【課題】耐環境性、特に耐腐食性を高めることを可能とした磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】複数のチャンバと、複数のチャンバ内で非磁性基板を保持するキャリアと、キャリアを複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構とを備えたインライン式成膜装置を用いて、非磁性基板８０の少なくとも一方の面上に形成された磁性層８３に、磁気的に分離された磁気記録パターン８３ａが形成されてなる磁気記録媒体を製造する際に、キャリアが各チャンバの間を通過する間に、各チャンバ内を減圧雰囲気とし、大気と遮断された状態で各工程を連続して行うと共に、保護層８４を形成する前に、磁性層８３の表面を水素プラズマに曝し、この磁性層８３の表面に形成された酸化膜を還元除去する。 （もっと読む）

【課題】イオン注入型によるディスクリートトラック媒体の分離域形成加工において、入射するイオンが被処理磁気ディスク基板の端面のような鋭角部に集中、アーキングと呼ばれる異常放電が発生し、磁性膜の破壊が発生してしまう。
【解決手段】被処理磁気ディスク基板（被処理基板）２０と同電位になるグリッド３０を被処理基板が保持された電極板４４の上面に設けた電極構造に対して、高電圧パルス３２を印加することで、グリッド表面のみに高電圧のシース４１を形成し、グリッドに囲まれた被処理基板表面にはシースを形成しないことで、アーキングを抑制する。さらに、グリッドを通過して照射されるイオンに晒される電極板上に配置された被処理基板の面積に対して、被処理基板に覆われた部分を除く電極板の面積が等倍以上とすることで二次電子を積極的に利用して、無損傷なイオン注入処理を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、摺動耐性や腐食耐性等の耐久性を向上させつつ、薄膜化を図ることのできる保護層を備える磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 基体上１１０に少なくとも、磁気記録層１２２と、保護層１２６とを、この順に備える垂直磁気記録媒体１００において、保護層１２６は表層側に希ガスの原子を含有し、かつ、保護層のラマン分光法におけるＧピークの高さをＧｈとし、Ｄピークの高さをＤｈとし、Ｇピークの蛍光を含んだバックグラウンド強度をＢとし、Ｇピークの蛍光を除いたピーク強度をＡとした場合、保護層１２６のラマン分光法による測定結果は、Ｄｈ／Ｇｈが０．７８〜０．９６であり、Ｂ／Ａが１．３１〜１．３４であることにより、保護層を薄膜化可能であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】軟磁性下地層の密度を高め、また表面粗度を低下させることによって、更なる高記録密度化に対応することを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板１の上に、複数の軟磁性層２ａを反強磁性結合させた軟磁性下地層２と、磁化容易軸が非磁性基板１に対して主に垂直に配向した垂直磁性層４とを積層してなる磁気記録媒体の製造方法であって、軟磁性層２ａをスパッタリング法で形成し、スパッタリングガスとしてＫｒ又はＸｅを用い、このスパッタリングガスの圧力を０．３Ｐａ以下とする。これにより、高エネルギーのスパッタリング粒子を生成することが可能となり、また、膜中に混入するガス粒子も減少し、密度が高く緻密且つ平坦性の高い軟磁性下地層２が形成可能となる。 （もっと読む）

【課題】垂直磁性層の高い垂直配向性を維持し、更なる高記録密度化を可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板１の上に、軟磁性下地層２と、直上の層の配向性を制御する配向制御層３と、磁化容易軸が前記非磁性基板１に対して主に垂直に配向した垂直磁性層４とを積層してなる磁気記録媒体の製造方法であって、垂直磁性層４を２層以上の磁性層４ａ，４ｂ，４ｃから構成し、各磁性層４ａ，４ｂ，４ｃを構成する結晶粒子が配向制御層３を構成する結晶粒子と共に厚み方向に連続した柱状晶を形成するように各層を結晶成長させる際に、配向制御層３をスパッタリング法で形成し、スパッタリングガスとしてＫｒ又はＸｅを用い、このスパッタリングガスの圧力を５Ｐａ以下とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜化しても潤滑層との密着性、耐磨耗性及び耐腐食性に優れた保護層を備えた磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクの製造方法であって、前記保護層は化学的気相成長（ＣＶＤ）法で形成される。まず炭化水素系ガスを用いて成膜を行い、途中から炭化水素系ガスに窒素族又は酸素族に属する元素の単体もしくは化合物ガスを添加して引き続き成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】磁気特性のより一層の向上を実現することにより、高情報記録密度化に資することができる垂直磁気記録ディスクの製造方法及び垂直磁気記録ディスクを提供する。
【解決手段】基板１上に少なくとも磁気記録層を備え、垂直磁気記録に用いる磁気ディスクの製造方法であって、基板１上に、グラニュラー構造の強磁性層５と、該強磁性層５上に形成される積層からなる交換エネルギー制御層７とから構成される磁気記録層を形成する工程において、少なくとも前記交換エネルギー制御層７をアルゴンガスより質量の重い希ガス雰囲気中においてスパッタリング成膜する。アルゴンガスより質量の重い希ガスは、クリプトン（Ｋｒ）ガスである。前記交換エネルギー制御層７は、ＣｏまたはＣｏ合金を含む第１層とパラジウム（Ｐｄ）または白金（Ｐｔ）を含む第２層との積層である。 （もっと読む）

