【課題】高密度磁気記録を行うには、磁性体を充填する細孔を微細にする必要があり、その微細な加工を短時間で行い、製造コストの低減ならびにスループットの向上を図る。
【解決手段】加工速度が早い加工装置により、基板に比較的大きな凹パターンを形成した後、その凹パターン内に薄膜を形成することにより、微細で均一なパターンを低コストかつ高スループットのプロセスによって、形成できる。この基板内に磁性体を埋め込むことで、パターンドメディアが形成される。また、この基板をインプリントモールド原版またはインプリントモールドとして用いることにより、磁気特性に優れた磁性層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ヘッドスペーシングの拡大、および磁性層の磁気異方性の低下を抑制することができる垂直磁気記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】（１）規則合金を構成する金属および炭素を含むターゲットを用いるスパッタ法によって、非磁性基板上に、規則合金の結晶粒子および炭素からなる粒界層を含む磁気記録層と、磁気記録層上に存在し、炭素からなる保護層前駆体とを形成する工程と、（２）保護層前駆体に、炭化水素系ガスに対するプラズマ放電により生成した炭化水素系イオンを照射して、保護層前駆体を保護層に変化させる工程とを含み、炭化水素系イオンは保護層前駆体に到達する際に３００ｅＶ以上のエネルギーを有することを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】 効率的に且つ十分に非記録部の磁性が失活した磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に磁気記録層を含む磁気記録媒体において、前記磁気記録層は、記録部と非記録部とから成るパターンを有し、前記非記録部は、前記記録部が非磁性化した構造を有し、前記非記録部は、バナジウムおよびジルコニウムから成る群から選択される少なくとも１つの金属元素と、窒素、炭素、ホウ素および酸素から成る群から選択される少なくとも１つの元素とを含み、前記非記録部に含まれる窒素、炭素、ホウ素および酸素から成る群から選択される少なくとも１つの元素の含有量は、前記記録部に含まれる元素の含有量よりも多い磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】イオン注入の際にマスクとして用いたレジストを効率よく除去することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】イオン注入処理の終了後、レジストパターンをアッシングする前に、レジストパターンをフッ素処理する。上記フッ素処理によって、イオンの照射により変質したレジストパターンは、上記アッシングによる除去処理に適した物質へ変換される。これにより、アッシング工程において効率よくレジストパターンを除去することが可能となる。また、レジストの残渣量が低減されることで、表面平坦度の高い磁気記録媒体を安定して製造することができる。 （もっと読む）

【課題】パターンドメディアの作製工程で記録層表面の凹凸が大きくなるためヘッドとメディア間のスペーシングが大きくなり、その結果として記録性能と耐食性が劣化する。
【解決手段】パターンドメディアにおいて、記録層を、１層あるいは複数層の結晶質磁性膜１０２と、結晶質磁性膜１０２の最表面上に位置する非晶質構造の磁性膜１０５で構成し、非晶質構造の磁性膜１０５の構成元素とその直下に位置する結晶質磁性膜１０２の構成元素を同じにする。また、その製造方法において、結晶質磁性膜１０２の表面を非晶質化して非結晶質構造の磁性膜１０５を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高記録密度ハードディスク（ＨＤＤ）等に用いられる磁気記録媒体をイオン注入法において製造する方法において、注入イオンのにじみ現象（垂直注入時に水平方向へ注入イオンが散乱する現象）を抑制することを課題とし、高密度磁気記録の要求にあった磁気記録媒体とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】注入イオンのにじみ現象が、深くなるほど広がることを利用し、イオンを浅く注入することで、にじみ量を抑制できることから、本発明は、前記非記録領域が、前記磁気記録層の深さ方向において、イオン照射によって注入されたイオンを含む部分と、当該イオンを含まない部分の両方を有することを特徴とする磁気記録媒体を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、イオン照射方式により製造した磁気記録媒体において、サーボ信号の出力を向上させることを課題とする。
