミー画素を有する表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、薄膜トランジスタを含む画素を複数有し、画像を表示するための領域である表示領域（２６０）と、表示領域の外側に形成され、ダミー画素を複数有するダミー画素領域（２７０）と、を備え、ダミー画素（３１０）は、薄膜トランジスタのゲート信号線と平行なダミーゲート信号線（３１１）と、ダミーゲート線と絶縁層を介して交差する半導体層（３１３）と、を有し、半導体層には、一の導体層（３１２）のみが接続される。 （もっと読む）

【課題】スリットの端部の数を低減させてドメインの発生を抑制することができる電界駆動型装置及び電子機器を提供すること。
【解決手段】電界駆動装置としての液晶装置は、画素領域において、互いに異なる色に対応する２以上の矩形のサブ画素４を有している。当該液晶装置は、対向して配置された一対の基板と、当該基板間に配置された液晶と、一方の基板の、液晶に対向する面にサブ画素４ごとに形成された画素電極と、画素電極上に絶縁層を挟んで積層され、サブ画素４の辺の一つに平行なスリット２７を複数有する共通電極２６と、を備えている。スリット２７の少なくとも一部は、複数個分のサブ画素４の幅と略等しい長さを有し、同一の色に対応する各々のサブ画素４には、スリット２７の端部２８が同一数含まれている。 （もっと読む）

【課題】駆動回路等を制御するための駆動制御信号の信号線を基板の所定部位に配設することで、基板面の有効利用と、駆動制御信号への外的影響を防止ないし抑制することが可能な表示装置、及びそれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】基板２０上に、バンク層２２１と該バンク層２２１により区画形成された凹状区画領域２２３とを所定のマトリクスパターンで配列するとともに、表示部たる画素部１１０に、表示に寄与する実画素部１１１と、表示に寄与しないダミー画素部１１２とを構成する。さらに基板２０上には、走査線を導通する走査信号の出力制御を行う走査線駆動回路８０と、該走査線駆動回路８０を駆動させるための駆動制御信号が導通する駆動制御信号導通部３２０とが設けられ、基板２０を平面視した場合に、駆動制御信号導通部３２０が、少なくともダミー画素部１１２のバンク層２２１と重畳配置する部分を含むように配置されている。 （もっと読む）

【課題】過剰なエッチングによる不良を減少させるための表示基板の製造方法を提供する。
【解決手段】互いに交差する信号ラインによって定義された複数の単位画素Ｐを有する表示領域ＤＡと表示領域ＤＡを取り囲む周辺領域ＰＡを含む基板１１０上にフォトレジスト膜を塗布する段階と、フォトレジスト膜をパターニングして、表示領域ＤＡで信号ラインとオーバーラップされる第１パターン部Ｐ１と、周辺領域ＰＡで信号ラインと重畳されない領域に形成された複数のダミー開口部ＤＯを含む第２パターン部Ｐ２とを形成する段階と、第１パターン部Ｐ１及び第２パターン部Ｐ２が形成された基板１１０上に透明電極層１１７ａ、１１７ｂを形成する段階と、ストリップ溶液で第１パターン部Ｐ１、第２パターン部Ｐ２、及び第１及び第２パターン部上に形成された透明電極層１１７ａ、１１７ｂを除去して、単位画素Ｐに対応する画素電極ＰＥ及びダミー開口部ＤＯに対応するダミー電極ＤＭを形成する段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ダミー走査線を選択する期間を短くする。
【解決手段】走査線駆動回路２００は、第１行〜第４行の走査線に走査信号Ｇ１〜Ｇ４を出力する。これらの信号波形は同一である。また、走査線駆動回路２００は、第６０５行〜第６０８行の走査線に信号波形が同一となる走査信号Ｇ６０５〜Ｇ６０８を出力する。従って、第１行〜第４行の走査線は同じ水平走査期間で選択され、第６０５行〜第６０８行の走査線は同じ水平走査期間で選択される。これによって、ダミー走査線を選択する期間を短くすることができる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置において、非発光時における表示のシームレス化を適切に実現する。
【解決手段】可視光を遮光する金属よりなる背面電極２３と光取り出し側に位置する透明電極２１との間に有機ＥＬ材料よりなる有機層２２を挟んでなる有機ＥＬ発光部２０を有する文字盤１０を備え、有機ＥＬ発光部２０の光取り出し側に、背面電極２３による光反射を防止する反射防止膜１２を備えてなる有機ＥＬ表示装置において、背面電極２３は、文字盤１０のうち有機ＥＬ発光部２０の外側の全体にまで、透明電極２１とは絶縁膜２５を介して設けられており、文字盤１０のうち有機ＥＬ発光部２０の外側の全体にて、背面電極２３よりも光取り出し側には、透明電極２１と同一材料よりなる透明ダミー膜２６が背面電極２３と重なるように設けられており、透明ダミー膜２６と透明電極２１とは絶縁膜２５を介して電気的に分断されている。 （もっと読む）

