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Fターム[5E346AA05]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 多層の形状、構造 (21,562) | 基台の形状、構造 (1,878) | 片面板のもの (124)

Fターム[5E346AA05]に分類される特許

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【課題】 信号ラインにアンカー層が形成されている場合においても、導体損失を抑制することができるマイクロストリップライン構造の提供。
【解決手段】 グラウンド層または電源層が、信号ラインのアンカー層非形成面と対向して配置されているマイクロストリップライン構造。 (もっと読む)


【課題】 メッキにより密着強度に優れる導体層が簡便に形成可能な、フレキシブル回路基板用の絶縁材料として有用な熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)2官能性ヒドロキシル基末端ポリブタジエン、ジイソシアネート化合物及び四塩基酸無水物を反応させて得られる線状変性ポリイミド樹脂、及び(B)エポキシ樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネートエステル樹脂、ビスアリルナジド樹脂、ビニルベンジルエーテル樹脂、ベンゾオキサジン樹脂及びビスマレイミドとジアミンの重合物から選択される1種以上の熱硬化性樹脂を含有する熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 下地層の段差を吸収して平坦な面を提供する絶縁層であって、コンタクトホールを有する絶縁層を、インクジェット法で形成すること。
【解決手段】 インクジェット法を用いた層形成方法は、(a)第1レベル面上に位置する第1導電層21の側面が第1絶縁材料31Aで覆われるように、前記第1レベル面上に第1の濃度を有する前記第1絶縁材料31Aを吐出するステップと、(b)吐出された前記第1絶縁材料31Aを活性化または乾燥して、前記第1導電層21に接する第1絶縁層31Bを形成するステップと、(c)前記第1導電層21上と前記第1絶縁層31B上とに、前記第1の濃度よりも高い第2の濃度を有する第2絶縁材料を吐出するステップと、(d)吐出された前記第2絶縁材料を活性化または乾燥して、前記第1導電層21と前記第1絶縁層31Bとを覆う第2絶縁層を形成するステップと、を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】抵抗素子を内蔵した多層プリント基板において、抵抗値が安定し、素子容量の設計値への合わせ込む、クラックの発生を抑える、基板厚を薄くする受動素子内蔵プリント基板を提供することにある。安価で信頼性に優れた、抵抗素子及びその抵抗素子を内蔵した多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】絶縁層上に形成された一対からなる第一電極上に、該第一電極の、内端部を被覆しない位置で、大きさ以下の第二電極を設け、前記第一電極及び第二電極とその他の第一電極及び第二電極との一対の電極間に、両端が各々の第一電極の内端部と第二電極とに接するように抵抗体を設けたことを特徴とする抵抗素子。 (もっと読む)


【課題】 半導体IC内蔵基板のEMC特性を改善する。
【解決手段】 樹脂層11〜13からなる多層基板10と、多層基板10の内部に埋め込まれた半導体IC130と、多層基板10の一方の表面10aを覆う金属シールド151と、基板10の一方の表面10aと金属シールド151との間に設けられた磁性体シート154とを備える。これにより、半導体IC130からの高調波輻射ノイズが金属シールド151によって遮断されるばかりでなく、金属シールド151での高調波輻射ノイズの反射についても大幅に低減することが可能となる。また、研磨により薄膜化された半導体ICを用いれば、半導体IC内蔵基板全体の厚さを非常に薄くすることも可能となる。 (もっと読む)


金属−セラミック基板を形成するための方法が、開示される。前記方法によれば、金属層(3、4)が、ダイレクトボンディング工程によってセラミック基板あるいはセラミック層(2)の少なくとも一つの表面に設けられ、および、金属−セラミック基板あるいは部分的な基板が、その後のステップにおいて、およそ400バールと2000バールの間にわたるガス圧力(後処理圧力)およびおよそ450℃と1060℃の間にわたる後処理温度で、後処理される。 (もっと読む)


【課題】 電子部品が実装される回路パターンを有するプリント配線板、特に、フレキシブルプリント回路において、耐マイグレーション性を向上させることができるプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 絶縁材料からなる絶縁基材1aの表面上に、導電材料からなる回路パターン2を形成し、この回路パターン2の表面上に、熱酸化処理によって、酸化膜2aを形成する。この回路パターン2上に、接着剤層3aと絶縁層3bとからなるカバー層3をプレスキュアし、フレキシブルプリント回路とする。 (もっと読む)


