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Fターム[5E346CC16]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 多層の材料・材質 (18,988) | 絶縁材料 (10,015) | 無機質系 (1,711)

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【課題】第1樹脂層に形成したビア導体を構成する導電性ペーストが硬化状態になる際、第2樹脂層に形成したビア導体から導電性ペーストがはみ出すことを防止し、所定の性能を有するビア導体を形成した樹脂多層基板を提供する。
【解決手段】樹脂多層基板は、部品内蔵層(第1樹脂層)と、部品内蔵層の一面に積層してある薄層樹脂層(第2樹脂層)とを備える。薄層樹脂層の、部品内蔵層に積層されている面とは反対側の面に形成してある表面電極と、部品内蔵層に設けてあり、一端が部品内蔵層の一面に至るビア導体(第1ビア導体)と、薄層樹脂層に設けてあり、一端が表面電極と、他端がビア導体とそれぞれ電気的に接続してあるビア導体(第2ビア導体)とをさらに備える。ビア導体の中心線と、ビア導体の中心線との位置が相違するように配置してあり、ビア導体の周囲にある薄層樹脂層が、ビア導体の少なくとも一部と重なるようにビア導体を配置してある。 (もっと読む)


【課題】電子部品の外部基板への更なる高密度実装が可能であり、また、端子電極の高さを任意にかつ所望に調整でき、これにより、電子部品の検査時における従来の不都合を解消できるとともに、電子部品の実装における歩留まりを改善して生産性をも高めることが可能な電子部品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】電子部品の1つであるコンデンサ1は、基板2上に形成される第1の上部電極5aと、その第1の上部電極5aに隣接して形成された第1の台座10及び第2の台座11と、第1の上部電極5a並びに第1の台座10及び第2の台座11を覆う保護層6,8と、それらを貫通するビア導体Va,Vcを介して第1の上部電極5aと接続され、かつ、第1の台座10及び第2の台座11上に形成された端子電極9aとを備える。 (もっと読む)


【課題】外部接続端子に半田バンプを有する半導体部品のリペア作業時に、取り外される部品の半田バンプを効率よく加熱できるようにし、かつ、隣接する他の半導体部品に熱的悪影響が及ぶことのないようにする。
【解決手段】配線基板10の表面の電極パッド10aにはICチップ11が搭載されている。配線基板10の裏面の電極パッド10bには半田バンプ12が形成されている。電極パッド10aと10bは、基板内部に形成された層間接続導体10e、内層配線10c、10dを介して電気的に接続されている。配線基板の再下層には電極パッド10bを囲むようにヒータ配線が形成されており、このヒータ配線は、基板表面に形成されたヒータ用電極端子10fから給電される。 (もっと読む)


【課題】マザーボードと同様の材料を主体として構成され、かつキャビティを備えた全層IVH構造の多層の回路基板を提供する。
【解決手段】開口部を有し表層に回路が形成された上側基板と、開口部を有し貫通孔に導電性ペーストが充填された導通孔を有する基板間接続シートと表層に回路が形成された下側基板を積層し加熱加圧する。
特に、キャビティ底部の下側基板に形成されるソルダレジストの形成端が、上側基板の開口部の端部あるいは基板間接続シートの開口部の端部との間で非形成部による隙間を設けて形成することにより、キャビティ構造および高い層間接続信頼性を備えた全層IVH構造を有する多層の回路基板を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】基板上の外部接続端子および配線層を、研磨工程なしに平坦化し、積層化に好適な外部接続端子、配線層及び貫通配線を有する多層配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】第2の導電層120を給電層として、電解Cuめっきにより第2の導電層120より金属めっきを成長させ、貫通配線を形成する。貫通配線の先端の金属めっきが第1の導電層110と電気的に接続すると、この後に、第1の導電層110よりCuめっきが成長し、外部接続端子300および第1の配線層350が形成される。外部接続端子300および第1の配線層350が成長して支持基板200に接触すると、外部接続端子300および第1の配線層350は支持基板200の下面によって基板厚さ方向への成長ができなくなり、基板100の面内で、平坦で膜厚が均一な外部接続端子300および第1の配線層350を形成する。 (もっと読む)