【課題】誘電体層に高誘電率絶縁膜を用い、高誘電率絶縁膜等のエッチングにドライエッチングを採用した場合でも、静電破壊の発生を防止することができる電気光学装置の製造方法、および当該方法により製造した電気光学装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００を製造するにあたって、高誘電率絶縁膜形成工程および高誘電率絶縁膜パターニング工程によって誘電体層４２ａを所定領域に形成した後、第２電極形成用導電膜形成工程および第２電極形成用導電膜パターニング工程によって容量線５ｂ（第２電極）を形成する。このため、高誘電率絶縁膜４２は、広い領域にわたって形成された状態でドライエッチング時のプラズマを受けるのは、高誘電率絶縁膜パターニング工程の間だけであり、第２電極形成用導電膜パターニング工程を行う時点では、すでにパターニングされている。 （もっと読む）

【課題】画素選択用トランジタの素子領域を作り込んだ半導体基板の上に層間絶縁膜とメタル層を交互に繰り返して成膜した積層膜構造を有する液晶パネル用基板において、被研磨膜に係る層間絶縁膜を厚膜化せずに、研磨レートの均一化を達成できる構造を実現する。
【解決手段】液晶パネル用基板は、画素領域において第２のメタル層からなる遮光膜１２に開けた開口部１２ａを通して遮光膜下の第２の層間絶縁膜１１を挟んで第１のメタル層からなる配線膜１０と遮光膜上の第３の層間絶縁膜１３を挟んで第３のメタル層からなる画素電極とを導電接続する接続プラグ１５を備えている。非画素領域の入力端子パッド２６の周囲に、第１のメタル層からなる下層ダミーパターンＡと第２のメタル層からなる上層ダミーパターンＢが積み重ね形成されている。ダミーパターンＡ，Ｂ上の第３の層間絶縁膜１３の成膜表面レベルが底上げされるため、その部分での過研磨を解消できる。そのため、ＣＭＰ処理において一様の研磨レートが得られる。 （もっと読む）

【課題】従来の設定電圧は、発光素子の特性変化のマージンを見込んだ値（となっており、駆動用トランジスタのソース・ドレイン間電圧Ｖ_dsを高く設定する（Ｖ_ds≧Ｖ_gs−Ｖ_Th＋α）必要があった。そのため、発光素子へ印加する電圧、すなわち発光素子の陰極と陽極にかかる電圧が高くなってしまい、それに伴い発熱や消費電力が高くなってしまった。
【解決手段】本発明は、発光素子の劣化に伴う電流値の変化をフィードバックし、設定電圧の設定を行う電源電圧を制御する手段を設け、設定電圧を修正することを特徴とする。すなわち、設定電圧を飽和領域と線形領域との境界付近（臨界付近）とし、特に初期の設定電圧は劣化分の電圧マージンを要しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置等の電気光学装置において、積層構造の高集積化と、シール材の効率的な硬化を両立することにより、表示画像の高品位化を図る。
【解決手段】電気光学装置は、シール領域（１０ｂ）に配置されたシール材（５２）によって一対の基板（１０、２０）が貼り合わされてなる電気光学装置であって、一方の基板（１０）上に、互いに重なるように形成された複数の遮光層（１１´、７１´、１５´及び９ａ´）を備え、複数の遮光層のうち一の遮光層の外形形状は、一方の基板上で平面的に見て、一の遮光層より上層側に形成された他の遮光層の外形形状より広い。 （もっと読む）

【課題】画素領域とその周辺領域において安定した電気光学特性を有する電気光学装置およびこれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置１００は、一対の基板間に電気光学素子としての液晶層が挟持され、一対の基板のうちの素子基板１０側に設けられた、複数の画素回路を有する画素領域Ｅと、画素領域Ｅの周辺に設けられた、画素回路の駆動に係る周辺回路を有する周辺回路領域Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３と、画素領域Ｅを囲むように周辺回路領域Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３との間に設けられた、ダミー画素を有するダミー画素領域Ｅｄとを備え、ダミー画素が画素回路を模したものであって、画素領域Ｅにおける画素回路のパターン密度と、ダミー画素領域Ｅｄにおけるダミー画素のパターン密度とがほぼ等しくなっている。 （もっと読む）

【課題】情報を表示するために電圧が印加される電極が島状に孤立したものであっても、その電極に電圧を印加するための配線による視認性低下を回避する。
【解決手段】ベース基材１３上に表示電極１１ａ，１１ｂに電圧を印加するために形成された配線１２ａ，１２ｂの両側に、ベース基材１３上における形成高さが、配線１２ａ，１２ｂのベース基材１３上における形成高さよりも高いダミー電極１４を配線１２ａ，１２ｂに沿って形成する。 （もっと読む）

