【課題】高いＳＮＲが得られる薄膜積層体としての磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録媒体製造装置、さらにこの磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】成膜用基板を複数のスパッタチャンバ内に順次搬送し、スパッタチャンバ内で、前記成膜用基板上に、スパッタ法を用いて薄膜を形成する際、スパッタチャンバ内に、複数の成膜用基板を同時に収容し、このうち、いずれかの成膜用基板に薄膜を形成しつつ、成膜前の待機中の他の成膜用基板を加熱する第１の工程と、成膜用基板のうち、いずれかの成膜用基板に薄膜を形成しつつ、前記第１の工程で薄膜を形成した後の成膜用基板を加熱する第２の工程のうち、少なくとも一方を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に、好ましくは核付け層２を設け、この上に反強磁性膜を含む多層軟磁性裏打ち層３を成膜する。この軟磁性裏打ち層３は、軟磁性膜と反強磁性膜の間で交換結合しており、かつ周方向もしくは径方向に異方性を有している。反強磁性膜は、好ましくは、Ｃｒ又はＭｎを含有する合金の膜又は自然酸化以外の金属酸化膜であり、めっき等により成膜することより得られる。また、該異方性化は磁場中熱処理により行われ、磁場印加方向により周と径異方性を作り分けられる。そして、この軟磁性裏打ち層３上に垂直磁気記録用の磁気記録層５を形成し、さらに、好ましくは保護層６及び潤滑層７を順次積層する。 （もっと読む）

【課題】磁気データ記録粒状層の結晶化度と磁気結晶異方性を高めることにより、垂直磁気記録媒体に要求される熱安定性と雑音特性を達成すること。
【解決手段】磁気記録媒体２００の基板２０２上に、ニッケル（Ｎｉ）と、面心立方ニッケル（Ｎｉ）相に対する溶解度が室温以上で５０原子パーセント以下であり且つ１．５×１０^-7ｍ³/ｋｇ以下の質量磁化率を有する合金化元素とからなるシード層２０４を付着し、続いて下地層２０６、磁気データ記録粒状層２０８を順次付着する。前記合金化元素は、ホウ素（Ｂ）、炭素（Ｃ）、マンガン（Ｍｎ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、銀（Ａｇ）、カドミウム（Ｃｄ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、ハフニウム（Ｈｆ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、ビスマス（Ｂｉ）及びトリウム（Ｔｈ）から選択される。 （もっと読む）

【課題】高耐食性及び高Ｂｓを有した磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】磁気記録媒体１０は、垂直磁気異方性を示す磁性層を記録層１８とする磁気記録媒体１０であり、記録層１８の下層に形成する軟磁性裏打層（上側軟磁性裏打層１３ｃ及び下側軟磁性裏打層１３ａ）の材質がＦｅＣｏＺｒ合金にＴａまたはＮｂの少なくとも一つの元素が添加された合金であり、さらにＣｒが添加された合金である。このような軟磁性裏打層を備えた磁気記録媒体１０によれば、高耐食性及び高Ｂｓを有した軟磁性裏打層が形成され、高Ｈｃ記録で、且つ高いＳ／Ｎ性能を有する磁気記録媒体が実現できる。 （もっと読む）

化学的規則垂直記録媒体及び該媒体の製造方法を提供する。この方法は基板上に(002)配向を有する下層を堆積させる工程を含む。下層の上には(002)配向を有する緩衝層を堆積させる。次に、緩衝層の上には磁気記録層を堆積させる。下層及び磁気記録層は格子ミスフィットを有して、磁気記録層の形成中にひずみエネルギーを誘発する。該ひずみエネルギーが、約400℃未満の基板温度で化学的規則構造を備えた磁気記録層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 高密度磁気記録媒体における下地膜作製用スパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 原子量％で、Ｃｒ：≧６０％、Ｍｏ：≧５％、Ｃｕ：≦１０％を含むターゲット材において、９００〜１０５０℃で固化成形し、Ｍｏ粒子が幅５μｍ以下のＣｒ結合相で結合されたマトリックス組織を有する相対密度９７％以上であるＣｒ−Ｍｏ−Ｃｕを含むターゲット材。また、上記ターゲット材が原子量％で、Ｃｒ：６０〜９０％、Ｍｏ：５〜３５％、％、Ｃｕ：１〜１０％からなる成分組成であるＣｒ−Ｍｏ−Ｃｕを含むターゲット材。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体の耐食性を有する軟磁性下地層、及び磁気記録ヘッドの軟磁性薄膜を成膜する。
【解決手段】基板１０１と、該基板１０１上に成膜される下地層１０４と、該下地層１０４上に成膜される磁気データ記録層１０６とを有する磁気記録媒体であって、前記下地層１０４は、少なくとも一つの軟強磁性元素、及びクロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、炭素（Ｃ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、マンガン（Ｍｎ）、窒素（Ｎ）、チタン（Ｔｉ）、ニオブ（Ｎｂ）、ケイ素（Ｓｉ）、タンタル（Ｔａ）、アルミニウム（Ａｌ）の元素群から選択した少なくとも一つの腐食防止元素を含んだ軟磁性合金からなるものである。 （もっと読む）

