【課題】金属パターンの非形成領域における耐イオンマイグレーション性に優れた金属パターン材料の製造方法、及び金属パターン材料を提供すること。
【解決手段】（ａ）基板上に、該基板表面に直接結合し、且つ、無電解メッキ触媒又はその前駆体と相互作用する官能基を有するグラフトポリマーを生成させてポリマー層を形成するポリマー層形成工程、（ｂ）該ポリマー層に無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与する触媒付与工程、（ｃ）無電解メッキを行いポリマー層の全面に金属膜を形成する金属膜形成工程、（ｄ）該金属膜の一部を除去して金属パターンを形成する金属パターン形成工程、及び、（ｅ）該金属パターンの非形成領域に存在するポリマー層を除去するポリマー層除去工程、を有することを特徴とする金属パターン材料の製造方法等である。 （もっと読む）

【課題】現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、良好なエッジフューズ性と追従性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】感光性樹脂組成物の総和に対して、（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜５５０であり、共重合成分としてベンジル（メタ）アクリレートを共重合体成分として２０〜８０質量％、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートを共重合体成分として３〜６０質量％含有し、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：２０〜９０質量％、（ｂ）光重合可能なモノマー：３〜７０質量％、（ｃ）光重合開始剤：０．１〜２０質量％、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、テンティング性が優れ、良好なエッジフューズ性と追従性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物の総和に対して、（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜５５０であり、ベンジル（メタ）アクリレートを共重合成分として５〜８０質量％、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートを共重合成分として３〜６０質量％含有し、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダ−用樹脂：２０〜９０質量％、（ｂ−１）特定の光重合可能な不飽和化合物：３〜７０質量％、（ｂ−２）特定の光重合可能な不飽和化合物：３〜５０質量％、ならびに（ｃ）光重合開始剤：０．１〜２０質量％、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】基板と長尺状感光性ウエブとを均一な加圧力で圧着し、皺やむらのない高品質な感光性積層体を製造することのできる感光性積層体の製造装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板２４の幅方向両端部に対して、ゴムローラ８０ａ、８０ｂに被覆されたゴム８３ａ、８３ｂの両端部を距離ｄ＝５〜３０ｍｍの範囲で外側に配置し、且つ、バックアップローラ８２ａ、８２ｂをクラウン形状とし、バックアップローラ８２ａ、８２ｂを介してゴムローラ８０ａ、８０ｂにより感光性ウエブ２２ａ、２２ｂ及びガラス基板２４を加圧することにより、感光性ウエブ２２ａ、２２ｂの感光性樹脂層をガラス基板２４に貼り付ける。 （もっと読む）

【課題】導電性高分子に対し優れたエッチング処理能力を有する導電性高分子用エッチング液、及び、前記導電性高分子用エッチング液を用いた導電性高分子をパターニングする方法を提供すること。
【解決手段】０．５重量％を超え７０重量％以下の（ＮＨ₄）₂Ｃｅ（ＮＯ₃）₆、又は、０．５重量％以上３０重量％以下のＣｅ（ＳＯ₄）₂を含むことを特徴とする導電性高分子用エッチング液、及び、前記導電性高分子用エッチング液を用いて導電性高分子をパターニングする方法。 （もっと読む）

【課題】ソルダーレジスト材の露光を短時間で行うことが可能であり、また、従来と同じソルダーレジスト材を用いてレーザーにより露光を行うことが可能なレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】プリント配線板３にカバーフィルム６に表面が覆われた紫外線感光性のソルダーレジスト膜７を形成し、ソルダーレジスト膜７の上方に紫外線を遮断し可視光感光性のレジスト膜８を形成し、可視光レーザー１０により露光し、レジスト膜８にレジストパターン１１を露光し、水で現像してレジスト膜８の硬化膜でレジストパターン１１によるマスクパターンを形成し、次いで、紫外線により、前記マスクパターンをマスクとして、ソルダーレジスト膜７にソルダーレジストパターン５を露光し、弱アルカリ現像液で現像し、プリント配線板３にソルダーレジスト膜７の硬化膜によるソルダーレジストパターン５を形成する。 （もっと読む）

