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Fターム[5D112FB20]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 乾式薄膜製造手段 (812) | 薄膜形成雰囲気、環境 (139) | 雰囲気ガス (95)

Fターム[5D112FB20]に分類される特許

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垂直磁気記録媒体は、基板と、基板上に、軟磁性裏打ち層、シード層、磁束スリット層、非磁性中間層、記録層、保護膜、及び潤滑層を順次積層した構成とし、磁束スリット層13は非磁性部分の境界部を有する略柱状構造の軟磁性粒子を有し、記録ヘッドからの磁束を軟磁性粒子の部分だけに狭窄して磁束の広がりを抑制する。また、磁束スリット層を記録層上に設けた垂直磁気記録媒体を開示する。
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ナノ粒子媒体の製造方法において、白金、窒化ケイ素および真空中での熱処理の下で解離する磁性元素の窒化物が基板上に所定量スパッタリングされ、基板は、真空中で高速熱処理操作を受けさせられ、基板は、磁性元素の窒化物が解離し拡散により窒素を放出して磁性元素を後に残す温度まで所定の期間にわたって加熱され、そして基板は放冷される。磁性元素は白金と合金を作り、実質的に単分散でありかつ窒化ケイ素中に実質的に均一に分布された粒子を形成する。この合金化プロセスは、磁性元素の窒化物が解離すると直ちに生じる。磁性元素は、好ましくはコバルトであり、基板は、好ましくは正方晶形のPtCo合金の形成を可能にする温度まで加熱される。

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【課題】室温で下地層、磁性層を形成した、安定して高い性能と高い信頼性を有する、安価な高密度磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】支持体の少なくとも一方の面に、真空成膜法により少なくとも金属または合金からなる下地層、強磁性金属粒子と非磁性酸化物からなるグラニュラ磁性層を形成した磁気記録媒体であって、該媒体の表面抵抗率が1Ω/□以上100Ω/□以下の範囲であることを特徴とする磁気記録媒体。上記磁気記録媒体の製造方法であって、真空成膜装置内において、真空度≦1×10-4Paおよび水の分圧≦7×10-5Paを満たした後、所望の圧力まで希ガスを導入し、支持体上に上記下地層、およびグラニュラ磁性層を形成する方法。 (もっと読む)


【課題】記録性能を確保し、記録層に記録された磁化の熱安定性およびS/N比を向上し、高記録密度化を図れる磁気記録媒体およびその製造方法、並びに磁気記憶装置を提供することである。
【解決手段】基板21と、その基板21上に、窒素あるいは酸素を含む非磁性材料からなる配向制御層22、CrまたはCrを主成分とする材料からなる下地層23、hcp結晶構造を有するCoを主成分とする強磁性材料からなる記録層24、保護膜28、および潤滑層29が順次形成された構成とする。配向制御層22の作用により、記録層24は下地層23上にエピタキシャル成長し、c軸が基板面に対して所定の傾斜角をなすように形成される。 (もっと読む)


磁気記録媒体であって、Co基合金材料からなる強磁性層と、強磁性層上に配置されたRu又はRu基合金材料からなる非磁性結合層と、非磁性結合層上に配置されたCo基合金材料からなる磁気記録層とを含んでいる。非磁性結合層はAr−N混合ガス雰囲気中でスパッタリングにより形成されるため、窒素を含有している。スパッタリング中の窒素ガス分圧は6.7×10−3〜3.7×10−2Paの範囲内である。
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【課題】本発明は、従来と同等以上の記録再生特性を確保しつつ、トラック密度を大幅に増加させ、ひいては面記録密度を増加させようとすることを目的とする。
【解決手段】本発明は、成膜装置10内に、非磁性基板11、ターゲット材12、マグネット板21を平行に配置し、ターゲット材には高周波電圧を印加し、マグネット板の表面には交互に異なる極性を等間隔で生じさせ、ターゲット材の周囲にプラズマを発生させ、非磁性基板にスパッタリング法により薄膜を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】酸素添加系反応性スパッタリングを用いた磁性膜の形成において、酸素添加を行なっても安定した再現性のある反応性スパッタリングを可能とし,より、高保磁力な磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 SiCとSiOx(x=1〜2)とを有することを特徴とする垂直磁気記録媒体を提供する。また、軟磁性層上に反応性スパッタリングにより磁性層を成膜するステップにおいて、SiCを含有するターゲットに、Arガスと酸素ガスとを添加することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録媒体のグラニュラー記録層において磁性粒子と非磁性粒界を適切に分離し、磁性粒子の磁気異方性を損なうことなく粒子間の磁気的相互作用を低減し、媒体ノイズを低減する。
【解決手段】CoとPtとCrとを含む合金結晶粒子と、SiとOとを含む非磁性粒界を含み、記録層中のSi原子数に対するO原子数の比率が2.5以上5以下、記録層中のSi原子含有率が3〜6原子%、O原子含有率が12〜20原子%である垂直磁気記録媒体を用いる。また、記録層の形成時、基板中心に対し同心円状に並ぶ気体導入口より酸素を含むプロセスガスを導入することにより、記録層の媒体面内の任意の点における垂直保磁力の分布を、平均値の±10%以下とする。 (もっと読む)