【課題】グリーンシートの積層基板に設けられた複数のビアホールに導電性ペーストを充填するビア充填方法及び装置において、ビア充填における欠陥の低減の為、通常の導電性ペーストに比べて粘度の高い高粘度導電性ペーストによる充填方法及び装置を提供する。
【解決手段】温水等方圧プレス装置1は、圧力容器10と、上蓋12を圧力容器10に固定するピンクロージャー11と、圧力容器10に満たした液体17と、液体17に浸され、ビア充填積層体を真空包装したラミネートパック20,21と、液体17を加熱するヒータエレメント16と、加熱制御器15と、加圧ポンプ13と、循環ポンプ14と、圧力センサ18と、温度センサ19と、を有している。 (もっと読む)


【課題】本発明はセラミック基板の製造方法に関する。
【解決手段】本発明は、複数の第1セラミックグリーンシートを含む第1セラミック積層体を設ける段階と、前記第1セラミック積層体上に少なくとも1つの分離誘導層を形成する段階と、前記第1セラミック積層体上に複数の第2セラミックグリーンシートを含む第2セラミック積層体を積層して基板用セラミック積層体を形成する段階と、前記積層された第2セラミック積層体を部分的に切開する段階と、前記基板用セラミック積層体を焼成する段階と、前記焼成された基板用セラミック積層体において前記部分切開された領域を除去してキャビティを形成する段階と、を含むセラミック基板の製造方法に関するものである。
前記の構成により、無収縮焼成方法を適用してキャビティ付近の変形を防止することができるセラミック基板の製造方法を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】設計の自由度が高く、多くの機能を盛り込んでも、小型化を維持することができる多層集積回路を提供すること。
【解決手段】複数の受動素子用導体層11および複数の配線用導体層12の各層間にセラミック層10を介在させた多層積層回路1であって、受動素子用導体層11および配線用導体層12の少なくとも1層は、当該多層積層回路1の主面表面Saからセラミック層10を貫通するビア13を介して接続され、少なくとも主面表面Sa上でビア13に接続して外部接続が可能な電極を含む外部電極14が主面表面Sa上に形成されるとともに、主面表面Sa上に外部電極14の少なくとも1組を接続する外部配線用導体17が形成される。 (もっと読む)


【課題】製造コストを低く抑えることができる回路基板、複合部品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】回路基板12、電子部品14及び保護層16を備えている複合部品10。基板本体13は、主面S1,S2を有する板状をなし、かつ、主面S1において電子部品14が実装される実装領域Eを有している。識別マーク18a,18bは、主面S1上であって、かつ、z軸方向から平面視したときに、主面S1の角に接するように設けられている。保護層16は、主面S1及び電子部品14を覆っている。 (もっと読む)


【課題】基板のそりの抑制に優れ、ある程度の厚みある基板として取り扱うことで作業効率を確保することができ、銅張り積層板にも対応可能であり、フレキシブル基板ではロール加工にも対応可能な配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、2枚の基板を、該2枚の基板の外周より内側に0.1〜50mmの枠状の範囲で接着剤を介して貼り合せて1枚の基板とし、該1枚の基板の両面に配線の形成を行った後、前記接着剤を介して貼り合せた接着部分を除去することで前記1枚の基板を分離して、それぞれ独立した配線板とすることを特徴とする配線板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 半導体素子と基板との接続信頼性が高く、高密度実装化が可能な半導体装置及びその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本半導体装置10は、一方の面13aから他方の面13bに貫通する複数の導体12を有する基板13と、前記基板13の前記一方の面13aに形成された、半導体素子14を内蔵する第1絶縁層16aと、前記第1絶縁層16a上に形成され、かつ、前記第1絶縁層16aに設けられた貫通孔16x,16yを介して前記基板13の前記一方の面13aから露出する複数の導体12の一部及び前記半導体素子14と電気的に接続された第1配線層17aと、前記基板13の前記他方の面13bに形成された第2絶縁層16bと、前記第2絶縁層16b上に形成され、かつ、前記第2絶縁層16bに設けられた貫通孔16zを介して前記基板13の前記他方の面13bから露出する前記複数の導体12の一部と電気的に接続された第2配線層17bと、を有することを要件とする。 (もっと読む)


