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Fターム[5D112FB25]の内容

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【課題】比較的大きい表面凹凸が形成される磁気記録層上であっても、FCVA法により、ステップカバレッジ、および、耐食性・耐摩耗性に優れた磁気記録媒体用薄膜を成膜できる。
【解決手段】回転駆動機構部およびチルト機構部が制御ユニット40に制御されることにより、基板ホルダー20および記録媒体用基板28’の傾斜角θが、成膜中、保護層の膜厚の増大に応じて最小傾斜角度から最大傾斜角度まで連続的に変化する。 (もっと読む)


【課題】多数のステーションを有する磁気ディスク等の基板を処理するフートプリントの小さいシステムを提供する。
【解決手段】それぞれの上部に処理チャンバが積層され、さまざまなサイズのディスクを取るように調節可能なディスクキャリア上でディスクがシステムを通じて移動するところのディスク処理及び製造装置が記述されている。ディスクはロードゾーンを通じてシステムに進入し、その後ディスクキャリア内に装着される。ディスクはキャリア内にあって、ひとつのレベルで、処理チャンバを通じて連続的に移動し、その後、リフトまたはエレベータにより他のレベルへ移動する。他のレベルにおいて、再びディスクはシステムを通じて連続的に移動し、その後アンロードゾーンで出力される。 (もっと読む)


【課題】ロボットの動作速度を変えず、キャリア上のホルダへの基板取付け方等を改良することにより単位時間当たりの基板移載量を増大した基板処理装置を用いることで基板の処理能力を高める。
【解決手段】基板の成膜に用いる基板移載装置は例えばインライン式成膜装置に適用される。この基板移載装置は補助真空室17と真空室16を備える。補助真空室17は複数の第1基板カセットを備える。真空室16は搬送路に沿ってキャリアが移動する真空室10cに通じている。真空室16は、ロボット25と、ロボット26と、これらのロボットの間に配置され、複数枚の基板が搭載可能でかつ並列に並べられた複数の第2基板カセットとが設けられている。基板116はセンタ孔を有する円板状の基板である。基板のセンタ孔はピックアップの動作の際に引掛け部として利用される。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、装置の基板ホルダに円板状の基板を装着するロボットに対する位置教示に関し、より詳細には基板ホルダが確実に保持できる位置に基板を供給する位置教示方法、位置教示プログラムおよび位置教示装置に関する。
【解決手段】 本発明の位置教示方法は、複数の基板ホルダを備える装置において、基板を支持する爪で支持する基板ホルダに基板を装着するロボットに対する位置教示方法であり、ロボットに基板をキーボードへの供給位置まで搬送させ、基板の中心位置を第1の位置情報として取得する第1位置取得手順と、供給位置から基板ホルダに装着した後の基板の中心位置を第2の位置情報として取得する第2位置取得手順と、第1第2の位置情報との差分である偏差を求める偏差算出手順と、複数の偏差の中から所定の算出方法で偏差を代表する代表偏差を求める代表偏差算出手順と、代表偏差を基に教示位置を求め、ロボットに教示する教示手順とで構成する。 (もっと読む)


【課題】 ハードディスク等の磁気記録ディスクの製造に用いられると好適なインライン型基板処理装置を提供する。
【解決手段】 真空中で基板を処理する処理チャンバーを含む複数の真空チャンバーが接続された第一第二の無終端状の搬送路1,2に沿って、基板を保持するための基板保持具51,52をそれぞれ周回させる第一第二の周回機構がそれぞれ設けられている。第一の基板保持具51から基板を取り外し、第三の搬送路3に沿って基板を大気に取り出すことなく真空中で搬送し、第二の基板保持具52に移載する搬送系が設けられている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、搬送されてきた基板ホルダーを移動させることなく、基板を受け取り、その場で基板を回転することが可能な基板支持回転装置及び基板支持機構を提供することを目的とする。
【解決手段】中空の円柱状部材と、その中空部に第1のバネにより軸方向の一方に付勢して取り付けられ、一端部にテーパー部が形成された中心軸と、円柱状部材の一端面に設けられた径方向に移動する複数の移動部材であって、その外周側には基板の内周端面を支持するツメが設けられ、第2のバネにより中心軸方向に付勢された径方向移動部材と、からなり、中心軸の軸方向運動を径方向移動部材の径方向運動に変換して基板の支持、解放を行う基板支持機構を用いることを特徴とし、さらに、基板支持機構を軸方向移動及び回転させる機構及び中心軸を軸方向に移動させる機構を設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】摺動部分に高い加重が加わる250〜300℃の環境下でも使用が可能であり、且つ、高い真空環境を悪化させることが無く、更に、発塵を高度に低減させた摺動部材、摺動部品、及びそれらの製造方法、並びにそれらを用いた磁気記録媒体製造装置を提供する。
【解決手段】本発明の摺動部材は、摺動面の表面11に開口したピット12を形成し、このピット12に固体潤滑剤を保持することを特徴とする。前記摺動面は、ステンレス鋼またはアルミニウム合金からなることを特徴とすることができる。 (もっと読む)