【解決手段】基板の少なくとも一方の表面上に、磁気情報の記録再生を行うための磁気記録領域と、前記磁気記録領域を磁気的に分離するための非記録領域とが、基板の面内方向において規則的に配置された磁気記録層を有する磁気記録媒体であって、前記非記録領域は、透磁率が２Ｈ／ｍ以上、１００Ｈ／ｍ以下であり、さらに前記非記録領域の表面は、前記磁気記録領域の表面に対して凹部を形成し、かつ、前記凹部の深さは０．５ｎｍ以上２．０ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】媒体表面荒れが抑制され、良好なヘッドの浮上性を確保することができるパターンド磁気記録媒体（ＤＴＲ媒体およびＢＰＭ）の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録層５２上に、第１のハードマスク５３、第２のハードマスク５４およびパターン化されたレジスト５５を形成し、パターン化されたレジスト５５の凹部に残存している残渣を除去し、パターン化されたレジスト５５をマスクとして、前記第２のハードマスク５４をエッチングして凹凸パターンを転写し、前記第２のハードマスク５４をマスクとして前記第１のハードマスク５３をエッチングして凹凸パターンを転写し、前記第１のハードマスク５３の凸部に残存している前記第２のハードマスク５４を除去し、イオンビーム照射により、凹部で露出している前記磁気記録層５２磁性を失活させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】マスク層に、反応性プラズマに対して安定なものを使用して、ハロゲン等との化合物を形成しないようにし、これにより、マスク層からの化合物の拡散を防止し、優れた磁気記録パターン分離性能を有して隣接パターン間の信号干渉の影響を受けず、また高温高湿の環境下で使用しても、経時的な磁気記録再生特性低下を改善することができるようにする。
【解決手段】本発明は、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の製造方法において、非磁性基板１上に磁性体領域３を形成した後、この磁性体領域３の上にＰｔ、Ｒｕ、Ｐｄの群から選ばれた何れか１種以上の材料からなるマスク層を形成し、その後、磁性体領域３の表面でマスク層に覆われていない箇所を、反応性プラズマにさらし、該箇所の記録層を非晶質化して磁気特性を改質することにより、磁気的に分離した磁気記録パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】磁性層等で発生する腐食を防ぎ、耐環境性の向上を可能とした磁気記録媒体及びその製造方法、並びに、そのような磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】基板１の上に、少なくとも磁性層２と、磁性層２を覆うカーボン保護層９とを備え、磁性層２の表面には、磁気記録領域である凸部７と、磁気記録領域を分離する境界領域である凹部６とが設けられ、磁性層２の凹部６とカーボン保護層９との間には、Ｃｒ又はＴｉを主として含むバリア層８が設けられている。 （もっと読む）

【課題】スペーシングロスを小さくして良好な磁気記録再生特性を発揮することができる磁気記録媒体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板上に、柱状の磁性粒子間に非磁性の粒界部を有するグラニュラ構造の磁気記録層と、前記磁気記録層上に設けられ、前記磁性粒子同士を交換結合させる作用を付与するための交換結合層とを具備する磁気記録媒体を製造するものであって、前記磁気記録層上に交換結合層を積層した後、前記交換結合層の全面に対してイオン照射を行うイオン照射工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録パターンの形成時における反応性プラズマまたはイオンと磁性層との反応性を高め、また、パターニングにおける像のぼけが生じにくい磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の製造方法である。その方法は非磁性基板上に酸化物を０．５原子％〜６原子％の範囲内で含む磁性層を形成する。この磁性層の磁気的に分離する領域を反応性プラズマもしくは反応性イオンにさらす。これによって形成された非磁性化領域で磁性層を分離する方法である。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録層の粒径の微細化及び垂直配向性の向上、並びに磁気記録媒体の耐食性を向上させると共に、高密度の情報の記録再生が可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に、少なくとも裏打ち層２と下地膜４と中間層５と少なくとも酸化物を含むグラニュラ磁性層を有する垂直磁気記録層６とを有する垂直磁気記録媒体１０の製造方法であって、前記垂直磁気記録層６を構成する前記グラニュラ磁性層を形成後、前記グラニュラ磁性層の表面に不活性ガスを照射することを特徴とする垂直磁気記録媒体１０の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁性層のパターン形成に、反応性プラズマもしくは反応性イオンによる磁気特性の改質を行う場合、磁性層の表面が酸化またはハロゲン化し、この酸化またはハロゲン化した磁性層が原因で、磁気記録媒体の腐食（磁性層に含まれるコバルト等の磁性粒子のマイグレーション）が発生する。本願発明は、この磁性層表面の酸化またはハロゲン化が原因で発生する磁気記録媒体の腐食を防ぐことを課題とする。
