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Fターム[5E339BD08]の内容

Fターム[5E339BD08]に分類される特許

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【課題】層間接続の導通信頼性を高めつつ高密度配線による高精細な回路パターンを簡易な方法で形成する。
【解決手段】両面銅張積層板3に貫通穴4を設け、全面をめっきした上でスルーホール部10の形成箇所に第1のエッチングレジスト7を形成し、エッチングによりスルーホール部10の形成箇所以外のめっき層6を除去する。その後、両面銅張積層板3の全面に第2のエッチングレジスト8を形成し、レジストパターンを形成したら銅箔2に配線パターン9を形成する。 (もっと読む)


【課題】絶縁層に対して強固に密着した微細な配線導体を有する配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】絶縁層1の表面に算術平均粗さRaが300nm以下の粗化面1aを形成し、次に粗化面1aに無電解銅めっき層2を被着させ、次に無電解銅めっき層2の表面を黒化処理し、次に黒化処理された表面にドライフィルムレジスト3を貼着するとともに配線導体6のパターンに対応する開口を有するように露光および現像してめっきレジスト層3Aを形成し、次にめっきレジスト層3Aの開口内の無電解銅めっき層2上に電解銅めっき層5を配線導体6に対応するパターンに被着させ、次に無電解銅めっき層2上からめっきレジスト層3Aを剥離し、次に電解銅めっき層5および無電解銅めっき層2を、配線導体6のパターン間の無電解銅めっき層2が消失するまでエッチング処理することにより配線導体6を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ビアめっき部の検査を安定して精度良く行うことができる支持枠付サスペンション用基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、サスペンション用基板および支持枠が、上記支持枠の内部開口領域で一体化している支持枠付サスペンション用基板であって、上記支持枠が、絶縁層を貫通し、導体層および金属支持基板を電気的に接続し、ビアめっき部と同じ成分で構成される検査用ビアめっき部を有することを特徴とする支持枠付サスペンション用基板を提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】金属膜のウェットエッチングの終点を的確に検出できる回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】回路基板の製造方法は、基板上に、少なくとも第1の金属材料よりなる第1の金属層を介して、前記第1の金属材料とは異なる第2の金属材料よりなる第2の金属層を形成する工程と、前記第2の金属層上に第3の金属材料よりなる金属配線パタ―ンを形成する工程と、前記金属配線パタ―ンの形成工程の後、エッチング液中におけるウェットエッチングにより前記第2の金属層をエッチングし、前記第2の金属層を前記第1の金属層に対して選択的に除去するエッチング工程と、を含み、前記ウェットエッチング工程は、前記エッチング液中における前記第2の金属層の浸漬電位の時間変化を測定する工程を含み、前記浸漬電位がいったん降下した後上昇に転じ、その後さらに前記浸漬電位の時間変化率が減少したのが検出された場合に、前記ウェットエッチング工程を終了する。 (もっと読む)


【課題】銅層のエッチングによるダレを防止し、均一な回路幅を形成して、配線の直線性を良好にする。
【解決手段】銅層のエッチング面側に、銅よりエッチングレートの遅い層を形成すると共に、前記銅層の非エッチング側の面を樹脂基板に張付け、エッチング面に回路形成用レジストパターンを形成する。銅よりエッチングレートの遅い層を先にエッチングした後、次に銅層をエッチングして、樹脂基板上に電子回路を形成することで回路形成時のサイドエッチングを抑制し、高いエッチファクタを可能であるだけでなく、エッチングに先立ち、エッチングされるべき銅箔の直上にある表面処理層を予め除去するプリエッチング工程を導入することで、目的とする回路幅の、より均一な回路を形成でき、パターンエッチングでのエッチング性の向上、ショートや回路幅の不良の発生を防止できる銅箔及び電子回路形成用銅張積層板並びにこれを用いた電子回路基板を提供する。 (もっと読む)


【課題】回路パターン形成の際のエッチング性が良好でファインピッチ化に適し、磁性が良好に抑制されたプリント配線板用銅箔及びそれを用いた積層体を提供する。
【解決手段】プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、銅箔基材の表面の少なくとも一部を被覆し、且つ、白金、パラジウム、及び、金のいずれか1種以上を含む被覆層とを備え、被覆層における白金の付着量が1050μg/dm2以下、パラジウムの付着量が600μg/dm2以下、金の付着量が1000μg/dm2以下である。 (もっと読む)