【課題】垂直磁性層の密度及び硬度が低下することなく、優れた記録再生特性及び熱揺らぎ特性の両方を得ることが可能な磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体、並びに、高記録密度特性に優れた磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】垂直磁性層４の少なくとも一部を、Ｃｏが主成分であるとともに、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｇの群の中から選ばれる少なくとも１種類以上の非磁性金属の酸化物を含むグラニュラー構造の磁性層として形成し、垂直磁性層４をスパッタリング法で形成するためのターゲットを、Ｃｏの酸化物と、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｇの群の中から選ばれる少なくとも１種類以上の非磁性金属とＣｏとの化合物を含むとともに、ターゲット中に含有される酸素の比率を、垂直磁性層４に含有させる酸素の比率よりも高い比率とし、垂直磁性層４を形成する際のスパッタリングガス圧を１Ｐａ以下とする。 （もっと読む）

【課題】２５０Ｇビット／平方インチ以上の記憶容量であってもノイズの少ない、グラニュラ磁気記録層を含む磁気ディスク及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスクは、ディスク基体１０上に直接又は中間層を介して形成され、グラニュラ柱状粒子間に非磁性領域を有してなるグラニュラ磁気記録層２０と、前記グラニュラ磁気記録層２０上に形成され、前記グラニュラ柱状粒子間で交換相互作用させる補助記録層２２と、を具備し、前記補助記録層２２は、０．１モル〜３モルの酸素を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層からのＣｏの溶出を抑制するとともに、膜厚が３ｎｍ以下の、磁気記録媒体用保護層の形成方法を提供することにある。
【解決手段】（１）基体と該基体上に形成される金属膜層とを含む積層体の上に、炭化水素ガスを原料として用いるプラズマＣＶＤ法によって保護膜を形成する工程であって、上記炭化水素ガスの流量が５０ｓｃｃｍ以上２００ｓｃｃｍ以下であり、放電電流が０．１Ａ以上０．３Ａ以下である、保護膜の形成工程と、（２）工程（１）で形成した保護膜の表面処理工程であって、（２ａ）アルゴンガス中でのプラズマ処理、及び（２ｂ）窒素ガスを含むガス中でのプラズマ処理を含む表面処理工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体用保護膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】磁性パターン間に非磁性の分離領域を短時間で形成することができ、ディスクリートトラック媒体やビットパターンド媒体のような磁気記録媒体を製造するのに有効な方法を提供する。
【解決手段】第１の膜厚を有する磁気記録層上にレジストを形成し、前記レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、前記磁気記録層の第１の領域上にレジストのパターンを形成し、アルコールガスを用いたイオンビームエッチングにより、前記磁気記録層の第１の領域以外の第２の領域において、前記第１の膜厚の磁気記録層の表面部をエッチングし前記磁気記録層を改質して、前記第１の領域の第１の膜厚の磁気記録層よりも薄い第２の膜厚を有する非磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】対向して配置されたイオンビーム発生装置を備える基板処理装置をクリーニングする方法およびその機能を備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板が配置される面Ｓを挟むように第１および第２のイオンビーム発生装置１ａ，１ｂが対向して配置され、前記基板の両面を処理する基板処理装置１００のクリーニング方法は、前記第１のイオンビーム発生装置１ａと前記第２のイオンビーム発生装置１ｂとの間から基板を退避させる退避工程と、前記第１のイオンビーム発生装置から前記第２のイオンビーム発生装置にイオンビームを照射して、前記第２のイオンビーム発生装置をクリーニングするクリーニング工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】反応性スパッタリングを行う際に、酸素ラジカル濃度分布の均一性を高め、磁性層中に取り込まれる酸素濃度を面方向において一様とし、磁気特性、記録再生特性が安定した磁性層の形成方法を提供する。
【解決手段】反応性スパッタリングにより形成する磁性層の形成方法であって、反応容器内に、基板を配置するとともに、スパッタ電極と、該スパッタ電極の表面に配設された酸化物以外のクロムを含むターゲットとからなる電極ユニットを、一対、それぞれ前記ターゲットを前記基板側にして、前記基板の両面と対向するように配置し、アルゴン及び水を含む混合ガスを、前記一対の電極ユニットの各前記基板側の表面付近に供給し、前記ターゲットに含まれる酸化物以外のクロムを、反応性スパッタリングにより、グラニュラ構造を有する磁性層に含まれる酸化クロムとして形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し記録層の磁気特性の変化が生じにくい信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体１０は、基板と、該基板の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素１４Ａを構成する記録層１４と、記録要素１４Ａの間の凹部１６を充填する充填部１８と、を有し、該充填部１８は金属系材料の主充填材料と窒素とを含んでなり、且つ、主充填材料の原子数及び窒素の原子数の合計値に対する窒素の原子数の比率が充填部１８の上面部１８Ａにおいて充填部１８の下部１８Ｂにおけるよりも高くなるように充填部１８中に窒素が偏って分布している。 （もっと読む）