【課題】簡易なシステムで焼き付きを低減することの可能な表示装置およびその駆動方法ならびに電子機器を提供する。
【解決手段】表示領域１０Ａの縦横比と異なる縦横比の映像信号２０Ａが外部から入力され、表示領域１０Ａのうち左右の帯状領域１０Ａ−１（図示せず）が黒表示されたのち、表示領域１０Ａの縦横比と等しい縦横比の映像信号２０Ａが外部から入力されたときに、その映像信号２０Ａのうち左右の帯状領域１０Ａ−１に対応する映像信号が、光センサ１９によって検出された境界線Ｌ１，Ｌ２における輝度差を用いて補正される。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークを設けなくても、回路基板の接続端子とＦＰＣ基板の接続端
子との間の電気的接続正確に素早く行うことができるＦＰＣ基板が接続された回路基板及
び回路基板とＦＰＣ基板の接続方法を提供すること。
【解決手段】回路基板１５の接続端子２０のうちの少なくとも２つを、他の接続端子２０
よりも長さを長くし、回路基板１５の配線の形成部分側に突出させてその表面を露出させ
るようにしてダミー接続端子２０ａとし、このダミー接続端子２０ａの露出部分を目印と
して、平面視で容易に視認できるＦＰＣ基板１２の対応する接続端子２４を、このダミー
接続端子２０ａと平面視で一直線に連なるよう整合させる。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置における表示品質の向上を図ること。
【解決手段】第一基板と第二基板の間に設けられ、画素電極及び共通電極を介して与えられる電気的刺激に応じて光学特性が変化する表示材料と、表示材料の光学特性の制御に用いるデータ信号を供給するデータ信号処理回路(103)と、表示材料の光学特性の制御に用いる走査信号を供給する走査信号処理回路(104)と、少なくとも走査信号処理回路及びデータ信号処理回路の形成領域を平面的に覆うように重畳して配置されるダミー電極(115)と、を備える電気光学装置である。 （もっと読む）

【課題】単一の液晶表示パネルに表示に必要な駆動電圧が異なる複数の表示部を同時に表示させても、表示品位低下を引き起こさず、かつ安価な液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】単一の液晶表示パネル１に、駆動電圧の異なる第１液晶表示部４と、第２液晶表示部５と、第２液晶表示部５の周囲の背景部にあたる液晶表示パネル１の上ガラス２および下ガラス３のそれぞれに、第１液晶表示部の電気配線の幅と電極間距離を同じにした上ダミー電極６、下ダミー電極７を備え、ダミー電極のどちらか一方のうち、第２液晶表示部５に近接するダミー電極以外を第１液晶表示部４の電気配線に接続することにより、異なる液晶駆動電圧で動作する液晶表示部間において電位差が発生させず、かつ、ダミー電極部の光透過度を均一にでき、静電気等の外部からの電位の影響も受けないようにできるため、表示品位向上ができる。 （もっと読む）

【課題】正確に焼き付きを防止することの可能な表示装置を提供する。
【解決手段】画素Ｐ₀に所定の大きさの定電流が流され、画素Ｐ₁〜画素Ｐ_nに互いに異なる大きさの定電流が流され、その定電流の大きさに応じた輝度で画素Ｐ₀〜画素Ｐ_nが発光する。画素Ｐ₀〜画素Ｐ_nの間に所定の数ずつ配置された各受光素子１７Ｂにおいて、隣接する２つの画素Ｐ_i-1，Ｐ_iの発光光が検知され、隣接する２つの画素Ｐ_i-1，Ｐ_iの受光信号１７Ａ（電圧Ｖ_si-1’，Ｖ_si）が出力される。隣接する２つの画素Ｐ_i-1，Ｐ_iの輝度比α_iが、その２つの画素Ｐ_i-1，Ｐ_iの間に配置された受光素子１７Ｂから出力された受光信号１７Ａ（電圧Ｖ_si-1’，Ｖ_si）を利用して導出されたのち、輝度比α₁、α₂、……、α_iを利用して画素Ｐ₁〜画素Ｐ_nの輝度情報が補正される。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス基板の一辺に駆動回路を有し、コモン転移を介して対向基板側へ共通電圧を供給するアクティブマトリクス型表示装置において、歩留まりを低下させることなく、額縁領域の面積を縮小する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板１０は、バスライン駆動回路１６が配置された一辺に対向する辺に設けられたコモン転移１５ａ，１５ｂへコモン信号を供給するコモン配線１４を備える。コモン配線の少なくとも一部が画素領域におけるダミー画素領域に配置されており、コモン配線のうち走査線と平行であり且つダミー画素領域に配置された部分の幅は、コモン配線のうち走査線と平行であり且つダミー画素領域外に配置された部分の幅よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】 アクティブマトリクス型の表示装置の作製工程又は完成品における静電気によ
る不良の発生を抑制する。
【解決手段】 本発明に係る表示装置は、アクティブマトリクス回路の角の部分に隣接し
て、前記アクティブマトリクス回路に接続されていない格子状の放電パターンが形成され
ていることを特徴とする。また、本発明に係る表示装置は、アクティブマトリクス回路の
周辺に、前記アクティブマトリクス回路を構成するゲイト線又はソース線と交わる放電パ
ターンが形成され、前記放電パターンの長さは、前記アクティブマトリクス回路の画素ピ
ッチよりも長いことを特徴とする。これらにより、各種静電破壊によるアクティブマトリ
クス型表示装置の不良の発生を抑制することができる。 （もっと読む）