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Fターム[5E033BD01]の内容

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【課題】側面電極同士の導通を防止することができるチップ抵抗器およびその製造方法を提供する。
【解決手段】チップ抵抗器は、上面の一方向と交差する他方向の両縁に一方向に延びる凹部1aを有する絶縁基板2と、絶縁基板2の上面上に形成された抵抗体3と、抵抗体3と電気的に接続され、かつ絶縁基板1の上面上に形成された上面電極2と、上面電極2と電気的に接続されており、かつ絶縁基板1の一方向の両側面をそれぞれ覆うように形成された側面電極4と、凹部1a上に形成された隆起部5とを備えている。 (もっと読む)


【課題】熱膨張係数が小さく使用環境の温度変化においても抵抗値の変化が少なく、断線などの問題がない品質の良い低誘電率樹脂を用いたチップ素子を提供すること。
【解決手段】基板1上に、インピーダンス素子2と、該インピーダンス素子2に接続された複数の電極3,5とを形成したチップ素子10において、前記基板1はGHz帯域における寄生容量を低減できる程度の低い誘電率を有する低誘電率材料である。さらに、前記基板1は合成樹脂と無機物とを少なくとも含んで構成される。 (もっと読む)


【課題】電極部にCuメッキ層と半田層やSnメッキ層を形成する場合に、半田食われを防ぐとともに、密着性を向上させた電子部品の電極構造を提供する。
【解決手段】抵抗体1の裏面10bに、互いに間隔を隔てた一対の電極部50が設けられ、かつ一対の電極部50間には絶縁層2Aが設けられている。電極部50は、電極層3と電極層3上に積層されたメッキ電極層とで構成される。メッキ電極層は、銅メッキ層31、スズメッキ層32、ニッケルメッキ層33、スズを含むメッキ層34を有している。 (もっと読む)


【課題】本発明は、耐硫化性を有するチップ抵抗器に関する。
【解決手段】本発明のチップ抵抗体は、絶縁基板11、銀ベースのサーメットを使用して基板の上面に形成された上部端子電極12、底部電極13、上部端子電極12間に位置され、それらに部分的に重なる抵抗素子14、抵抗素子14を完全にまたは部分的に覆うオプションの内側保護コーティング15、内側保護コーティング15を完全に覆い、上部端子電極12を部分的に覆う外側保護コーティング16、基板の端面と上部電極12と底部電極13を覆い外側保護コーティング16に部分的に重なるニッケルのメッキ層17と、ニッケル層17を覆う仕上げメッキ層18とを備える。ニッケル層17と外側保護層16との重なり合いは、ニッケルメッキプロセスの前に外側保護層16の縁部をメッキ可能にするので封止特性を有する。 (もっと読む)


【課題】調整できる抵抗値の範囲を広くすることができ、かつ高精度のトリミングが行えるチップ抵抗器を提供する。
【解決手段】絶縁基板1、抵抗体4、および1対の電極2、3を備えている。電極2と電極3は離間し、かつ対向して配置されている。抵抗体4の形状は、長方形に形成されている。また、抵抗体4は、電極2から電極3に渡って形成される。電極2と電極3の離間領域を覆っている抵抗体4の形状は、台形である。電極2と電極3の離間領域は、電極2と電極3が形成される延伸方向に段階的に電極間の間隔が広がるように構成されている。すなわち、電極2と電極3との間の経路の抵抗値が、抵抗体4の2辺の一方の辺から他方の辺に向かって段階的に増加するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】半田接合部がヒートショックで損傷する可能性の低いチップ抵抗器を提供する。
【解決手段】チップ抵抗器1の裏面電極3は、セラミック基板2の裏面に固着された焼成銀からなる第1電極層3aと、第1電極層3aの中央部を横断する領域に積層された焼成銀からなる第2電極層3bとで構成されており、第2電極層3bの側面から第1電極層3aの表面へ至る段差12が形成され、メッキ層(ニッケルメッキ層9および半田メッキ層10)の裏面電極3を覆う部分には段差12と対応する段差13が形成されている。したがって、このチップ抵抗器1が回路基板30上に実装されると、裏面電極3とランド31との間に介設される半田接合部(半田32)の厚みが段差13部分で増大し、第1および第2電極層3a,3bの境界部分に熱応力が集中する虞もないため、半田接合部がヒートショックで損傷する可能性は低いものとなる。 (もっと読む)


【課題】ハンダフィレットを介してプリント基板に実装した状態で通電を繰り返した場合でも、チップ抵抗器とハンダとの間の接合部にクラックが発生するのを防止することができるチップ抵抗器を提供する。
【解決手段】絶縁基板10の下面に樹脂ペーストにより形成された絶縁膜12が設けられ、一対の電極部30における各電極部が、上面電極32と、絶縁膜12の下面に形成された下面電極40と、絶縁基板10の側面と下面電極40の下面に設けられた側面電極50と、を有している。 (もっと読む)


