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Fターム[5E346BB02]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 配線パターンの形状、構造 (5,951) | 配線パターンが特定されたもの (3,046) | 信号層に関するもの (1,481)

Fターム[5E346BB02]に分類される特許

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【課題】本発明は電子部品モジュール及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明による電子部品モジュールは第1回路パターンが埋め込まれた第1面を有する第1絶縁層と、上記第1回路パターンに実装され、電極部の位置が異なる少なくとも1種以上の電子部品と、上記電子部品を覆うモールド膜とを含む。本実施形態によると、回路パターンが形成された薄い絶縁層を含んで薄膜化された電子部品モジュールを提供することができる。 (もっと読む)


【課題】Snメッキ層で被覆された金属パッドの半田濡れ性を向上させることが可能な配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の配線基板の製造方法においては、配線積層部のソルダーレジスト層に複数の開口部を形成して複数の金属パッドを露出させた状態の配線基板を準備し(ステップS10)、金属パッドの表面をSnメッキ層で被覆し(ステップS11:Snメッキ工程)、Snメッキ層で被覆された金属パッドを加熱し(ステップS13:リフロー工程)、加熱後のSnメッキ層の表面を、アミンを含むアルカリ洗浄液により洗浄する(ステップS15:アルカリ洗浄工程)。これにより、Snメッキ層の表面の不純物が除去されて半田濡れ性が向上し、金属パッドにおけるチップ立ち不良を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】コネクタ、電子デバイス及びテストポイントがビアホールを介して配線で接続された配線回路におけるビアホールの断線を確実に診断すること。
【解決手段】基板面に実装されたコネクタ11、電子デバイス12及び電圧印加用のテストポイント13がビアホール16を介して配線で接続されて成る一配線回路が、多数形成された多層配線基板20である。この基板20は、一方の面にテストポイント13が形成され、他方の面に電子デバイス12が実装され、これらテストポイント13及び電子デバイス12がビアホール16を介して配線21,22で接続され、コネクタ11が電子デバイス12と同一面に実装されて当該電子デバイス12に配線22で接続されて成る。 (もっと読む)


【課題】各層の密着性の高い基板を簡易な工程で製造でき、しかもリジッド部の厚みをより均一にすることができるフレックスリジッド配線基板、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】プリプレグ11を介してリジッド配線基板の積層単位でフレキシブル配線板10を両側から挟み込んだ積層物を加熱加圧して一体化させる工程と、前記フレキシブル配線板10の端部10aに形成された配線パターンと前記リジッド配線基板の配線パターンとを導電接続する層間接続部を形成する工程とを含むフレックスリジッド配線基板の製造方法であって、前記積層物は、前記両側の積層単位を接着するための両側のプリプレグ11が、前記フレキシブル配線板10の端部10aを挟み込むと共に、残りの部分には別のプリプレグ31を挟み込んだものであるフレックスリジッド配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】エンベデッド基板の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明によるエンベデッド基板の製造方法は、両面にパターンが形成され、上下部が貫通されるキャビティが形成されたコア基板と、上記キャビティに内蔵されるチップと、上記パターンを保護するように上記コア基板の両面にそれぞれ形成される第1及び第2絶縁体と、を含むエンベデッド基板の製造方法であって、上記コア基板を準備するステップと、上記キャビティの下側を遮蔽するように上記コア基板の下面に上記第1絶縁体をラミネイションするステップと、上記キャビティから露出する上記第1絶縁体に接着層を形成するステップと、上記接着層に上記チップを接着させて上記キャビティに上記チップを内蔵するステップと、上記コア基板の上面に上記第2絶縁体をラミネイションするステップと、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】例えば幅および間隔が20μm以下の微細な半導体素子接続パッドを含む配線を形成することが可能であるとともに、外部接続パッドを外部電気回路基板に接続したときに大きな応力が加わったとしても外部接続パッドに剥がれが発生することのない配線基板を提供すること。
【解決手段】絶縁基板1の一方の主面に半導体素子接続パッド5を含む第1の配線導体3がセミアディティブ法により被着形成されているとともに絶縁基板1の他方の主面に外部接続パッド6を含む第2の配線導体3がセミアディティブ法により被着形成されて成る配線基板であって、第1の配線導体3は一方の主面の絶縁層2上に被着された無電解めっき層3aおよびその上の電解めっき層3bから成り、第2の配線導体3は、他方の主面の絶縁層2上に直接被着された金属箔3cおよびその無電解めっき層3aおよびその上の電解めっき層3bから成る。 (もっと読む)


