【課題】薄厚であり、高周波領域での電磁波吸収性に優れた電磁波吸収膜を提供し、さらに、該電磁波吸収膜を用いた電磁波吸収体を、環境に負荷をかけることなく、比較的容易に製造できる方法を提供する。
【解決手段】基材１０上に、磁性金属及び該磁性金属を酸化してなる金属酸化物を含有し、該金属酸化物の含有率が、10〜50体積％の範囲である電磁波吸収膜２０を形成する。前記電磁波吸収膜２０に前記磁性金属及び該金属の酸化物である前記金属酸化物を含有させることで、同一材料（磁性金属）を用いて前記電磁は吸収膜２０の形成を行うことができるため、前記磁性金属を膜中に均一に分散させることが可能となり、薄厚で、電磁波吸収性に優れた電磁波吸収膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ディジタル回路を始めとするスイッチングモード電気回路のシグナルインテグリティを向上しＥＭＣ問題を解決する。
【解決手段】電源デカップリング素子を構成する伝送線路構造チップは、アルミニウム層６１、ポリチオフェンが含浸されていないエッチング層６２、レジスト層６３、ポリチオフェンが含浸されているエッチング層６４、磁性薄膜層６５、カーボン含有層６６、金属粉皮膜層６７、ポリチオフェン層６８で構成される積層構造体から形成される。伝送線路構造チップを外装樹脂で封止して電源デカップリング素子として完成させ、エージングによって単極性の前記伝送線路構造チップとして機能させる。電源デカップリング素子をディジタル回路を始めとするスイッチングモード電気回路の印刷配線基板に搭載し、コンデンサに代えて電源分配回路に使用する。 （もっと読む）

【課題】強い磁界に配置された場合であっても、導体層の磁化の程度が比較的小さいセラミック構造体、および、半導体装置を提供する。
【解決手段】セラミックスの表面に導体層が設けられたセラミック構造体１０であって、導体層は、セラミックスの表面に被着されたメタライズ層１４と、メタライズ層上に設けられたＮｉメッキ層１６と、Ｎｉメッキ層上に設けられた反磁性金属層１８、１９と、を有して構成されたことを特徴とするセラミック構造体。 （もっと読む）

【課題】絶縁性を有すると共に、永久磁石として機能し、かつ従来よりも残留磁化を向上させ得る磁性薄膜の製造方法、磁性薄膜及び磁性体を提供する。
【解決手段】磁性薄膜３を形成する際に、絶縁性を有すると共に、永久磁石として機能するイプシロン型酸化鉄系化合物を含む磁性粒子を含有した塗工液に対して所定の強さの外部磁場を印加し、当該塗工液を固化して磁性薄膜３を形成するようにしたことにより、当該イプシロン型酸化鉄系化合物を含む磁性粒子を磁化方向へ規則的に配向させた状態で固化させることができ、かくして、絶縁性を有すると共に、永久磁石として機能し、かつ従来よりも残留磁化を向上させ得る磁性薄膜３の製造方法、磁性薄膜３及び磁性体１を提供できる。 （もっと読む）

【課題】一つの試料を作製するだけで、フェライトの組成変化に伴う磁気特性の変化を連続して測定することができるフェライトの特性評価方法を提供する。
【解決手段】透光性を有する単結晶基板上に、薄膜形成法を用いて、成分組成を水平方向に傾斜させて製膜した複数層の組成傾斜フェライト層からなる組成傾斜フェライト薄膜を形成し、該フェライト薄膜の組成傾斜方向に沿い連続して磁気光学効果を測定することにより、該フェライトの組成変化に伴う磁気特性の変化を連続して測定する。 （もっと読む）

【課題】 特に、基板上に高抵抗軟磁性膜（Ｆｅ−Ｍ−Ｏ）をスパッタ成膜して成るＲＦＩＤ用あるいは電磁波抑制用としての磁性シート及びその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 ＲＦＩＤタグ２と、金属部材３との間に磁性シート４が挿入されている。前記磁性シート４には、樹脂シートに、Ａ−Ｍ−Ｏ（ただし元素ＡはＦｅまたはＣｏまたはその混合物を表し、元素Ｍは、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｃａのうち少なくともいずれか一種を表す）から成り、元素ＭとＯの化合物を含むアモルファス相と、前記アモルファス相中に点在するＦｅまたはＣｏから選ばれる一種または二種を主体とした平均結晶粒径３０ｎｍ以下の微結晶相との膜構造で形成された高抵抗軟磁性膜がスパッタ成膜されている。これにより効果的にＲＦＩＤ特性の向上を図ることができるともに薄型化に貢献できる。またＦｅ−Ｍ−Ｏ膜に対して熱処理を施す必要がない。 （もっと読む）

【課題】 特に、高抵抗軟磁性膜（Ａ−Ｍ−Ｏ）を用いた磁性シートにおいて、従来に比べて適切に軟磁気特性の向上を図ることが可能な磁性シート及びその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 本実施形態の磁性シート４は、樹脂シート（基板）５の両面に、Ａ−Ｍ−Ｏ（ただし元素ＡはＦｅまたはＣｏまたはその混合物を表し、元素Ｍは、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｃａのうち少なくともいずれか一種を表す）から成る磁性膜６，６が物理蒸着法により成膜されており、前記磁性膜６の膜応力が、絶対値で６００ＭＰａ以上となっている。 （もっと読む）