【解決手段】磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の製造方法である。その方法は非磁性基板上に磁性層を形成する。この磁性層の磁気記録パターンに基づき、磁性層を分離する領域を反応性プラズマもしくは反応性イオンにさらして、その領域の磁性層を非磁性化する等により磁気特性を低下させ、次いで不活性ガスを照射することからなる。 （もっと読む）

【課題】記録領域間を磁気的に分離する分離領域をイオンビームの照射により形成する場合に、イオンビームの照射量（Ｄｏｓｅ）を低減する。
【解決手段】磁気記録媒体１０の製造方法であって、連続膜層２４を有する垂直磁気記録層３０を形成する記録層形成工程と、垂直磁気記録層３０において磁気信号がそれぞれ記録される複数の記録領域の間の領域にイオンビームを照射することにより、連続膜層２４における複数の記録領域の間に軟磁性の分離領域２０２を形成するイオンビーム照射工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】トラックエッジノイズを低減して、トラック密度を向上させる。また、磁気記録を行う場合に、記録領域の外側に広がる記録磁界を遮断して、記録磁界の境界を急峻にする。
【解決手段】基板１２と、基板１２上に形成された垂直磁気記録層３０を備える磁気記録媒体１０であって、垂直磁気記録層３０は、磁気信号を記録するグラニュラ層２０と、グラニュラ層２０と磁気的に結合する連続膜層２４とを有し、連続膜層２４は、グラニュラ層２０に磁気信号が記録される記録領域に対応する位置にそれぞれ形成される複数の硬磁性部２０４と、複数の硬磁性部２０４の間に形成される磁気シールド部であって、磁化曲線を測定した場合に、印加磁場が０の領域において磁化曲線の傾きが前記硬磁性部より大きく、かつ残留磁気分極が前記硬磁性部よりも小さい磁界シールド部２０２とを含む。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成された軟磁性下地層と、軟磁性下地層上に形成され、規則的なパターンを有する組織層と、組織層のパターンに沿って誘導された偏析によって形成されて規則的なグラニュラー構造をなす磁性体グレーンと磁性体グレーンを隔離させる非磁性体境界とを有する記録層と、を備えることを特徴とする磁気記録媒体である。これにより、記録層に対するエッチング加工なしに規則的なグラニュラー構造を形成して記録密度を大幅に向上させうる。 （もっと読む）

【課題】面記録密度が高く、且つ、記録・読取精度が良い磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】分割記録要素２０間の隙間部２６を非磁性体２８で充填してから第１のマスク層３４を除去するようにした。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造においては通常その主表面の平滑化は砥粒を用いた研磨によって行われるがこのような方法では砥粒の大きさの影響を受けて平滑化に限界が生じているおそれがある。本発明の課題は、製造の最終段階で砥粒を用いた研磨を行わない磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することである。
【解決手段】円形ガラス板を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、研磨の終わった円形ガラス基板主表面にガスクラスターイオンビームを照射する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。ガスクラスターイオンビームのソースガスとして、ＳＦ_６、Ａｒ、Ｏ_２、ＮＦ_３、Ｎ_２Ｏ、ＣＨＦ_４、Ｃ_２Ｆ_６、Ｃ_３Ｆ_８、ＳｉＦ_４またはＣＯＦ_２のガスを単独でまたは混合して使用する前記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】粒状のコバルト合金に酸化物が添加されて成る記録層(RL)を備えた垂直磁気記録ディスクにおいて、記録性能を劣化させることなく良好な耐食性を付与する。
【解決手段】六方最密(hcp)結晶構造を有するRu或いはRu合金から成る中間層(IL)を従来よりも実質的に低いスパッタ圧にて蒸着し、その結果、中間層の柱状構造が従来よりも減少し、中間層の表面が従来よりも平滑になる。そのようにして得られた比較的平滑な中間層(IL)の表面をアルゴン雰囲気中でのスパッタエッチング等のイオン照射により変性し、ナノスケールの粗さとし、その上に記録層(RL)を成長させる。そのように中間層(IL)の表面を粗面化すると記録層(RL)が成長する際に記録層中の粒子の分離が促進されるが、本発明の中間層(IL)は柱状構造が少ないので水や腐食剤の通り道が従来よりも少なくなる。 （もっと読む）