【課題】良好な端部形状を得ることが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】多成分系のガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させてガラス基板の表面を研磨する鏡面研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、鏡面研磨工程によって得られるガラス基板の端部形状を示すＤｕｂｏｆｆ値が±１０ｎｍ以内となるように研磨液の凝集度または分散度を制御して鏡面研磨工程を行う。 （もっと読む）

【課題】熱揺らぎ耐性に優れ、良好なＳＮＲ特性を示し、容易に製造することができる磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】基板と、該基板上に形成され、Ｎｉを含有する非晶質合金を含む第１の下地膜と、該第１の下地膜上に形成され、Ｃｒ単体またはＣｒを含有する合金を含む結晶性の第２の下地膜と、該第２の下地膜上に形成され、Ｆｅ及びＣｏのうち少なくとも一種の元素、ならびにＰｔ及びＰｄのうち少なくとも一種の元素を含有し、Ｌ１₀構造を持つ磁性結晶粒子を含む磁気記録層とを具備し、前記第２の下地膜の上面に存在する酸素量が、前記第２の下地膜の下面に存在する酸素量より多く、前記磁気記録層の磁性結晶粒子の（００１）面の法線方向が膜面法線方向に対して３ないし２５°の範囲で傾斜して配向していることを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】所望の領域に所望の材料を配置するデバイスにおいて、プロセスの簡素化を行う。
【解決手段】表面に第１の材料を有する基板101上に、第２の材料と第３の材料とを含む膜を形成した後、エネルギー照射により、第３の材料の表面張力を利用して、基板表面の第１の領域上に前記第２の材料102が、前記基板表面の第２の領域上に前記第３の材料103が来るように、前記第２の材料および前記第３の材料を移動させる。
【効果】簡便に微細なデバイスを製造できる。 （もっと読む）

【課題】 低粗さ基板を用いながら、高いＯＲを実現し、磁気ヘッドの浮上高さの低減と記録再生特性の向上を両立した磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 ２層以上のアモルファスシード層、２層以上の下地層を備えた長手磁気記録媒体で、第１シード層は、Ｃｒ−Ｎ系合金、Ｃｒ−Ａｌ系合金、Ｃｒ−Ｔｉ系合金からなる単層または２層以上で構成され、第２シード層は、Ｎｉ−Ｒｕ−Ｎｂ系合金、Ｎｉ−Ｒｕ−Ｔａ系合金、Ｎｉ−Ｒｕ−Ｗ合金、Ｃｏ−Ｒｕ−Ｗ系合金からなる単層または２層以上で構成され、第１下地層は純Ｃｒからなり、第２下地層はＭｏ、Ｂ、Ｔｉ、Ｗを含有するＣｒ系合金からなる単層または２層以上で構成されることを特徴とする。
また、基板は溝の密度が１０本／μｍ以上、Ｒａ０．１〜１ｎｍのテクスチャ加工が施される。 （もっと読む）

【課題】熱揺らぎ耐性などの磁気特性およびグライドハイト特性に優れ、かつ容易に製造することができる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板１と、その上に形成された非磁性下地層３、磁性層４および保護層５を基本構成とし、非磁性下地層３が、ｂｃｃ構造を有し、非磁性基板１と非磁性下地層３との間に、非磁性下地層を（２００）に優先的に配向させる配向調整層２が形成され、磁性層４が、柱状微結晶粒が円周方向に傾いた結晶構造を有し、磁性層４の周方向の保磁力Ｈｃｃと径方向の保磁力Ｈｃｒとの比Ｈｃｃ／Ｈｃｒが１より大きくされている。 （もっと読む）

【課題】 強磁性層における磁性結晶粒子を適切に微細化する。
【解決手段】 垂直磁気記録に用いる磁気ディスク１０であって、基体１２と、下地層１８と、グラニュラー構造の微細化促進層２０（非磁性グラニュラー層）と、グラニュラー構造の強磁性層３２を有する磁気記録層２２とを備え、微細化促進層２０は、無機酸化物のマトリックスと、非磁性の金属結晶粒子とを有し、強磁性層３２は、無機酸化物のマトリックスと、金属結晶粒子の結晶方位に応じた所定の方位に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子とを有する。 （もっと読む）