反応性スパッタリング法を用いる磁性膜の再現性、安定性を考慮したスパッタリング方法を提供する
【課題】
磁気記憶媒体の磁性膜を形成する工程における特性の悪化を抑制する。
【解決手段】
反応性スパッタリングをする際に、酸化炭素を添加する。 (もっと読む)


【課題】酸化物グラニュラ媒体の結晶粒間の交換結合を低減し、高い媒体S/Nを得て、1平方センチあたり23ギガビット以上の面記録密度を実現する。
【解決手段】基板上に、軟磁性層、Ruを含有する下部中間層、Ru結晶粒と酸化物からなる結晶粒界とを有する上部中間層、結晶粒と酸化物からなる結晶粒界とを有する磁気記録層を順次積層した構造を有し、磁気記録層の結晶粒は上部中間層のRu結晶粒上にエピタキシャル成長し、磁気記録層の結晶粒界は上部中間層の結晶粒界上に成長している。 (もっと読む)


【課題】 従来の連続膜媒体の作製プロセスに近い簡便な方法を用い、磁気記録層において配向分散を抑制しつつ磁気クラスターサイズを減少させることができる下地層の分離構造を形成し、かつ下地層の薄膜化による記録性能の高性能化が可能な垂直媒体の提供。
【解決手段】 非磁性基体上に少なくとも下地層および磁気記録層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体であって、前記下地層は結晶粒子と非晶質結晶粒界とからなり、該結晶粒子が、(成長初期の底面積)>(上部の面積)である形状を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】 製造インラインにおいて金属薄膜磁性層の非磁性支持体近傍における酸素含有量を正確に評価し、品質の安定した金属薄膜磁性層を得ることのできる磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】 走行している非磁性支持体1の一方の面上に、真空蒸着法により酸素ガスを供給しつつ金属薄膜磁性層を形成する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
金属薄膜磁性層の形成後に、非磁性支持体1の他方の面側から支持体1を通して金属薄膜磁性層に光を投射し、その反射光の明度を測定15することにより金属薄膜磁性層の非磁性支持体近傍における酸素含有量を監視する方法。 (もっと読む)


【課題】 低ノイズ化と耐熱擾乱性の向上を両立させる磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】 非磁性の基板と、その上に順次堆積された、CrもしくはCr基合金からなる少なくとも1層の下地層、Co基合金からなる少なくとも1層の中間層及びCoCr基合金からなる少なくとも1層の磁気記録層とを含んでなり、かつ前記下地層及び(又は)前記中間層が、それぞれ、クリプトンガス及び(又は)キセノンガスの存在においてスパッタリング法によって成膜された薄膜であるように構成する。 (もっと読む)


【課題】高密度な情報の記録再生が可能な、高保磁力、低ノイズ、高S*かつ信頼性の高い磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】基板11上に、少なくとも二層の非磁性下地膜を介しCo基合金系の磁性膜からなる情報記録層15、15’が配置された磁気記録媒体であり、上記非磁性下地膜の内に最も基板側に配置された第1の非磁性下地膜13、13’が、Crを主成分とし、Zr、Si、Al、Ti、V、Ta、Yからなる群の少なくとも一種の元素と酸素とを含有する複合膜からなり、上記元素の濃度を1原子%以上、20原子%以下、酸素の濃度を1原子%以上、30原子%以下とするようにした磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】 高保磁力で、熱揺らぎの影響を受けにくく、かつ大幅なS/N比の改善をもたらす磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 基板上に少なくとも、下地層及び磁性層を順次積層してなる磁気記録媒体において、前記下地層と前記基板との間にプリコート層を介在させ、前記プリコート層がNiとPとを含む下層と、Cr合金からなる上層とを順次積層することにより構成されることを特徴とする磁気記録媒体。 (もっと読む)


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