【課題】設計上の制約を受けることなく容量を容易に変更可能とし、大容量化に対応できるとともに、基板への内蔵を容易に行えるようにすること。
【解決手段】キャパシタ10は、誘電体基板11を有し、その厚さ方向に多数の線状導体12が貫通形成されている。複数の線状導体12を一群として各群毎に当該線状導体の一端側にのみ接続された電極15a,16aが、誘電体基板11の両面上でそれぞれ少なくとも1箇所に、又は一方の面上で少なくとも2箇所に配置されている。さらに誘電体基板11の両面に、それぞれ電極15a,16a間の領域を被覆する絶縁層13,14が形成され、各絶縁層13,14上に、それぞれ所要の数の電極15a,16aと一体的に導体層15,16が形成されている。 (もっと読む)


【課題】 絶縁樹脂層とセラミック配線基板との間に熱応力発生したとしても、配線が破断してしまう可能性がより低減された高信頼性の配線基板を提供すること。
【解決手段】 セラミック配線基板1の上面に複数の絶縁樹脂層2と複数の配線層3とが交互に積層され、絶縁樹脂層2の上下に位置する配線層3・3間がビア導体4で接続され、最下層の絶縁樹脂層2に形成された複数のビア導体4と、セラミック配線基板1の内部から上面に引き出された複数の内部配線5の端部とが電気的に接続されており、内部配線5の端部はセラミック配線基板1の上面に形成された複数の凹部9の底面に引き出されており、凹部9内のビア導体4の周囲に絶縁樹脂が充填されている配線基板。比較的接続強度の弱いビア導体4と内部配線5の端部との接続部は、凹部9内で絶縁樹脂によって固定されているので、破断してしまう可能性が低減された高信頼性の配線基板となる。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い、超薄膜の多層配線基板が低コストで容易に形成できる多層配線基板の製造方法及び多層配線基板を提供する。
【解決手段】多層配線基板の製造方法は、絶縁層14を介して第1配線12及び第2配線16が積層され、第1配線12と第2配線16とがコンタクトホール18を介して接続される多層配線基板2の製造方法であって、コンタクトホール18に第1配線12と第2配線16とを接続する導電ポスト20を形成する工程と、絶縁層14上及びコンタクトホール18に跨って、第2配線16を形成する工程と、を含み、導電ポスト20と第2配線16とは、同時に行うめっき処理により形成される。 (もっと読む)


【課題】外層に形成される第2抵抗体を小さい面積(狭い面積)で形成することにより、抵抗内蔵型多層配線板の小型化を図る。
【解決手段】多層配線板は複数の絶縁層が積層されたもので、内層として提供される第1層10及び外層として提供される第2層20を含む本体部と、第1層10に形成される第1抵抗体11と、第2層20に形成される第2抵抗体21を含み、第2抵抗体21は第1抵抗体11と並列連結され、第1抵抗体10より狭い面積を有する。 (もっと読む)


