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Fターム[5E001AE00]の内容

セラミックコンデンサ (14,384) | 誘電体材料 (3,175)

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【課題】セラミック誘電体層の薄層化および多積層化を図るために微粒子の誘電体粉末を用いても高容量化できる積層セラミックコンデンサおよびその製法を提供する。
【解決手段】セラミック誘電体層7および内部電極層9が交互に複数積層された有効部1aと該有効部1aの積層方向の上下面に形成された前記セラミック誘電体層7からなる保護層1bにより構成されたコンデンサ本体1と、該コンデンサ本体1の両端部に形成された外部電極3とを具備してなる積層セラミックコンデンサにおいて、前記保護層1bのセラミック誘電体層7を形成する結晶粒子11の平均粒径が前記有効部1aのセラミック誘電体層7を形成する結晶粒子11の平均粒径よりも小さく、かつ前記コンデンサ本体1は、前記外部電極の対向する磁器に垂直な方向の側面が凹状に湾曲し、残留圧縮応力が250MPa以上である。 (もっと読む)


【課題】非酸化性雰囲気中の焼成条件において、耐還元性が高く、しかも比誘電率や誘電損失の温度特性が平坦であり、絶縁抵抗が高く、DCバイアス依存性が安定した誘電体磁器を提供する。
【解決手段】ジルコン酸ストロンチウム系結晶とジルコン酸バリウム系結晶とジルコン酸カルシウム系結晶とを主結晶相とし、Mnを含有する焼結体からなり、前記ジルコン酸ストロンチウム系結晶の平均結晶粒径をDSZ、前記ジルコン酸バリウム系結晶の平均結晶粒径をDBZ、前記ジルコン酸カルシウム系結晶の平均結晶粒径をDCZ、としたときに、平均結晶粒径比DBZ/DSZおよびDBZ/DCZがともに0.3〜0.7の範囲である。 (もっと読む)


【課題】温度補償用のコンデンサに採用可能な高誘電率の誘電体磁器を提供する。
【解決手段】Ba、Sr、Ca、TiおよびZrをそれぞれ酸化物として含有する主結晶粒子により形成された誘電体磁器であって、前記Ba、Sr、Ca、TiおよびZrが、Ba=0.45〜1.01、Sr=0〜0.5、Ca=0〜0.05、Ti=0.4〜0.6、Zr=0.4〜0.6のモル比であるとともに、TiおよびZrの合量モル数を1としたときに、Ba、SrおよびCaの合量のモル数mが0.995〜1.01の範囲であり、かつ、Zr/Ti比がモル比で0.6〜1.5の範囲である。 (もっと読む)


【課題】 積層セラミックコンデンサなどの電子部品の誘電体層に用いられる誘電体磁器組成物において、誘電体層を薄層化した場合においても、高い誘電率を有し、かつ、ショート不良率の低減された誘電体磁器組成物を提供すること。
【解決手段】 組成式{(Ba(1−x−y) Ca Sr)O}(Ti(1−z) Zr で表され、前記組成式中のA,B,x,yおよびzが、0.990≦A/B≦1.010、0≦x≦0.80、0≦y≦0.50、0≦z≦1.0の関係にある誘電体酸化物を含む主成分を有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、前記主成分の原料として、前記主成分組成を有する粒子の表面に、Siの酸化物、Mgの酸化物、Baの酸化物、Caの酸化物およびSrの酸化物から選択される1種または2種以上を、固溶させた原料粉末を使用することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 積層セラミックコンデンサなどの電子部品の誘電体層に用いられる誘電体磁器組成物において、誘電体層を薄層化した場合においても、高い誘電率を有し、しかも、ショート不良率の低減された誘電体磁器組成物を製造するための方法を提供すること。
【解決手段】 組成式(Ba1−x Ca(Ti1−y Zr)Oで表され、前記組成式中のm、x、およびyが、0.995≦m≦1.020、0≦x≦0.15、0≦y≦1.00の関係にある誘電体酸化物を含む主成分と、前記主成分以外の添加副成分と、を有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、前記主成分の原料粉末と、前記添加副成分の原料粉末と、を混合し、誘電体原料を得る工程と、前記誘電体原料を焼成する工程と、を有し、前記添加副成分の原料粉末の少なくとも一部として、[微細原料粉末の比表面積]/[主成分原料粉末の比表面積]≧3の関係を満たす比表面積を有する微細原料粉末を、用いることを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】誘電体膜キャパシタにおいて、下部電極とその下層との密着性が良く、酸化されにくく熱的に安定な電極構造を提供する。
【解決手段】誘電体膜キャパシタ20は、開口部22aを有し、白金を含む材料からなる下部電極22と、下部電極22の上方に設けられた、ABOx型ペロブスカイト構造を有する酸化物を含む誘電体膜24と、誘電体膜24の上方に設けられた上部電極26と、を含む。誘電体膜24の形成領域の面積に対する、下部電極22の平面面積の割合が50%以上である。 (もっと読む)