【課題】 特に、高抵抗軟磁性膜（Ａ−Ｍ−Ｏ）を用いた磁性シートにおいて、従来に比べて適切に軟磁気特性の向上を図ることが可能な磁性シートを提供することを目的としている。
【解決手段】 樹脂シート５上に、Ｃｒ膜９と、Ａ−Ｍ−Ｏ（ただし元素ＡはＦｅまたはＣｏまたはその混合物を表し、元素Ｍは、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｙ、Ｓｉのうち少なくともいずれか一種を表す）から成る磁性膜６とが順に積層されている。磁性膜６は、元素ＭとＯの化合物を含むアモルファス相と、前記アモルファス相中に点在するＦｅまたはＣｏから選ばれる一種または二種を主体とした平均結晶粒径３０ｎｍ以下の微結晶相との膜構造で形成されている。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク装置のデ−タ転送速度の高速化と高記録密度化に伴い、記録周波数の高周波数化が進み、ライト後ノイズが増加する。
【解決手段】上部磁気シールド２６に、浴温30±1゜C、pH 2.0+0.5/−1.0、浴組成が、金属イオン濃度Ni²⁺5〜25(g/l)，Fe²⁺5〜15(g/l)、サッカリンナトリウム1.5±1.0(g/l)、塩化ナトリウム25±5(g/l)、ほう酸25±5(g/l)のめっき浴を用いて、結晶構造が面心立方相(fcc)と体心立方相(bcc)の磁性めっき薄膜を交互に積層した多層磁性膜を用いる。上下の磁性薄膜の結晶構造が異なるので、膜ごとにエピタキシャル成長が断ち切られ、結晶粒径を小さく制御することができる。結晶粒径が小さくなることによりライト後リードノイズを低減することができ、高記録周波数帯域でも使用可能な再生ヘッド２０を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高周波領域で高機能性を示す高周波軟磁性体膜に関し、特に、軟磁性金属及び合金クラスターを堆積させた集合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】高周波領域でフェライトを凌駕する複素透磁率が実現できるように、平均サイズ10nm以下の磁性金属及び合金クラスターを直接に基材（基板）上に堆積したことを特徴とする高周波軟磁性体膜。更にクラスター堆積中に、基材上に磁場を印加することにより作製すると、クラスター集合体膜中に磁気異方性が付与され、格段に優れた電磁波吸収特性を示す。 （もっと読む）

【課題】一種類の水溶液を基板に供給するだけで、フェライトめっき膜の成膜の可能なフェライトめっき液を開発し、フェライトめっき膜の成膜工程を簡易化することにより、磁気特性の良好なフェライトめっき膜のノイズ抑制体などへの応用範囲を拡大する。
【解決手段】２価の鉄イオンを必須成分として含む金属イオンと、キレート作用により金属イオンを安定化するキレート剤と、２価鉄イオンの少なくとも一部を酸化する酸化剤と、反応場のｐＨ値の低下を抑制するｐＨ調整剤と、２価鉄イオンの少なくとも一部を酸化する酸化剤と、反応場のｐＨ値の低下を抑制するｐＨ調整剤を含有させた水溶液を調製し、この水溶液を基板に供給し、水溶液の温度を上昇させてキレート剤のキレート作用を低下させることにより、フェライトめっき膜を成膜する。この方法により、フェライト膜の均質性が向上するとともに、成膜の生産性が向上する。 （もっと読む）

【課題】厚膜で高透磁率かつ低抵抗率の、高周波数帯域でも高い電磁波吸収能を有する複合磁性膜を提供する。
【解決手段】金属磁性体よりなる磁性相３０ａと、この磁性相中に島状に分散した高絶縁性フェライトの高電気抵抗相３０ｂとにより構成されている、電磁波吸収機能を有する複合磁性膜３０をＡＤ法により作製する。 （もっと読む）

【課題】高周波で高い透磁率を実現することが可能であると共に、等方的な透磁率が得られ、複雑な磁場発生設備を使用することなく作製することが可能である磁性多層膜及びその製造方法の提供
【解決手段】 強磁性金属層と希土類金属層とを、交互に少なくとも２層以上積層した構造を有し、前記強磁性金属層の一層あたりの膜厚が１Å〜１００Å、前記希土類金属層の一層あたりの膜厚が２Å〜１００Åである磁性多層膜。この磁性多層膜は、強磁性金属の薄膜を、１Å〜１００Åの範囲内の膜厚で成膜する工程と、希土類金属の薄膜を、２Å〜１００Åの範囲内の膜厚で成膜する工程とを、１０^-5Pa以下の高真空下で交互に少なくとも２回以上繰り返して磁性多層膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】樹脂を用いることなく、吸収特性の向上および制御が可能な電波吸収体を提供するとともに、該電波吸収体の簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】基材と、該基材に設けられた複数の孔とを有する電波吸収体であって、基材が樹脂を含まないフェライトで形成されたことを特徴とする。また、基材に複数の孔を形成して電波吸収体を製造する方法であって、エアロゾルデポジション法またはフェライトメッキ法により、樹脂を含まないフェライト基材を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

フェライトめっき法におけるフェライト膜の成膜速度を高めることにより、生産性が高く、しかもアンモニウムイオンを用いないフェライトめっき法を用いたフェライト膜の形成方法を提供する。フェライトめっきの際のｐＨ調整液として酢酸カリウムなどのアルカリ金属の弱酸塩の水溶液を用いることにより、高い成膜速度で良質のフェライト膜を成膜する。この方法を用いることにより、ＧＨｚ帯にて電磁ノイズを抑制することのできる電磁ノイズ抑制体の膜を回路基板などの電磁ノイズを抑制する対象に直接に形成することができる。
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