【課題】磁気的にリセット可能な単一磁区軟磁性裏打ち層を使用する垂直磁気記録ディスクを提供すること。
【解決手段】垂直磁気記録ディスク３００は、基板３１０の上に配置された硬磁性ピンニング層３２０、硬磁性ピンニング層の上に配置されたスペーサ層３３０、スペーサ層の上に配置された軟強磁性膜３４０、および軟強磁性膜の上に配置された磁気記録層３５０を備えることができる。 （もっと読む）

【課題】化学量論的に良好なカーバイド又は炭素含有のマスター合金スパッタターゲット材料を提供すること。
【解決手段】スパッタターゲット材料は、Cr-C、Cr-M-C又はCr-M₁-M₂-Cからなる合金系を含有してなり、Cは、0.5〜20at%を含み、Mは、0.5〜20at%を含み、かつTi、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及びWの群から選ばれた元素とし、またM₁は、0.5〜20at%を含み、かつTi、V、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及びWの群から選ばれた元素とし、更にM₂は、0.5〜10at%を含み、Li、Mg、Al、Sc、Mn、Y及びTeの群から選択した元素とする。他方、基板及び上記のスパッタターゲット材料からなる少なくとも１つの下層を含む磁気記録媒体とすることができる。スパッタターゲット材料を製造する方法は、クロム合金やカーバイド又は炭素含有のマスター合金を含む元素の組み合わせからなる粉体材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】スクラッチの発生し易い磁気ディスク表面のテープクリーニング工程において、浮上阻害となる微細な突出部を効率よく除去し、グライドノイズが発生せず、且つ磁気ディスク表面に与える再生信号のエラーとなり得る軽微な傷（スクラッチ）を抑える磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスクの製造方法において、パッドのクリーニングテープに面する表面に凹凸を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面が平坦且つ平滑な垂直磁気記録ディスクを製造する方法を提供することである。
【解決手段】軟磁性層１３の表面を平滑に研磨した後に、垂直記録層１５は、この平滑に研磨した軟磁性層１３の表面に、中間層１４を介して、又は直接形成される。これにより、軟磁性層１３の表面から異常成長により形成された突起や付着物が除去される。基板１１の両面に形成したそれぞれの軟磁性層１３の表面は、固定砥粒研磨される。この固定砥粒研磨は、基板１１を回転させ、この基板１１の両面上のそれぞれの軟磁性層１３の表面に、パッド２４を介して研磨テープ２６を押し付け、パッド２６を基板１１の矢印Ｘで示す径方向に往復移動させることによって行われる。研磨テープ２６は、基板１１の径方向に連続的に送ってもよいし、停止させた状態であってもよい。 （もっと読む）

【課題】 低ノイズ化と耐熱擾乱性の向上を両立させる磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】 非磁性の基板と、その上に順次堆積された、ＣｒもしくはＣｒ基合金からなる少なくとも１層の下地層、Ｃｏ基合金からなる少なくとも１層の中間層及びＣｏＣｒ基合金からなる少なくとも１層の磁気記録層とを含んでなり、かつ前記下地層及び（又は）前記中間層が、それぞれ、クリプトンガス及び（又は）キセノンガスの存在においてスパッタリング法によって成膜された薄膜であるように構成する。 （もっと読む）

【課題】加熱できない基板に対して、高い静磁気特性で、且つ、低媒体ノイズの高密度記録可能な磁気記録媒体及びそれを備えた磁気記録装置を提供する。
【解決手段】可撓基板上に、カバー層及び、Ｃｒ下地層を形成した後、酸化物を含有したＣｏＰｔＣｒ合金磁性膜及び保護層を順次形成する。 （もっと読む）

【課題】高密度な情報の記録再生が可能な、高保磁力、低ノイズ、高Ｓ^*かつ信頼性の高い磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】基板１１上に、少なくとも二層の非磁性下地膜を介しＣｏ基合金系の磁性膜からなる情報記録層１５、１５’が配置された磁気記録媒体であり、上記非磁性下地膜の内に最も基板側に配置された第１の非磁性下地膜１３、１３’が、Ｃｒを主成分とし、Ｚｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｙからなる群の少なくとも一種の元素と酸素とを含有する複合膜からなり、上記元素の濃度を１原子％以上、２０原子％以下、酸素の濃度を１原子％以上、３０原子％以下とするようにした磁気記録媒体。 （もっと読む）