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Fターム[5E346BB15]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 配線パターンの形状、構造 (5,951) | 配線の幅・厚さ等の数値が特定されたもの (197)

Fターム[5E346BB15]に分類される特許

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【課題】耐熱フィルムを用いた従来の多層基板において、導電ペーストからなるビアを多層に積層した場合、抜き部分に、皺が発生する場合があり、多層基板の信頼性や、多層基板の表面への部品実装性に影響を与える場合があった。
【解決手段】厚み30μm以下の耐熱フィルム104aと、内層配線102間に設けられた蛇行パターン106を有する抜き部分105と、複数の内層配線102間を層間接続する導電ペースト113とを有する、コア基板部108と、このコア基板部108の両面に、第2の樹脂層もしくは第2の耐熱フィルムを介して固定した表層配線117と、を有する多層基板101であって、蛇行パターン106の大きさやピッチは、共に蛇行パターン106の幅の0.1倍以上5倍以下、長さは3mm以上20mm以下であることを特徴とする多層基板101とする。 (もっと読む)


【課題】接続端子の間隔が小さな電子部品を内蔵できる回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】電子部品を内蔵するための空白領域が設けられた第1の絶縁体層と、空白領域が設けられた第2の絶縁体層とが積層されて構成されている積層体と、第2の絶縁体層に設けられ、一端が複数の接続端子にそれぞれ接続されている複数の導体層と、積層体内に設けられ、かつ、複数の導体層の他端にそれぞれ接続されている複数のビアホール導体と、を備えており、第1の絶縁体層および第2の絶縁体層は、熱可塑性樹脂によって構成されており、積層体は、熱可塑性樹脂の軟化・流動によって第1の絶縁体層及び第2の絶縁体層が接合されてなり、第1の絶縁体層の空白領域は、電子部品よりも大きく、複数のビアホール導体は、第1の絶縁体層において空白領域の周りに配置されていること、を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】配線板の層数が少ない場合でも、インダクタの性能を確保できる配線板及び配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線板10は、第1面Fと第1面Fとは反対側の第2面Sとを有し貫通孔20aを備える第1絶縁層20と、第1絶縁層20の第1面F上に形成されている第1導体パターン21Aと、第1絶縁層20の第2面S上に形成されている第2導体パターン22Aと、貫通孔20aの内部に形成されて第1導体パターン21Aと第2導体パターン22Aとを接続する接続導体30とを有するコア部材11を備える。第1導体パターン21Aと第2導体パターン22Aは渦巻き状に形成されており、かつ、第1絶縁層20よりも厚い。これによって、インダクタンスの大きいインダクタ40がコンパクトに構成される。 (もっと読む)


【課題】配線層となる導体層の過剰切削や切削不足を抑制できる配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る配線基板の製造方法は、絶縁層及び配線層をそれぞれ1層以上有する配線基板の製造方法であって、前記絶縁層に配線溝を形成する第1の工程と、前記配線溝内に、少なくとも一部が埋設するようにして前記配線層となる導体層を形成する第2の工程と、前記導体層の表面を、切削工具を用いて切削することで前記配線層を形成する第3の工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】チップ部品接続端子の厚さバラツキを抑え、チップ部品との接続信頼性を高めることができる多層配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】多層配線基板は、基板主面及び基板裏面を有し、複数の樹脂絶縁層20〜27及び複数の導体層28を積層してなる構造を有している。多層配線基板の基板主面上には、ICチップを接続可能な複数のICチップ接続端子41とチップコンデンサを接続可能な複数のコンデンサ接続端子42とが設けられている。めっき層形成工程において、基板主面31側にて露出する最外層の樹脂絶縁層27上に、各接続端子41,42となる製品めっき層61を形成し、かつ製品めっき層61の周囲にダミーめっき層62を形成する。 (もっと読む)


【課題】製造過程において反りが発生した場合でも、反りを矯正できる多層配線構造及びその製造方法、並びに多層配線構造を用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】メタル層と絶縁層とを交互に複数層積層して形成された多層配線構造において、最上層及び最下層のうちの少なくとも一方の上記メタル層と上記絶縁層は、それ以外のメタル層と絶縁層より膜厚が厚く、上記最上層及び上記最下層のうちの少なくとも一方の表面は略平坦である。 (もっと読む)