【課題】 絶縁層と貫通導体との界面からの水分侵入を低減できるガラスセラミック配線基板を提供すること。
【解決手段】 SiOを網目形成酸化物とした第1のガラス材料を含んだ、焼結温度が800℃乃至1000℃であるガラスセラミック焼結体からなる複数の絶縁層1と、絶縁層1
を貫通する貫通導体とを有するガラスセラミック配線基板であって、貫通導体は、導体材料と、第1のガラス材料の軟化点よりも高く、絶縁層1の焼結温度よりも低い軟化点を有する非晶質のSiO−B−Al−BaO−CaO−MgO系ガラスとの焼結体であることを特徴とするガラスセラミック配線基板である。ガラスセラミック配線基板が燒結する際に、貫通導体に含まれる第2のガラス材料が軟化したときには、絶縁層に含まれる第1のガラス材料が軟化しており、絶縁層に隙間が少なくなっているので、第2のガラス材料が絶縁層側に流れ出すことを抑制できる。 (もっと読む)


【課題】回路基板と端子とを電気的に接続しつつ、部品点数を増加させることなく、回路基板に端子を機械的に接続することができる回路基板の端子接続構造を提供すること。
【解決手段】回路基板100と金属材料からなる端子200との接続構造であって、回路基板100は、少なくとも熱可塑性樹脂を含む絶縁基材30と、絶縁基材30に設けられ、積層された導体パターン10と少なくとも一部が導体パターン10と電気的に接続される層間接続部20とを含む配線部と、を備える。そして、絶縁基材30の内部には端子200の一部が配置され、端子200と配線部の一部(層間接続部20)とが電気的に接続されるとともに、端子200における絶縁基材30内に配置された部位に絶縁基材30内における熱可塑性樹脂が密着して接続される。 (もっと読む)


【課題】全体としての放熱性を向上することができる多層回路基板を提供する。
【解決手段】多層回路基板(1) が、交互に積層された複数の絶縁層(21,22,23) 及び複数の導体層(11,12,13,14) を含む。前記導体層は、複数の導体パターン(111,112,113,114,115,116) を含む最上導体層(11)と、複数の導体パターン(141,142,143,144,145,146) を含む最下導体層(14)とを含む。最上導体層(11)の各導体パターンに、半導体素子(51,52,53,54,55,56) が実装される。最下導体層(14)の導体パターンは、複数の放熱パターン(141,142,143,144,145,146) を含む。各放熱パターンは、放熱ビア(61)を介して半導体素子に1対1で接続される。各放熱パターンの面積は対応する半導体素子の面積以上である。 (もっと読む)


【課題】対をなす信号線同士の距離を小さく設定したとしても、3つのモードの特性インピーダンスを、Zdiff=2ZoおよびZcomm=Zo/2の関係からのズレを最小限に抑制して設計することができる回路基板を提供すること。
【解決手段】本発明の回路基板1は、絶縁体層2と、この絶縁体層2の一方の面側に設けられ、第1の信号配線3aと第2の信号配線3bとで構成される信号配線対30と、絶縁体層2の他方の面側に設けられたグランド層6とを有し、第1の信号配線3aと第2の信号配線3bとの間にグランド配線7aが配設されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 信号伝送路の特性インピーダンスが良好に制御されたプリント配線基板を提供すること。
【解決手段】層間接着層30と、層間接着層30を挟んで第一の回路基板11と、第二の回路基板21とが積層されたプリント配線基板100であって、第一の回路基板11には、第一の基材111と、第一の基材111の一方の面側に特性インピーダンスの制御がなされる信号回路115が設けられ、第二の回路基板21には、第二の基材211と、第二の基材211の一方の面側にグランド層215が設けられるとともに、層間接着層30には、空隙部50が設けられ、空隙部50を挟んで信号回路115とグランド層215が設けられているプリント配線基板100である。 (もっと読む)


【課題】3次元流路と電気配線を内蔵した設計自由度の高い陽極接合可能なLTCC基板、前記基板をMEMS素子が形成されたシリコンウエハと陽極接合した電子デバイス用のMEMS素子、及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】LTCC基板用グリーンシートに、焼成・エッチング処理後に3次元の流路と貫通配線となるビアホールを開ける工程、前記ビアホールに金ペーストを印刷する工程、前記グリーンシートを所定枚数積層し、焼成して一体化する工程、前記貫通配線部となるビアを保護した状態で、金導体を除去する工程、及び保護膜を剥離する工程を有する3次元の流路と電気配線を内蔵した陽極接合可能なLTCC基板の製造方法、その方法で得られるLTCC基板、及びその基板をMEMS素子の搭載されたシリコンウエハと陽極接合した各種電子デバイス用のMEMS素子とその製造方法。 (もっと読む)