【課題】高速現像性（未露光部）と優れた耐現像液性（露光部）により、解像度・密着性を向上させ、また、現像液における分散性を良好にし、且つ、エッチング液の発泡を抑制する感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマーの成分（重合性単量体）としてアクリル酸ブチルと、（Ｂ）エチレン性不飽和光重合性モノマとして多官能（反応部位（不飽和二重結合）が二つ以上）メタクリレート化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）増感剤とを含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像性及び密着性といった感光特性を維持したままスラッジ除去性に優れる感光性樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び十分に高密度化されたプリント配線板を得ることが可能なプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）置換基を有するヘキサアリールビイミダゾールの光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（Ｃ）成分が下記一般式（１）で表される化合物の群から選ばれる少なくとも１種を含む感光性樹脂組成物。
【化１】
（もっと読む）

【課題】 光感度、耐薬品性、機械強度、はく離特性、密着性、解像度、柔軟性、保存安定性等に優れる感光性エレメント、レジストパターン、プリント配線板を得るための感光性樹脂組成物これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）下記一般式（Ｉ）で表されるビスフェノールＡ系アセテート化合物を必須成分として含む添加（可塑）剤を含有してなる感光性樹脂組成物これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法。 （もっと読む）

【課題】感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、現像工程におけるスカムの発生が少なく、露光後のコントラスト性に優れ、剥離片サイズが微小であり、硬化膜柔軟性に優れ、アルカリ現像型プリント配線板用、リ−ドフレ−ム用及び半導体パッケ−ジ用の基板作製用ＤＦＲとして有用な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、かつ、重量平均分子量が２万〜５０万の線状重合体からなるバインダー用樹脂：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）特定の化合物を含有する光重合開始剤：０．０１〜３０質量％を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】スカムの発生を抑え、光感度、解像度、密着性、機械強度及び柔軟性が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物において、前記（Ｂ）成分が（Ｂ１）アルキレンジイソシアネートとポリアルキレンオキシドモノ（メタ）アクリレートの１／２モル比付加物である特定の重合性ウレタン化合物及び（Ｂ２）ポリエーテル鎖を有する特定のモノ（メタ）アクリレートを必須成分とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を避け、レジストの分離・回収を効率的に行なうことができるレジスト剥離・回収システム、該レジスト剥離・回収システムに用いられるレジスト分離器およびレジスト回収槽を提供する。
【解決手段】レジストの分離・回収システムの構成として、搬送中の帯状の製品からレジストを分離するために剥離液が注入され、かつ製品が剥離液に浸漬されるように構成された剥離液槽、または搬送中の個々の製品からレジストを分離するために剥離液が注入され、個々の製品を搬送する外部駆動のローラコンベアを内部に配置され、かつ製品が剥離液に浸漬されるように構成された剥離液槽と、剥離液槽で製品から分離されたレジストおよび剥離液の混合体が流入され、流入したレジストおよび剥離液を分離するレジスト分離器と、レジスト分離器から分離された、多少の剥離液を伴ったレジストが流入され、流入したレジストから剥離液を分離してレジストを回収するレジスト回収槽と、を設ける。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料の使用量を大幅に削減し、かつ均一な皮膜形成を可能とするレジストパターンの形成方法の提供
【解決手段】基材上に設けられた、少なくとも１層からなるレジスト層をフォトリソグラフィー又はドライエッチング法によりパターン化してレジストパターンを形成する方法であって、該レジスト層の少なくとも最外層を、樹脂硬化物を表面に有する円筒状印刷版を用いて印刷法により形成することを特徴とするレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】中性〜アルカリ性のシアン浴での貴金属めっきに耐え、解像度、密着性、レジスト剥離性に優れた感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供すること。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有バインダー：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）光重合開始剤：０．０１〜３０質量％を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物であって、（ａ）カルボキシル基含有バインダーが、特定の共重合体を含有し、かつ（ｂ）光重合可能なモノマーとして特定の化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】接続信頼性と生産性に優れたバンプを有するフレキシブルプリント配線板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁層と、絶縁層の少なくとも片面に形成された配線層と、配線層と同一材料からなり該配線層と一体構造を有するバンプと、を備えることにより、配線層とバンプとの間の界面が存在しないため、界面におけるバンプの剥離脱落が発生しない。これにより、本発明にかかるＦＰＣによれば部品接続時に均一で高い接続信頼性が得られるフレキシブルプリント配線板を提供することができる、という効果がある。 （もっと読む）