【課題】多数のステーションを有する磁気ディスク等の基板を処理するフートプリントの小さいシステムを提供する。
【解決手段】それぞれの上部に処理チャンバが積層され、さまざまなサイズのディスクを取るように調節可能なディスクキャリア上でディスクがシステムを通じて移動するところのディスク処理及び製造装置が記述されている。ディスクはロードゾーンを通じてシステムに進入し、その後ディスクキャリア内に装着される。ディスクはキャリア内にあって、ひとつのレベルで、処理チャンバを通じて連続的に移動し、その後、リフトまたはエレベータにより他のレベルへ移動する。他のレベルにおいて、再びディスクはシステムを通じて連続的に移動し、その後アンロードゾーンで出力される。 (もっと読む)


【課題】複数枚の非導電性の基板に対してバイアススパッタによる成膜を行う枚葉式の成膜装置において、生産性を維持したままで、良好にDCバイアスを印加することができるようにする。
【解決手段】非導電性の基板1を保持する基台6と、バイアス印加用端子13を基板1上に成膜された導電性膜に接触させることによってこの導電性膜にバイアス電圧を印加するバイアス印加手段とを備える。バイアス印加用端子13は、形状記憶合金等、温度に応じて形状が変化する部材によって形成されており、温度変化による変形によって、基台6上に保持された基板1に接離する。 (もっと読む)


【課題】複数枚の非導電性の基板に対してバイアススパッタによる成膜を行う枚葉式の成膜装置において、生産性を維持したままで、良好にDCバイアスを印加することができるようにする。
【解決手段】複数枚の基板1を略々一平面上に保持する基台6と、複数のバイアス印加用端子13が設けられた導電性のバイアス印加部材14とを備える。バイアス印加部材14は、基台6に対し、基台6上に保持された複数の基板1の略々中央を通り各基板1に対して垂直な回転軸回りに回動可能に支持されており、基台6に対して回動されることにより、複数のバイアス印加用端子13を基台6上に保持された複数の基板1に対応して接離させる。 (もっと読む)


【課題】生産性向上のために多数枚取りを実施しても特性低下や品質劣化を惹き起こすおそれのない磁気記録媒体の製造方法および製造装置を提供すること。
【解決手段】4枚の小径化学強化ガラス基板9を1枚の3.5インチサイズ専用小径スパッタキャリア10に取り付ける。4枚の基板9にシード層を成膜した後に各基板を回転させて、小径スパッタキャリア基板保持可動爪11で支持する位置を持ち換え、シード層と可動爪11を動通させる。可動爪11を介してバイアスを印加して以降の成膜を行う。 (もっと読む)


【課題】シャドウマスクによるアプローチを利用して、高密度パターン化メディア上にサーボパターンを加工する装置、システム、方法を提供する。
【解決手段】装置は、リソグラフィックプロセスによって生成される、複数のアパーチャ306を有する蒸着マスク302を含む。固有の蒸着角度に方向付けされた蒸着ソース500から蒸着マスク302のアパーチャ306を通して、材料308を基板300上に形成する。このように、各アパーチャ306は複数の蒸着位置310に対応する。アパーチャ306の寸法を正確に定めて、アパーチャを正確に位置付けることによって、結果として定まる蒸着位置からサーボパターンフィーチャーを生成する。前記蒸着マスクは、前記基板上で複数の蒸着位置に材料を向けるようになっている複数のビットパターンアパーチャをさらに含む。前記蒸着位置は、サーボパターンの形成と同時にビットパターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】基体に凹凸が生じる事態を回避しつつ、薄膜の形成時における基体の熱変形や穴あきを回避し得る薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】長尺帯状のベースフィルム11(基体)を巻回した繰り出し側ロール11aからベースフィルム11を繰り出して冷却ドラム22に沿わせて走行させつつ気相成長法によってベースフィルム11の上に磁性層(薄膜)を形成する際に、反発硬さが691L値以下の繰り出し側ロール11aを使用すると共に、ベースフィルム11における冷却ドラム22に接している部位の薄膜形成面(磁性層の形成面)に電子線照射装置23によって電子線を照射する。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録ディスク用基板に気相中で成膜する際に膜厚に偏りが発生するのを防止可能な磁気記録ディスクの製造方法、磁気記録ディスク製造装置、および磁気記録ディスク製造用基板ホルダを提案すること。
【解決手段】 基板ホルダ300は、磁気記録ディスク用基板10の表面に下地層、磁性層、保護層などの薄膜を物理気相成長法により成膜する際に、複数枚の磁気記録ディスク用基板10を保持した状態でターゲット231、232、233および244に対向配置される。複数枚の磁気記録ディスク用基板10は成膜中、基板ホルダ300上で自転するため、磁気記録ディスク用基板10では、ターゲット231、232および233の半径方向において薄膜の膜厚に偏りが発生しない。 (もっと読む)