【課題】 低温焼成可能な誘電体磁器組成物、及びそれを用いて作製される電子部品を提供する。
【解決手段】 (BaNdSm)TiO系磁器組成物100質量部に対し、重量によりBi 6〜15部、SiO 1〜5部、ZnO 1〜5部、MgO 0〜3部、B 0.2〜5部(B 0.2〜5部をLiO 0.08〜2.0質量部で置換してよい)を添加した誘電体磁器組成物、それを用いて作製される電子部品。 (もっと読む)


【解決手段】 本発明の実施形態によると、平行板の間に配置されたバルク単結晶誘電体素材、若しくは単結晶膜誘電体素材を有する平行板コンデンサが提供され、また1若しくはそれ以上の単結晶誘電体、若しくは単結晶フィルム誘電体を有し、当該誘電体の各々が2つの電極間に配置されたコンデンサが提供される。これらのコンデンサを組み込んだエネルギー蓄積装置もまた開示される。 (もっと読む)


【課題】 静電容量の温度特性を示すX7R特性(EIA規格)およびB特性(EIAJ規格)をいずれも満足することができ、且つ、静電容量および絶縁抵抗の電圧依存性が小さく、絶縁破壊耐力に優れ、内部電極層としてNiまたはNi合金が使用可能な積層コンデンサなどの電子部品と、その電子部品の誘電体層として用いて好適な誘電体磁器組成物およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 チタン酸バリウムと、M成分(ただし、Mはマンガン酸化物、鉄酸化物、コバルト酸化物およびニッケル酸化物の群から選択される少なくとも1種類以上の成分)とを主成分とし、強誘電体相領域を有する誘電体磁器組成物であって、前記強誘電体相領域における前記M成分の濃度が、外側から中心に向けて変化している。
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【課題】 低温で焼成しても各種電気特性を損なうことなく緻密化しており、かつ誘電体粒子の粒径を微細化でき、薄層化に対応した誘電体磁器組成物を得ることができる焼結助剤を用いた誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 誘電体酸化物を含む主成分と、焼結助剤とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、ZrO及びSiOを主成分とするガラスで構成されており、前記ガラス中の各含有量が、1モルのSiOに対して、ZrO:0.7〜1.3モルである焼結助剤を、前記主成分100モルに対して1〜7モル(但し1モルと7モルを除く)添加して、前記誘電体磁器組成物を製造することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。
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【課題】 低温で焼成しても各種電気特性を損なうことなく緻密化しており、かつ誘電体粒子の粒径を微細化でき、薄層化に対応した誘電体磁器組成物を得ることができる焼結助剤を用いた誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 誘電体酸化物を含む主成分と、焼結助剤とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、ZrO及びSiOを主成分として含み、前記主成分中の含有量が、1モルのSiOに対して、ZrO:0.7〜1.3モルであるガラス材料と、MgOを主成分とする非ガラス材料とを、有する焼結助剤を、該焼結助剤中の各成分が以下に示す量となるように添加して、前記誘電体磁器組成物を製造することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。
ガラス材料:主成分酸化物100モルに対して、0.7〜8モル(但し0.7モルと8モルを除く)、
非ガラス材料:主成分酸化物100モルに対して、0.1〜4モル(但し0.1モルと4モルを除く)。
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【課題】ゾル−ゲル法を用いて誘電層を形成し、その誘電層がエッチング液による損傷を受けにくく、且つ、高い電気容量等の誘電特性に優れた酸化物誘電層の形成方法を提供する。
【解決手段】ゾル−ゲル法による酸化物誘電層の形成方法において、以下の(a)〜(c)の工程を備えることを特徴とする酸化物誘電層の形成方法等を採用する。(a)工程:所望の酸化物誘電層を製造するゾル−ゲル溶液調製のための溶液調製工程。(b)工程:前記ゾル−ゲル溶液を金属基材の表面に塗工し、酸素含有雰囲気中で乾燥し、酸素含有雰囲気中で熱分解を行う一連の工程を1単位工程とし、この1単位工程を複数回繰り返し、1単位工程と1単位工程との間に任意に550℃〜1000℃の不活性ガス置換等の予備焼成処理を設けて膜厚調整を行う塗工工程。(c)工程:最終的に550℃〜1000℃の不活性ガス置換等の焼成処理を行い誘電層とする焼成工程。 (もっと読む)


【課題】低温で焼成することができ、焼成してもシェル部の厚さが均一なコアシェル構造の粉末を得ることを可能とする粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】2種以上の元素の原料を含む液体中で粒子を合成する粉末の製造方法において、合成過程で前記液体の組成が連続的又は断続的に変化するように、前記粒子の成分として取り込まれる組成物を前記液体に添加して、少なくとも粒子の内部と表面の組成が異なる粒子21,24,27,31を得る寿命が長い積層セラミックコンデンサを提供することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】無負荷Q値と機械的強度が高く、かつ焼成温度に対して非常に安定であり、十分な絶縁信頼性を有し、グリーンシートの作製も容易である誘電体磁器組成物を提供する。
【解決手段】組成式yCaO−zLiO1/2−wMO5/2−uTiO2(Mは、NbおよびVからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素で、y,z,w,uはy+z+w+u=1、0.45≦y≦0.55、0.10≦z≦0.20、0.16≦w≦0.38、0.01≦u≦0.20で示される値)で表される第一成分と、Si,B,Al,Ba,Ca,Sr,Zn,Ti,LaおよびNdからなる群から選ばれる少なくとも二種の元素を含むガラス組成物である第二成分とを含み、第二成分の含有率が2重量%以上50重量%以下であり、さらに第三成分としてCuOを前記第一、第二成分を合わせたものに対して0.2重量部以上5重量部以下含む誘電体磁器組成物。 (もっと読む)