【課題】 自己発熱時の発熱温度上昇の低減を実現すると共にトリミング精度の高い薄膜抵抗体を提供することを目的とする。
【解決手段】 絶縁基板の表面に薄膜状抵抗体層及び前記薄膜状抵抗体層に接続される電極層を形成してなる薄膜抵抗体であって、前記薄膜状抵抗体層は、細線状抵抗体層を所定領域内でほぼ等間隔となるよう繰り返し折り返した第1の抵抗体パターン100と、前記第1の抵抗パターンとほぼ同じ間隔で折り返され折り返し端部が前記第1の抵抗体パターン100の一方の折り返し端部に接続され前記第1の抵抗体パターンと並列接続される第2の抵抗体パターン200とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気抵抗率が低く、TCR特性に優れ、貴金属を含有していない導電性材料及びそれを含有する抵抗体ペースト、抵抗体、薄膜を提供することを目的とする。
【解決手段】LaBaCu13で表わされるペロブスカイト酸化物の一部をPrで置換することにより電気抵抗率を低減した導電性材料であって、La4-XPrBaCu13(0.05≦X≦0.60)で表されることを特徴とする導電性材料及び該導電材料を含有する抵抗体ペースト、抵抗体、薄膜を提供する。
また、LaBaCu13で表わされるペロブスカイト酸化物の一部をCoで置換することにより電気抵抗率を低減した導電性材料であって、LaBaCu5-YCo13(0.05≦Y≦0.35)で表されることを特徴とする導電性材料及び該導電材料を含有する抵抗体ペースト、抵抗体、薄膜を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、抵抗値が低くTCRが小さいチップ抵抗器およびその製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明のチップ抵抗器は、絶縁基板11と、この絶縁基板11の上面に形成された抵抗体12と、この抵抗体12の上面の両端部に形成されたCuからなる一対の上面電極13と、前記抵抗体12を覆うように形成された保護膜14と、前記絶縁基板11の両端面において前記抵抗体12、一対の上面電極と13接続されるように形成された端面電極15とを備え、前記抵抗体12を、Cuからなる第1抵抗層12aと、前記一対の上面電極13が位置しない箇所において前記第1抵抗層12aの厚みより厚いCuNiからなる第2抵抗層12bとで構成したものである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、バレルメッキの工程において裏面電極同士がくっつきあうことを防止することができ、歩留まりを向上させたチップ抵抗器を提供することを目的とするものである。
【解決手段】裏面電極15を矩形状の絶縁基板11の長辺側の端部に沿って設けられたチップ抵抗器であり、裏面電極15に長辺方向に複数個の厚膜部19を設けたものであり、このように構成することによりバレルメッキ時のくっつきを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】抵抗値が低いものであっても、抵抗値の安定性が高い薄膜チップ抵抗器を提供することを目的とするものである。
【解決手段】絶縁基板11上に両端部13から内側に延出して形成した貴金属からなる第1上面電極14と、第1上面電極14を覆い両端部13間をつなぐ薄膜からなる抵抗体16と、この上に設けられ第1上面電極14に上面視にて重なる厚膜からなる第2上面電極17を有し、第1上面電極14を設けた部分における幅をそれぞれ第1上面電極14をW1、抵抗体16をW2、第2上面電極17をW3としたとき、W1<W3<W2の関係を有し、抵抗体16の両側面側から内側に向かって、第1上面電極14に達する切り欠き部18を設けたものである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高電力に対応が可能な角形チップ抵抗器を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明の角形チップ抵抗器は、絶縁基板11と、前記絶縁基板11の上面および裏面の両端部にそれぞれ設けられた一対の上面電極12aおよび一対の裏面電極12bと、前記一対の上面電極12aおよび一対の裏面電極12bとそれぞれ電気的に接続されるように設けられた上面抵抗体13aおよび裏面抵抗体13bとを備え、前記上面抵抗体13aの面積を前記裏面抵抗体13bの面積より大きくし、かつ前記一対の上面電極12a間の上面抵抗体13aの長さを前記一対の裏面電極12b間の裏面抵抗体13bの長さより長くしたものである。 (もっと読む)


【課題】温度の変化に対して、電気抵抗の変化が小さい内蔵抵抗体を提供する。
【解決手段】金属箔上に、該金属箔より電気抵抗率の高い膜を有する電気抵抗膜付金属箔であって、該電気抵抗膜は、CrSiO又はNiCrSiOからなる酸化物系抵抗膜と温度変化に対して電気抵抗の変化が少ない金属Cr膜との多層構造を有する。金属箔の上に設ける電気抵抗体を多層構造とし、抵抗が比較的高い状態でも温度特性が良い。 (もっと読む)