【課題】 機能性、生産性の高い成膜装置を提供すること。
【解決手段】 複数のドラム30と、ドラム30の各々に対し該ドラム30を回転させる電動機31と、該電動機31の軸33の両端部33aを支承する支持フレーム32と、該支持フレーム32を共通に所定方向に搬送する搬送手段Rと、ドラム30の下方に配設された坩堝17とからなり、電動機31により各ドラム30を回転させながら、かつ搬送手段Rにより各ドラム30を所定方向に搬送しながら、各ドラム30の周面に取り付けた基板Pに対し坩堝17からの成膜材料を成膜させるようにした。 (もっと読む)


【課題】 非導電性のディスク基体を用いた磁気記録媒体を高い量産性で製造する。
【解決手段】 ハードディスクドライブに搭載される磁気記録媒体の製造方法であって、非導電性のディスク基体12を準備する準備工程と、回転可能な台部202と、台部202に設けられた保持部204と、バイアス印加用端子206とを備える基板アダプタ102を用いて、バイアス印加用端子206をディスク基体12に接触させない状態で、保持部204にディスク基体12を保持させる保持工程と、ディスク基体12上に導電性膜を成膜する第1成膜工程と、台部202を回転させることにより、ディスク基体12にバイアス印加用端子206を接触させる接触工程と、バイアス印加用端子206を介してバイアス電圧を印加しつつ、次の層を成膜する第2成膜工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】生産効率を向上させ得る搬送装置を提供する。
【解決手段】中心孔が形成された基材101を保持する保持部33と、中心孔とその装着用突起部とが嵌めあわされて基材101が装着されるマスク201に対して接離する向きに沿って保持部33を移動させる移動機構31と、マスク201に対して接離する向きを回転軸として保持部33を回転させる回転機構32と、制御部とを備え、制御部は、回転機構32を制御して保持部33を回転させつつ移動機構31を制御して保持部33を移動させることによって保持部33に保持されている基材101をマスク201に対して着脱させる。 (もっと読む)


【解決手段】それぞれの上部に処理チャンバが積層され、さまざまなサイズのディスクを取るように調節可能なディスクキャリア上でディスクがシステムを通じて移動するところのディスク処理及び製造装置が記述されている。ディスクはロードゾーンを通じてシステムに進入し、その後ディスクキャリア内に装着される。ディスクはキャリア内にあって、ひとつのレベルで、処理チャンバを通じて連続的に移動し、その後、リフトまたはエレベータにより他のレベルへ移動する。他のレベルにおいて、再びディスクはシステムを通じて連続的に移動し、その後アンロードゾーンで出力される。
(もっと読む)


【課題】
保護膜の薄膜化と共に、磁性膜表面に膜厚分布の小さい保護膜を形成し、特に、ロード/アンロード領域における膜厚分布を小さくして、摺動耐力の確保と対腐食性の高い磁気ディスクおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明の磁気ディスクの製造方法は、保護膜を成膜する工程において、基板が、基板を保持する爪部と爪部を支持する支持具とを有する保持具に搭載され、基板と支持具の最短距離が10mm以上であることを特徴とする。または、支持具の基板に対向する面に角取り加工が行われ、かつ、基板と支持具の最短距離が5mm以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 可とう性高分子支持体上に、少なくともグラニュラ構造を有する磁性層および保護層をコンタミネーションや欠陥の発生無く形成することによって、高性能で高信頼性を有し、かつ安価な高容量磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】 可とう性高分子支持体の少なくとも一方の面に、少なくともグラニュラ構造を有する磁性層および保護層をこの順に形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記可とう性高分子支持体上にスパッタ法により前記磁性層を形成する工程と、前記磁性層が形成された可とう性高分子支持体を最大表面粗さ(Rz)0.01μm以上0.4μm以下の表面性を有する成膜ロールに沿って搬送させながら、少なくとも1基の角型イオンソースにより保護層を成膜する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


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