【課題】 マージン部をより積層体の端に近い位置に形成して、製品部を大きく確保し得る、多層セラミック基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 複数のセラミックグリーン層2を積層してなり、多層セラミック基板となる製品部11と製品部11を囲むマージン部7とからなる中央領域9と、中央領域9を囲む外縁領域5とを有する積層体10を作製する工程と、積層体10の、中央領域9と外縁領域5との間に第1の切り込み溝13を形成する工程と、積層体10を焼成する工程と、積層体10を第1の切り込み溝13に沿って分割し、外縁領域5を除去して中央領域9を得る工程と、中央領域9からマージン部7を除去して製品部11を得る工程とを備える、多層セラミック基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 配線基板の配線層間に生じる浮遊容量を小さくすることで、より高速な素子の検査や、高速の検査ができる高信頼性の配線基板を提供する。
【解決手段】 セラミック配線基板1の上面に複数の絶縁樹脂層2と複数の配線層3とが交互に積層され、絶縁樹脂層2の上下に位置する配線層3間がビア導体4で接続された配線基板であって、配線層3のうち、下から2層目の絶縁樹脂層2の下面に位置する接続用配線層3aと、セラミック配線基板1の内部から上面に引き出された内部配線1aの端部とが電気的に接続されており、接続用配線層3aとセラミック配線基板1との間に絶縁樹脂層2が存在しない空間5がある配線基板である。比誘電率の比較的大きなセラミック配線基板1の内部配線1aと接続用配線層3aとの間に比誘電率の小さな空間5が入ることで、これらの間に発生する浮遊容量を減少させることができる。 (もっと読む)


少なくとも2つのプリント回路基板領域を含むプリント回路基板を製造する方法であって、プリント回路基板領域は各々、少なくとも1つの導電層および/または少なくとも1つの装置または1つの導電性部品を含み、いずれの場合も互いに直接的に隣接する少なくとも1つの側方面の領域内で、互いに接続されるべきプリント回路基板領域(20、21、22)は、結合または接続によって互いに接続されており、互いに接続されるべきプリント回路基板領域(20、21、22)の結合または接続の後に、プリント回路基板の少なくとも1つの追加層またはプライが、互いに接続されるべきプリント回路基板領域(20、21、22)上にわたって配置または付着される、方法において、追加層が互いに接続されるべきプリント回路基板領域(20、21、22)に集積される導電層または装置または部品にメッキスルーホール(23)を通じて接触接続される導電層(26)として実現されることを規定しており、その結果として、互いに接続されるべきプリント回路基板領域(20、21、22)の簡単かつ信頼性の高い接続または結合が入手可能となり得る。
さらに、複数のプリント回路基板領域(20、21、22)からなるプリント回路基板が入手可能となる。
(もっと読む)


【課題】垂直実装が可能で、かつ製造の容易な回路基板を提供する。
【解決手段】複数の絶縁層10a〜h間に内部導体層21が形成されてなる積層基板10と、前記積層基板の表面に形成され且つ前記内部導体層と電気的に接続された表面導体層22と、前記積層基板の前記絶縁層の少なくとも1層を選択的に除去して形成されたキャビティとを有し、前記絶縁層のうちの少なくとも2層が、前記積層基板の積層方向に垂直な面上に突出し、空間部を介して相対向する脚部を形成しており、前記表面導体層が、前記絶縁層の突出端面に到達するように伸張し、外部接続用端子部23を構成する。 (もっと読む)


【課題】互いに対向して配置される電極を有する回路形成体間が電気的に接続されて構成される3次元回路構造体において、電極間の電気的接続をより安定して確実に行う。
【解決手段】3次元回路構造体において、第1回路形成体と、第1の方向において第1回路形成体と対向して配置された第2回路形成体と、第1の方向に沿って配置された複数の細線体の集合体として構成され、第1回路形成体と第2回路形成体との間に介在して配置された中間体とを備え、それぞれの細線体は、第1回路形成体の第1電極と第2回路形成体の第2電極とを電気的に接続する導体線状部材と、導体線状部材の周囲に配置された絶縁層とを有し、中間体は、第1の方向において電気的導電性を有するとともに、第1の方向と直交する第2の方向において電気的絶縁性を有する。 (もっと読む)


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