【課題】 搬送路１の上面側に多数の定量ノズル列２を配置すると共に、各定量ノズル列2間に吸引パイプ３を設けたエッチング装置において、基板各部のエッチングを均一に且つ高精度に行うこと。
【解決手段】 定量ノズル列２間又は並列されたそれらの上流端および/または下流端に制御ノズル列８を配置すると共に、制御ノズル列８と定量ノズル列２との間に吸引パイプ３を配置する。そして制御ノズル列８に多数の制御ノズル8aを並列させ、制御装置25及び制御バルブ14を介し、その噴射時期を制御する。夫々の吸引パイプ３は、同数のエジェクタ７の負圧部7aに連通管22により接続され、その連通管22の一端が吸引パイプ３の長手方向中央位置に接続する。 （もっと読む）

開示されたのは、長いフレキシブル回路を作製するための方法である。長い回路の幾つかは、単一のフォトイメージングマスクを使用して作製されてもよい。また開示されたのは、本方法で作製されたフレキシブル回路である。
（もっと読む）

【課題】下地金属層にＮｉ−Ｃｒ−Ｍｏ合金を用いた２層フレキシブル基板において、安価でかつ簡単な工程で銅層のサイドエッチングなしに配線間のＮｉ−Ｃｒ−Ｍｏ合金の溶け残りを除去でき、しかも高い絶縁信頼性を備えたプリント配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るプリント配線基板の製造方法は、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、主にクロム、モリブデン、ニッケルからなる下地金属層を接着剤を介さずに直接形成し、次いで該下地金属層上に銅被膜層を形成した２層フレキシブル基板に対し、エッチング法によりパターン形成するプリント配線基板の製造方法であって、前記エッチング法が、前記２層フレキシブル基板に対し、（A）塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液によりエッチング処理する工程と、次いで（B）塩酸を含む酸性エッチング液により処理する工程と、更に（C）フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液により処理する工程と、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所定の重合性化合物を組み合わせ、さらに感光層の感度を一定の範囲に調節することにより、感度及び解像度が高く、かつ、テント膜強度が強く、密着性に優れ、未露光膜破れの防止効果に優れるパターン形成材料、並びに、パターン形成装置、及びパターン形成方法は未だ提供する。
【解決手段】支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含み、前記重合性化合物が、ビスフェノール骨格を有する重合性化合物（ａ−１）と、分子内に反応性基を４つ以上有し、且つ分子量７００以上の重合性化合物（ａ−２）とを含有してなり、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法等である。 （もっと読む）

【課題】ウエットエッチングを用いた際のサイドエッチを低減することにより精度の高い微細なパターンを形成できる、パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板１８上に機能性材料からなる機能膜２８，２９を成膜し、機能膜２８，２９上にマスクパターン３８を設ける。そして、マスクパターン３８の少なくとも側面を覆う保護膜３１を形成し、マスクパターン３８を用いて、機能膜２８，２９をウエットエッチングによりパターニングする。また、保護膜３１の形成工程では、ウエットエッチングによるパターニング工程において、パターニングによって形成された機能膜２８，２９のパターンの側面２７が、形成した保護膜３１によって覆われるように、保護膜３１を形成する。 （もっと読む）