【課題】熱放散性に優れ、現状工程への適合性が高く、且つ信頼性に優れたチップ抵抗器を提供する。
【解決手段】絶縁性基板11と、その表面両端部に配置された一対の第1表電極12と、該第1表電極に接続する抵抗体15と、該抵抗体を被覆する第1保護膜16と、該第1保護膜上に前記第1表電極と一部が接続するように配置された第2表電極18と、前記抵抗体15と前記第1保護膜16に設けられた切り込み溝Xと、前記第2表電極17の一部と、前記第1保護膜16および前記切り込み溝Xを被覆する第2保護膜18とを備え、前記第1保護膜16と前記第2保護膜18の間に形成される第2表電極17は、前記切り込み溝Xを被覆せず、該切り込み溝Xにより狭くなった狭小部Yを覆うように形成する。 (もっと読む)


【課題】抵抗体にトリミング溝を形成して抵抗値調整を行ったチップ抵抗器において、耐サージ特性を向上させることができるものを提供する。
【解決手段】抵抗体20が、略方形状で最大膜厚が18〜22μmの厚膜により形成され、膜厚が15μm以上の領域P1と領域P1の周囲に形成された膜厚が15μm未満の領域P2とを有し、抵抗体20には、辺部20aからトリミング溝T1が形成され、該トリミング溝T1は、辺部20aから電極間方向に向けて曲線状にカーブして形成され、トリミング溝の奥側に行くに従い辺部20aに近づかない方向にのみ形成され、その終端において電極間方向となる円弧状部分T1aと、円弧状部分T1aの終端から連設され、電極間方向に形成された直線状部分T1bを有し、直線状部分T1bの終端が、領域P1内に形成されている。 (もっと読む)


【課題】導電性接着剤を用いたフェースダウン実装に好適なチップ抵抗器と、その製造方法とを提供する。
【解決手段】チップ抵抗器1の絶縁性基板2の片面2aには、保護膜4に被覆された抵抗体3と、抵抗体3の両端部に重なり合う一対の電極5とが設けられており、電極5の表面は、少なくとも絶縁性基板2の表面よりも粗くなるように粗面化処理されたうえで露出している。このチップ抵抗器1は片面2a側を回路基板10に対向させてフェースダウン実装され、回路基板10上に設けられた配線パターン11とチップ抵抗器1の電極5とが導電性接着剤12によって電気的かつ機械的に接続されるようになっている。チップ抵抗器1の電極5は例えばブラスト加工を施して粗面化できるが、軟化点の異なる複数種類のガラス材を電極ペーストに含有させる等の手法で電極5を粗面化してもよい。 (もっと読む)


【課題】分相性を適正に制御し得る抵抗体形成用ガラスを創案することにより、(1)ホットプレス工程で、緻密に焼結すること、(2)ホットプレス工程で、容易に変形すること、(3)ホットプレス工程後に、抵抗体の抵抗値がばらつく不具合を防止できること等の要求特性を満たすこと。
【解決手段】本発明の抵抗体形成用ガラスは、ガラス組成として、モル%で、SiO 49.0〜57.9%、B 26.8〜40.6%、BaO 2.8〜7.5%、LiO 7.6〜12.3%、BaO+LiO(BaO、LiOの合量) 10.4〜15.2%(但し、15.2%は含まず)を含有し、且つモル比SiO/Bの値が1.83以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 抵抗値変化率を一定以内に抑えた耐環境性に優れた銅導電体層付き抵抗薄膜素子の提供を目的とする。
【解決手段】 絶縁基材の少なくとも片面に、電気抵抗体となる抵抗層と、その抵抗層と回路を構成する配線を抵抗層の表面に積層した銅導電体層とを含む銅導電体層付き抵抗薄膜素子において、耐環境試験における目標抵抗値変化率ΔRに対して抵抗層の膜厚が、t≧α/ΔR、α:抵抗層の種類に応じた係数、t:抵抗層の膜厚[nm]で示される膜厚であることを特徴とする銅導電体層付き抵抗薄膜素子。 (もっと読む)


【課題】耐硫化性と耐半田食われ性にともにすぐれる、鉛フリーの厚膜導体形成用組成物を低コストで提供する。
【解決手段】本発明は、チップ抵抗器の電極として用いられる厚膜導体を形成するための組成物に関する。本発明の組成物は、導電粉末としてAg粉末が、酸化物粉末として、SiO2−B23−Al23−CaO−Li2O系ガラス粉末と、Al23粉末とが、それぞれ含まれており、かつ、添加物としてカーボン粉末が添加されている。導電粉末100質量部に対し、カーボン粉末が1〜10質量部、前記ガラス粉末が0.1〜15質量部、前記Al23粉末が0.1〜8質量部である。前記ガラス粉末の組成比は、SiO2:20〜60質量%、B23:2〜25質量%、Al23:2〜25質量%、CaO:20〜50質量%、およびLi2O:0.5〜6質量%である。 (もっと読む)


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