【課題】 回路パターン形成の際のエッチング性が良好でファインピッチ化に適し、電送特性が良好なプリント配線板用銅箔及びそれを用いた積層体を提供する。
【解決手段】 プリント配線板用銅箔は、少なくとも一方の表面粗さRaが0.1μm以下である銅箔基材と、銅箔基材の該表面の少なくとも一部を被覆し、且つ、Pt、Au及びPdのいずれか1種以上で構成された被覆層とを備える。 (もっと読む)


【課題】サブトラクティブ法により配線導体が形成された配線基板において、配線導体の表面に必要な配線幅を確保することができるとともに絶縁層と接する側で十分な絶縁間隔を確保することが可能な配線基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】金属層2Pを、サイドエッチング抑制剤を含有する第1のエッチング液により、金属層2Pの幅がエッチングレジスト層3側から絶縁層1側に向けて広がるようにエッチングし、次に金属層2Pを、エッチング速度がエッチング液の攪拌速度に逆依存する第2のエッチング液により、金属層2Pの幅がエッチングレジスト層3側から金属層2Pの厚みの中央部に向けて広がるとともに金属層2Pの厚みの中央部から絶縁層1側に向けて狭まるようにエッチングして配線導体2を形成する。 (もっと読む)


【課題】エッチング性に優れたプリント配線板用銅箔及び積層体を提供する。
【解決手段】プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、銅箔基材の表面の少なくとも一部を被覆する被覆層とを備える。被覆層は、互いに平均間隔10nm未満で隣接し、且つ、直径が1〜15nmである貴金属粒子で構成された貴金属層と、貴金属層と銅箔基材との間に形成され、厚みが1nm以上である銅と貴金属との合金層とで構成されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、めっき触媒などの金属に対して十分な吸着性を有し、吸水性が低く、加水分解耐性に優れ、その表面上に形成される金属パターンの絶縁信頼性に優れた被めっき層(絶縁性樹脂層)を形成しうる被めっき層形成層組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】重合性基を有するユニット(A)、ClogPが0以下であるアクリルアミドモノマー由来のユニットであり、めっき触媒またはその前駆体と相互作用を形成する非解離性官能基を有するアクリルアミドユニット(B)、および疎水性基を有し、重合性基を有しないユニット(C)を含むポリマー、を含有する被めっき層形成用組成物。 (もっと読む)


【課題】導体回路間の絶縁信頼性の優れた回路基板、回路基板の製造方法および半導体装置を提供すること。
【解決手段】基材105と、基材105の少なくとも一方の面側に金属層101が形成された積層板10を用意し、金属層101の表面に開口部を設けたレジスト層21を形成する工程と、レジスト層21の開口部にめっきにより導体部31を形成する工程と、レジスト層22を剥離液により除去する工程と、レジスト層を剥離液により除去することにより露出する金属層101をドライエッチングにより除去する工程と、を含むことを特徴とする回路基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】配線導体が大きく細ること、および配線導体の絶縁層と接する底面が両側から大きくえぐれることを抑制し、それにより微細な配線導体を高密度で形成することが可能な配線導体の形成方法を提供すること。
【解決手段】無電解銅めっき層2および電解銅めっき層4を、配線導体5間の無電解銅めっき層2が消失するまでエッチング液でエッチング処理することにより電解銅めっき層4およびその下の無電解銅めっき層2から成る配線導体を形成するエッチング工程において、無電解銅めっき層2に対するエッチング速度が電解銅めっき層4に対するエッチング速度の1.6倍以下である第1のエッチング液を用いてエッチング処理した後、無電解銅めっき層2に対するエッチング速度が電解銅めっき層4に対するエッチング速度の2.4倍以上である第2のエッチング液を用いてエッチング処理する。 (もっと読む)


【課題】 安価でかつ簡単な工程で銅層のサイドエッチングなしに配線間の金属残りを除去でき、微細配線加工品でも十分な絶縁信頼性を有するフレキシブルプリント基板の製造方法、および該製造方法により得られたプリント配線基板を提供する
【解決手段】 フレキシブルプリント基板の製造方法であって、絶縁体フィルムの少なくとも片面に接着剤を介さずに形成された銅被覆層をエッチング処理して銅配線パターンを形成する工程における前記エッチング処理雰囲気の酸素濃度が、2体積%以下に維持されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 高精度かつ形状設計の自由度を確保すると共に、過酷な温度環境に置かれた場合であっても、基板と配線部間の接合信頼性を確保可能なマシナブルセラミックス回路基板を簡素な工程で得る。
【解決手段】回路基板10は、基板11の配線面11aに配線部13a,13bを接合してなる。基板11の配線面11aと配線部13a,13bとの間は接着シート部材15で接合されている。接着シート部材15は、配線部13a,13b側の粘着面15aの面方向(剪断方向)の伸縮が基板11側で拘束される肉厚に設定され、熱環境の変化に係わらず配線部13a,13bの規定の配線間隔を許容値内に保持することができる。 (もっと読む)