【課題】誘電体用ガラスフリット、誘電体セラミック組成物、積層セラミックキャパシタとその製造方法を提供する。
【解決手段】誘電体用ガラスフリットであって、aSiO‐bB‐cLiO‐dKO‐eCaO‐fAl‐gTiO‐hZrOから組成され、上記a+b+c+d+e+f+g+h=100で、上記20≦a≦35、20≦b≦35、20≦c≦30、3≦d≦5、2≦e≦12、2≦f≦10、1≦g≦12、1≦h≦7を満足するものである。 (もっと読む)


【課題】無負荷Q値と機械的強度が高く、かつ焼成温度に対して非常に安定であり、十分な絶縁信頼性を有し、グリーンシートの作製も容易である誘電体磁器組成物を提供する。
【解決手段】誘電体磁器組成物を、組成式xBaO−yCaO−zLiO1/2−wMO5/2(Mは、NbおよびVからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素で、x,y,z,wはx+y+z+w=1、0≦x≦0.5、0≦y≦0.5、0.12≦z≦0.20、0.30≦w≦0.38で示される値)で表される第一成分と、Si,B,Al,Ba,Ca,Sr,Zn,Ti,LaおよびNdからなる群から選ばれる少なくとも二種の元素を含むガラス組成物である第二成分とを含み、第二成分の含有率が2重量%以上50重量%以下であり、さらに第三成分としてCuOを前記第一、第二成分を合わせたものに対して0.2重量部以上5重量部以下含ませた。 (もっと読む)


ナノワイヤーのようなナノ構造を使用した人工誘電体を開示する。いくつかの実施態様では、ナノロッド、ナノチューブ、ナノリボンなどのような他のナノ構造を使用した人工誘電体を開示する。人工誘電体は、誘電体材料内に埋め込まれた複数のナノワイヤー(または他のナノ構造)を有する誘電体材料を含む。ナノ構造を使用した人工誘電体によって、非常に高い誘電率を達成することができる。ナノ構造の長さ、直径、キャリア密度、形状、アスペクト比、配向性、および密度を変化させることによって、誘電率を調整することができる。加えて、制御可能な人工誘電体に電界を印加することによって、誘電率を動的に調整することができる、ナノワイヤーのようなナノ構造を使用した制御可能な人工誘電体を開示する。様々な電子デバイスが、ナノ構造を有する人工誘電体を使用して性能を向上させることができる。
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【課題】多結晶誘電体層の形成方法と前記誘電体層を用いた半導体デバイスの提供。
【解決手段】多結晶誘電体層20は、酸化物または窒化物を含む第1の誘電体材料と前記誘電体層の重量の1重量%未満の第2の材料より形成される。第1の誘電体材料の粒子21境界に沿った漏洩電流が低減するように、前記第1の誘電体材料のエンタルピーより低いエンタルピーを有する非導電性の酸化物または窒化物を形成する第2の材料を含み、第1の誘電体材料の粒子境界に配置される。 (もっと読む)


【課題】ラミネートのz軸において、独特に、または擬似対称配置で構成された3つ以上の異なる誘電性テープケミストリーの前駆体グリーン(焼成されていない)ラミネートから、平坦でゆがみのない、ゼロ収縮の低温共焼成セラミック(LTCC)のボディ、コンポジット、モジュールまたはパッケージを作製する方法を提供すること。
【解決手段】本発明のセラミック構造体は、1層または複数の層の低kガラス含有内部自己強制テープと、1層または複数の層の高kガラス含有内部自己強制テープと、少なくとも1層のガラス含有プライマリテープとから本質的になる。 (もっと読む)


【課題】 静電容量の増大を図りつつ、誘電体層と下部電極との密着性の向上が図られたキャパシタ及びその製法、それを用いたフィルタ、それに用いる誘電体薄膜を提供する。
【解決手段】 本発明に係るキャパシタ10は、下部電極14Aと、下部電極14Aに成膜されたSiO層20とSiO層20上に成膜されたSiON層21とSiON層21上に成膜されたSi層22とを有する誘電体層16と、誘電体層16上に形成された上部電極14Bとを備えることを特徴とする。このように下部電極14AとSi層22との間にSiO層20を介在させると、従来キャパシタのように下部電極14Aに直接Si層22を成膜した場合に比べ、下部電極14AとSi層22とが堅固に密着する。さらに、SiO層20とSi層22との間にSiON層21を介在させると、SiO層20とSi層22とが堅固に密着する。 (もっと読む)


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