【課題】埋め込み回路を形成することにより微細で密着力のある外層回路が形成可能であり、しかも任意の箇所に立体回路を形成することによりバンプやピラー、ダミー端子等の種々の導体回路の構成を形成可能な半導体素子搭載用パッケージ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】キャリア金属箔とベース金属箔とを積層した多層金属箔を準備し、基材と積層してコア基板を形成する工程と、キャリア金属箔上に第1のパターンめっきを行う工程と、第1のパターンめっき上に絶縁層と導体回路と層間接続と形成して積層体を形成する工程と、積層体をキャリア金属箔とともにコア基板から分離する工程と、分離した積層体のキャリア金属箔上にエッチングレジストを形成してエッチングを行うことにより、埋め込み回路または立体回路を形成する工程と、を有する半導体素子搭載用パッケージ基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】表層導体の剥離が生じ難く、電子部品の実装が容易であり、大電流用の配線基板として好適なセラミック基板を提供する。
【解決手段】セラミック基板10は、セラミック焼結体12と表層導体14とが一体化され、表面に表層導体14が露出した構成を有する。セラミック焼結体12の一主面12aと、表層導体14の一主面14aとは、同一平面をなし、表層導体14の一主面14a以外の部分は、セラミック焼結体12に埋設され一体的に接合されている。表層導体14の一主面14a以外の部分、すなわち、表層導体14の側面14bは、セラミック焼結体12の内壁部12bと接合され、表層導体14の他方の主面14cは、セラミック焼結体12の内底面12cと接合されている。 (もっと読む)


【課題】信号配線の特性インピーダンスの制御及びデカップリングキャパシタのキャパシタンスの制御を行う基板を提供する。
【解決手段】半導体装置1は、基板と、前記基板に形成された電源配線と、前記基板に形成された信号配線と、前記基板に形成されたグランド配線と、前記信号配線、前記電源配線及び前記グランド配線を被覆する絶縁層と、前記絶縁層の上に形成された金属膜11と、を備え、前記電源配線を被覆する前記絶縁層の厚さと、前記信号配線を被覆する前記絶縁層の厚さとが異なり、前記金属膜11がグランド電位に接続されている。 (もっと読む)


【課題】耐熱性及び高い熱伝導率を有する硬化物の得られるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)下記式(3)


で表される化合物の一種以上とヒドロキシベンズアルデヒドとの反応によって得られるヒドロキシル化物に、エピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂、(b)カテコールノボラック、レゾルシンノボラック、ハイドロキノンノボラック、ナフタレンジオール、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、ビフェノール及びジヒドロキシフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上の硬化剤及び(c)熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材を含有してなるエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面の表面粗さを小さくすることができ、該硬化物の表面に微細な配線を形成できるエポキシ樹脂材料を提供する。
【解決手段】本発明に係るエポキシ樹脂材料は、エポキシ当量が300以下であるエポキシ樹脂と硬化剤と無機フィラーとを含む。上記エポキシ樹脂材料中の上記無機フィラーを除く成分を配合した配合物を、80℃の5重量%水酸化ナトリウム水溶液に20分間浸漬したときに、無機フィラーを除く成分を配合した配合物の硬化物の重量減少が0.2重量%以下であり、かつ、上記無機フィラーを80℃の5重量%水酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬したときの無機フィラーの重量減少が1.0重量%以上8.0重量%以下である。 (もっと読む)


【課題】 線間距離を狭めても信頼性が低下しない多層プリント配線板を提供することにある。
【解決手段】 第2導体回路58と第2導体回路58との間(絶縁間隔:スペース)において、第1樹脂絶縁層50と上層樹脂絶縁層150との間に無機絶縁膜48が介在しており、第1樹脂絶縁層50と上層樹脂絶縁層150とが無機膜は表面がフラットなため給電層の除去が容易に可能となり、第2導体回路との間(絶縁間隔:スペース)において、第1樹脂絶縁材−第2樹脂絶縁材間でのエレクトロケミカルマイグレーションが発生することが無い。このため、第2導体回路の絶縁間隔を10μm以下に狭めても、信頼性が低下しない。 (もっと読む)


【課題】スルーホールを有する領域に折り曲げ部を設けた場合でも、層間接続の抵抗値の上昇が抑制される多層印刷配線板を提供する。
【解決手段】第1の熱硬化性樹脂に由来する樹脂硬化物を含む第1の絶縁層100、および前記第1の絶縁層の両面に配置された厚さが1〜35μmである金属箔を有し、前記金属箔からなる回路層26および前記第1の絶縁層100の両面に配置された金属箔を互いに接続するスルーホール20が形成された回路基板と、前記回路基板の少なくとも一方の面上に設けられ、グリシジルアクリレート樹脂およびポリアミドイミド樹脂から選択される少なくとも1種である第2の熱硬化性樹脂に由来する樹脂硬化物を含み厚さが80μm以下である第2の絶縁層200と、を有する多層印刷配線板の前記回路基板および第2の絶縁層200が積層された領域に折り曲げ部を備えて構成する。 (もっと読む)