【課題】 補助記録層に起因すると考えられるノイズを低減させてＳＮＲを向上し、更なる高記録密度化を達成することが可能な垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決するために本発明にかかる垂直磁気記録媒体１００の代表的な構成は、基体上に少なくとも、柱状に成長した結晶粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造の磁気記録層１２２と、磁気記録層１２２の上に設けられたＲｕと酸素を含む非磁性の分断層１２４と、分断層１２４の上に設けられ基体１１０の主表面の面内方向に磁気的にほぼ連続した補助記録層１２６とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】潤滑層との間の密着性を高めると共に十分な機械的強度を持つ薄膜の炭素系保護層を備えた磁気ディスクを得ることができる磁気ディスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスクの製造方法においては、基板１上に密着層２、軟磁性裏打ち層３、下地層４、非磁性中間層５、磁気記録層６、炭素系保護層７、潤滑層８を順次形成されてなる磁気ディスクの製造方法であって、炭素系保護層７の成膜後に、炭素系保護層７に対して、窒素ガスと、窒素よりもイオン化エネルギーの大きい希ガスとの混合ガスを用いて窒化処理を行う。 （もっと読む）

【課題】下地層の膜厚を薄くしても良好な磁気特性が得るようにし、磁気ヘッドと軟磁性層間の距離を小さくし、より急峻なヘッド磁界で記録すること。
【解決手段】非磁性基体１上に少なくとも、下地層２と磁気記録層３と及び保護膜４が順に形成された構造を有しており、さらにその上に液体潤滑材層５が形成されている。磁気記録層３は、強磁性を有する結晶粒とそれを取り巻く酸化物或いは窒化物の非磁性結晶粒界からなり、かつ下地層の形成時のガス圧を変化させ、表面層部分を初期層部分よりも高ガス圧で形成した。下地層２の形成方法としては、初期層部分は低ガス圧で成膜し、表面層は初期層部分よりも高ガス圧で成膜する。 （もっと読む）

【課題】磁性パターン間に非磁性の分離領域を短時間で形成することができ、ディスクリートトラック媒体やビットパターンド媒体のような磁気記録媒体を製造するのに有効な方法を提供する。
【解決手段】磁気記録層上にレジストを形成し、前記レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、パターン化されたレジストをマスクとして、ＨｅとＮ₂の混合ガスを用いたイオンビームエッチングによりレジストに覆われていない磁気記録層の一部をエッチングするとともに磁気記録層の残部を改質させて膜厚の減少した非磁性層を残存させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】記録時の書き込み能力を維持しつつ、垂直磁気記録録層の垂直配向性を向上させることができ、また、垂直配向性の向上と磁性結晶粒子の粒径の均一化及び微細化を両立させることができ、情報の高密度記録再生が可能な磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体１０は、非磁性基板１上に、少なくとも軟磁性裏打ち層２、配向制御層３、磁気記録層４および保護層５を具備し、このうち配向制御層３は、シード層６および中間層７によって構成されている。シード層６は、Ｃｕを主成分とし、面心立方構造を有するＣｕ−Ｔｉ合金を主材料とする。そして、このＣｕ−Ｔｉ合金は、非磁性基板１の表面に対して略垂直方向に（１１１）結晶面配向するとともに擬似六方晶構造を有している。 （もっと読む）

【課題】本発明は垂直磁気記録に適した磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体及び磁気記録装置に関し、交換結合力制御層材料としてルテニウムのみからなる層を用いても量産性の向上を図ることを課題とする。
【解決手段】非磁性基板１上に、軟磁性裏打ち層２、非磁性中間層３、垂直磁気異方性を有する第１記録磁性層４、Ｒｕよりなる交換結合力制御層５、及び垂直磁気異方性を有する第２記録磁性層６を順次積層形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記交換結合力制御層５を形成するときのプロセスガスのガス圧を、2Ｐａ以上5Ｐａ以下に設定する。 （もっと読む）