本発明は、回路基板構成および電子モジュールの製造方法に関するものであり、この方法では、少なくとも1つの構成要素(6)を絶縁材料層(1)の内部に埋め込み、電子モジュールに含まれる導体構造(14, 19)に構成要素(6)を電気的に接続するための接点(14)を作製する。本発明によれば、構成要素(6)から出る熱の伝導を高める少なくとも1つの熱バイア(22)を、絶縁材料層(1)内の構成要素(6)付近に製造する。
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【課題】複数層の導体パターンを有する配線基板において、層間接続の信頼性が高い配線基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基材にビアホールを形成し、ビアホール内に層間接続時の加熱温度よりも高い融点を有する第2の金属からなる心材と、導体パターンを形成する金属と金属拡散を生じる第1の金属からなる表面層とを有するコート導電粒子を充填する。そして、加熱加圧することにより、コート導電粒子の導電粒子塊を形成するとともに、導体パターン金属と第1の金属との金属拡散層を形成し、この金属拡散層により複数層の導体パターンを電気的に接続させる。 (もっと読む)


【課題】製造し易く、コストが安い、クロストークノイズが発生しにくい、高密度化を実現した、基板組立品を提供する。
【解決手段】 第1絶縁板29および第1導電層30からなる第1基板28と、その上方に設けられ、第2絶縁板32および第2導電層33からなる第2基板31と、該第2基板31の上方に設けれ、分離された表面導電層50,51,52,53と、該表面導電層50,51,52,53の上に配置され、前記第1導電層30及び/又は前記第2導電層33に各々電気的接続された複数の電気部品3a,3b,5,21とを備え、前記第1導電層30および前記第2導電層33は、異なる線幅および異なる線間距離を持つ伝送線路からなる。 (もっと読む)


【課題】構造的にも容易に多層化でき、設計などの仕様変更に耐え得る多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】片面回路基板A、Bからなり、ICチップ70を収容する多層プリント配線板100は、表面及び裏面にBGA56が配置され、表面のBGA56を介してICモジュール120を実装した状態で、裏面のBGA56を介してプリント配線板に接続することができる。このため、実装されるICモジュールの形態の自由度が増し、種々のICモジュールを搭載することができる。 (もっと読む)


【課題】ワイヤーボンディングの配線密度を高めることができる多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】バイアホールランドを介することなく、バイアホール18にボンディングパッド36pを直接接続する。ボンディングパッドの線幅よりも直径の大きなバイアホールランドを用いないため、配線密度を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】半導体素子の放熱性に優れ、且つ、安価な多層基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】熱可塑性樹脂からなる樹脂フィルム2を介して導体パターン3を積層するとともに、当該積層体の内部に半導体素子7を配置した状態で加熱しつつ加圧することにより形成される多層基板10であって、積層体の上下両表面に、半導体素子7と絶縁される放熱板9を設けた。
このように、本多層基板10は、一括積層により形成されるとともに、半導体素子7から生じる熱を放熱板9を介して外部へ放熱することができる。従って、半導体素子7の放熱性に優れ、且つ、安価な多層基板10である。 (もっと読む)


【課題】低コスト化、薄型化及び軽量化を実現できるキャパシタ及びインダクタ素子内蔵の多層回路板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基材11上に第1配線層21a及び絶縁層31を形成し、絶縁層31上の所定位置にキャパシタ用下部電極41a及びインダクタ用下部コイル配線41bを形成する。さらに、キャパシタ用下部電極41a上に誘電体パターン層51を、インダクタ用下部コイル配線41b上に磁性体パターン層61を形成し、誘電体パターン層51及び磁性体パターン層61上に絶縁層72を形成し、研磨処理して誘電体パターン層51a、磁性体パターン層61a及び絶縁層72aを形成し、キャパシタ用上部電極81a及びインダクタ用上部コイル配線81bをを形成し、絶縁層31の同一平面上にキャパシタ及びインダクタ素子が形成された多層回路板を得る。 (もっと読む)