【課題】 高周波領域のICチップ、特に3GHzを越えても誤動作やエラーの発生しないパッケージ基板を提供する。
【解決手段】 コア基板30上の導体層34Pを厚さ30μmに形成し、層間樹脂絶縁層50上の導体回路58を15μmに形成する。導体層34Pを厚くすることにより、導体自体の体積を増やすし抵抗を低減することができる。更に、導体層34を電源層として用いることで、ICチップへの電源の供給能力を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、伝送信号強度の損失を抑制しつつ、反りの発生抑制および低剛性化を図ることができるサスペンション用基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、ライト側配線構造およびリード側配線構造を有し、上記ライト側配線構造は、ライト側凹部を有する第一絶縁層と、上記ライト側凹部に形成されたライト側第一配線層と、上記ライト側第一配線層を覆う第二絶縁層と、上記第二絶縁層上であり、かつ、上記ライト側第一配線層に厚さ方向において重複するライト側第二配線層とを有し、上記リード側配線構造は、リード側凹部を有する上記第一絶縁層と、上記リード側凹部に形成されたリード側第一配線層と、上記リード側第一配線層を覆う上記第二絶縁層と、上記第二絶縁層上であり、かつ、上記リード側第一配線層に厚さ方向において重複するリード側第二配線層とを有することを特徴とするサスペンション用基板を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】微細な内層配線パターンであっても横倒れや剥がれが起こりにくく、樹脂絶縁層との間に十分な密着性が付与されている多層配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の多層配線基板K1は、複数の樹脂絶縁層16,17,30,31を積層してなり、基板主面32a及び基板裏面33aを有する基板本体20を備える。隣接する樹脂絶縁層16,17,30,31間には、基板本体20の面方向に沿って延びかつめっき層41,42からなる内層配線パターン28,29が挟まれるようにして配置されている。内層配線パターン28,29は、上面43及び底面44を有するとともに、上面43側にて接する樹脂絶縁層30,31及び底面45側にて接する樹脂絶縁層16,17の両方に対して埋まっている。 (もっと読む)


【課題】部品内蔵によっても配線板としての信頼性が低下しにくい部品内蔵配線板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】端子を有する電気/電子部品と、電気/電子部品の表面の少なくとも一部に密着して該電気/電子部品の少なくとも一部分を埋め込んだ板状絶縁層と、この板状絶縁層の上面上に設けられた第1の配線パターンと、板状絶縁層の上面に対向する下面上に設けられた、電気/電子部品の実装用のランドを含む第2の配線パターンと、電気/電子部品の端子と第2の配線パターンのランドとを電気的、機械的に接続する、すずおよび金を含むはんだ接続部材と、を具備し、第2の配線パターンが、基層と、該基層上位置選択的に積層された、はんだ接続部材と該基層との間に挟まれて位置するニッケル金属層とを有する。 (もっと読む)


【課題】チップ内にパワートランジスタと信号処理回路部とが混在しながらも、製造工程を簡素化でき、且つ、体格を増大せずに電流容量の不足を解消することができる半導体チップ内蔵配線基板を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂を含む絶縁基材に埋設された半導体チップの一面には、大電流電極と、大電流電極よりも流れる電流が小さい複数の小電流電極が形成されている。小電流電極に接続された配線部は、小電流電極の直上にそれぞれ位置するとともに、小電流電極と接続された導体パターンからなる第1パッドを有し、該第1パッドとして、隣り合う小電流電極の直上であって同一層に位置する複数の第1パッドを含む。大電流電極に接続された配線部は、金属片からなり、上記複数の第1パッドと同一層に位置する横配線部を含む。この金属片は、大電流電極の直上に位置して第2パッドを兼ねるとともに、同一層に位置する第1パッドよりも厚くなっている。 (もっと読む)


【課題】屈曲耐久性に優れていると共に、設計上の自由度が高いフレキシブルプリント配線板を提供する。
【解決手段】フレキシブルプリント配線板2は、厚さtが11.0μm〜13.0μmであり、引張弾性率Eが3.0GPa〜8.0GPaの第1の絶縁層21と、第1の絶縁層21に積層され、厚さtが8.9μm以上の回路層22と、回路層22に積層され、厚さtが5.0μm〜15.0μmであり、引張弾性率Eが2.0GPa〜3.0GPaの接着層23と、接着層23に積層され、厚さtが11.0μm〜13.0μmあり、引張弾性率Eが3.0GPa〜4.5GPaの第2の絶縁層24と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


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