【課題】表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】(a)表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性組成物を含有してなる光架橋性樹脂層を形成する工程、(b)アルカリ水溶液によって未硬化部の光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程、(c)回路パターンの露光工程、(d)現像工程を含むレジストパターンの作製方法で使用される光架橋性組成物が、ジアルキルアミノベンゼン構造を有する化合物を含有してなることを特徴とする光架橋性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】めっき触媒又はその前駆体との吸着性及び加水分解に対する耐性に優れた絶縁性樹脂、絶縁性樹脂層形成用組成物、基板との密着性に優れた金属膜又は金属パターンを簡易に形成しうる積層体、表面金属膜材料及び金属パターン材料の作製方法を提供する。
【解決手段】下記式で表されるユニットを含み、(C)で表されるユニットの含有率が共重合体に含まれる全ユニット中20モル%未満である共重合体からなる絶縁性樹脂。
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【課題】めっき触媒又はその前駆体に対する吸着性に優れ、めっき液耐性に優れる絶縁性樹脂層を形成しうる絶縁樹脂及び該絶縁性樹脂を含んでなる絶縁性樹脂層形成用組成物、金属パターンを簡易に形成しうる積層体、該積層体を用いた表面金属膜材料の作製方法、金属パターン材料の作製方法の提供。
【解決手段】式(A)、式(B)及び式(C)で表される共重合体からなる絶縁性樹脂である。式中、R〜Rは、水素又はアルキル基、Z及びVは二価の炭化水素基等、W、Wはめっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する非解離性官能基。R及びRは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基等を表す。
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【課題】エッチング液を用いないことにより、人体に悪影響を及ぼしたり、環境を汚染したりすることを防ぐセラミック基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミック基板上にドライフィルムを貼リ付ける工程100と、ドライフィルムに対して露光および現像加工を行い、ドライフィルム上に所定の配線パターンを形成する工程101と、セラミック基板およびドライフィルム上に第1の金属層をコーティングする工程102と、第1の金属層上に銅層を電気メッキする工程103と、セラミック基板上のドライフィルム、第1の金属層および銅層に切断および研磨を行なった後、ドライフィルムを前記セラミック基板上から除去する工程104と、セラミック基板上に適切な厚さを有する銅層を形成する工程105と、セラミック基板の銅層の表面に第2の金属層を電気メッキする工程106と、を含む。 (もっと読む)


【課題】高精密度セラミック基板を提供する。
【解決手段】本発明の高精密度セラミック基板製造工程は、電気鍍金及び高精度の露光/エッチング方式で製造する必要があり、一般のプリント方式で製造するセラミック基板と異なり、セラミック基板表面に金属層を鍍金した後、金属層表面に乾燥型を貼付し、現像を行ない、露出した金属層表面に導電金属層を鍍金し、且つ回路部分を残した金属層及び導電金属層をエッチングし、所定位置の導電金属層表面に無酸素テープを粘着接合し、その無酸素テープは、セラミック粉、ガラス粉及び粘着剤を所定の比率で調合、積層して形成し、セラミック基板を無酸素炉に送り込み、同時焼成を行い、無酸素テープが遮蔽壁を成形し、無酸素炉内に同時焼成し、導電金属層は、酸化を発生せず、後続の溶接、電気鍍金工程を行なう時に既に鍍金した金属層が剥離、又は溶接不十分の欠陥が発生することがない。 (もっと読む)


【課題】露光時において、フォトマスクと感光性ドライレジスト層とを精度よく位置合わせでき、感光性ドライレジスト層を精度のよいパターンに現像して、配線回路基板を精密に形成できる配線回路基板集合体シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】
回路付サスペンション基板2を備える金属支持基板20に、第1保護フィルム21が貼着されている感光性ドライレジスト層22を熱圧着により積層し、第1保護フィルム21を剥離し、感光性ドライレジスト層22の表面に加熱することなく第2保護フィルム23を貼着し、フォトマスク24を介して第2保護フィルム23が貼着されている感光性ドライレジスト層22を所定パターンで露光し、第2保護フィルム23を剥離し、感光性ドライレジスト層22を所定パターンで現像し、感光性ドライレジスト層22から露出する金属支持基板20をエッチングして、回路付サスペンション基板集合体シート1を製造する。 (もっと読む)


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