【課題】内層板を接着シートに溶着仮止めする工程を含む多層プリント配線板の製造において溶着時間を短縮する。
【解決手段】プリプレグ3の両側に配置された内層板1a,1bを外側より部分的に加熱加圧してプリプレグ3に溶着仮止めして各内層板およびプリプレグ3から構成される積層体7を形成し、次いで積層体7の両面にプリプレグ8および金属箔9を順次配置して、全体を加熱加圧成型する。積層体7を形成する工程において加熱加圧する領域の内層板1a,1bのプリプレグ3と溶着する表面には金属パターン2を形成する。この金属パターン2によって内層板1a,1bの溶着仮止め箇所の熱伝導が向上し、溶着時間の短縮と溶着面積の縮小ができる。この溶着面積の縮小化は、製品製造エリアの拡大をもたらす。 (もっと読む)


【課題】 高周波特性及びQ値が良好で且つ回路パターンが小さいコイル素子を有するプリント基板を提供する。
【解決手段】 絶縁層6上に、実質的な渦巻き形状に導電層をパターン化することにより、外径が0.1乃至3mmとなるようにコイル本体14を形成し、該コイル本体の両端を入出力端子24としたコイル素子2を有するプリント基板を形成する。これにより、Q値等を含む高周波特性を高く維持する。 (もっと読む)


【課題】 片側の表面のみに電極を有する多層基板であっても、製造工程を簡素化することが可能な多層基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 熱可塑性樹脂からなる樹脂フィルム23に導体パターン22を形成した後導体パターン22の表面にニッケル金めっき処理による表面処理層32を形成するとともに、ビアホール24内に導電ペースト50を充填した片面導体パターンフィルム31と、表面処理層32の形成以外は片面導体パターンフィルム31と同様の工程により形成した片面導体パターンフィルム21とを積層した((e)に図示)後、両面から加熱プレスして多層基板100を得る((f)に図示)。このように、片面導体パターンフィルム21、31のみから、片側の表面のみに電極33を有する多層基板100が製造でき、製造工程を簡素化することができる。 (もっと読む)


【課題】 種々の配線特性インピーダンスを有する複数の配線を、基板厚さを種々変更せず、また配線密度を低下させることなく配線でき、コストの上昇をもたらすことなく、種々のインターフェースを有するシステムを1つのプリント配線基板で接続することを可能とするプリント配線基板を提供する。
【解決手段】 コア基板10上に設けられた電源層又はグランド層を構成する銅箔1において、高インピーダンスエリア領域4においては、非銅箔部2の割合が多く、銅箔率は低い。また低インピーダンスエリア領域5においては、非銅箔部3の割合が少なく、銅箔率が高い。高インピーダンス配線層6は高インピーダンスエリア領域4に対向するように、銅箔1が形成されたコア基板と対向するコア基板に形成され、低インピーダンス配線層7は低インピーダンスエリア領域5に対向するように、前記対向するコア基板に設けられている。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減できるプリント配線板及び該プリント配線板の製造方法を提案する。
【解決手段】 プリント配線板10のコア基板30内に、チップコンデンサ20を配設する。これにより、ICチップ90とチップコンデンサ20との距離が短くなり、ループインダクタンスを低減することが可能となる。また、メタライズからなる電極21、22の表面に導電性ペースト26が塗布されているため、電極21、22の表面の接続抵抗を低減でき、特に、表面の凹凸を無くすため、接着材料36との密着性を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】 リード部品を介さないで、ICチップと直接電気的接続し得る多層プリント配線板を提案する。
【解決手段】 多層プリント配線板は、コア基板30にICチップ(CPU)20A及びICチップ(キャッシュメモリ)20Bを予め内蔵させて、該ICチップ20A、20Bのダイパッド24には、トラジション層38を配設させている。このため、リード部品や封止樹脂を用いず、ICチップと多層プリント配線板との電気的接続を取ることができる。また、アルミダイパッド24上にトラジション層38を設けることで、ダイパッド24上の樹脂残りを防ぐことができ、ダイパッド24とバイアホール60との接続性や信頼性を向上させる。また、複数のICチップを内蔵させることで、高集積化を達成できる。 (もっと読む)


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