【課題】製造時間の短縮を図ることが可能な積層基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】積層基板を構成する配線層及びビア層は、対応する配線シート70及びビアシート60を別々の製造工程で作成する。そして、コア基板10に対し、上下方向に複数のビアシート60及び配線シート70積層して、プレス装置によって押圧しつつ加熱処理を行うことで、積層基板を形成する。 (もっと読む)


【課題】可溶性のフッ素系樹脂を含む絶縁樹脂組成物及びこれを用いて製造された印刷回路基板を提供する。
【解決手段】本発明は可溶性のフッ素系樹脂;熱硬化性樹脂;及び前記可溶性のフッ素系樹脂と前記熱硬化性樹脂を同時に溶解させることができる溶媒;を含む絶縁樹脂組成物及びこれを用いて製造された印刷回路基板を提供する。 (もっと読む)


【課題】簡易な方法で、配線に対するガラス繊維密度の疎密の影響を低減することが可能な配線基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本配線基板は、複数の第1繊維束、及び前記複数の第1繊維束とは異なる方向に配置された複数の第2繊維束が織り込まれた補強部材と、絶縁性の樹脂と、を含む絶縁層と、前記絶縁層上に配置された並走する一対の差動配線と、を有し、前記絶縁層の一部の領域において、前記第1繊維束及び前記第2繊維束は平面方向に蛇行しており、前記差動配線は、前記絶縁層の一部の領域上に配置されていることを要件とする。 (もっと読む)


【課題】製造コストの上昇を抑え、配線に対するガラス繊維密度の疎密の影響を低減することが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】本配線基板は、一対の差動配線15,16と、前記差動配線15,16の両面に前記差動配線15,16の進行方向に並設された繊維束13a,13b、及び23a、23bを含む各2層の絶縁層11a、11b、及び12a、12bを設け、前絶縁層11a、11bの繊維束13a,13bの間隔は、絶縁層12a、12bの繊維束23a、23bの間隔よりも狭く、前記差動配線は、隣接する絶縁層11a、11bの繊維束13a,13bと平面視で重ならない位置に配置されている。 (もっと読む)


【課題】放熱特性を維持しながら、発熱素子より発生した熱から熱脆弱素子を保護することのできる放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コア金属層111及びコア金属層111に形成されるコア絶縁層112を含み、第1領域と第2領域とに区分されたコア層110、コア層110の第1領域に形成される回路層120、コア層110の第2領域に形成され、ビルドアップ絶縁層131及びビルドアップ回路層132を含むビルドアップ層130、コア層110の第2領域とビルドアップ層130の間に形成される接着層140、及びビルドアップ層130に実装されて接着層140に含浸される含浸素子150を含み、回路層120に発熱素子160を実装し、ビルドアップ層130に熱脆弱素子161を実装することにより、発熱素子160の熱による熱脆弱素子161の損傷を防止し、空間を効率的に活用する放熱基板100a及びその製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】最外層として形成される絶縁層の加熱処理による変色を防止できる配線基板を提供する。
【解決手段】一方の面側に最外層として形成され、黒色又は灰色を呈する第1絶縁層20と、第1絶縁層20から露出して形成された第1接続パッドP1と、他方の面側に最外層として形成され、黒色又は灰色を呈する第2絶縁層26と、第2絶縁層26から露出して形成された第2接続パッドP2とを含み、第2絶縁層26に曲面状の側壁面を有する接続ホールCHが形成され、接続ホールCHの底部に第2接続パッドP2が露出している。 (もっと読む)


【課題】2層以上の導体層を有するプリント配線板の対向する導体層間の位置ずれ量を、簡単に非破壊で測定するプリント配線板の板厚制限なく測定することを可能とする。
【解決手段】対向する各導体層に設けた導体パターン及びそれら導体パターンで挟まれた絶縁層からなる並行平板型コンデンサーをプリント配線板に設け、並行平板の対向面積とコンデンサー静電容量の相関関係を利用して、コンデンサーの静電容量を測定することで、非破壊で対向する導体層間のずれ量を測定する。 (もっと読む)


本発明のセラミックパッケージ台座は、クパッケージ基板(1)と、その上に印刷される回路配置層と、パッケージ固定層と、を含む。該回路配置層は少なくとも1つの金属スラリーエリア(3)を含み、金属スラリー(3)が設置されない空白エリア(2)には、さらに金属スラリーエリア(3)と対応する少なくとも1つの補償金属スラリーエリア(4)が設けられる。金属スラリーエリアと対称に分布する補償金属スラリーエリアを設けることによって、応力を減少させ、台座変形の状況を有効に改善することができる。
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