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Fターム[5E346CC54]の内容

Fターム[5E346CC54]に分類される特許

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【課題】フィルドビア以外の絶縁層表面に形成された銅からなる導体層のめっき厚を調整して、フィルドビアの欠陥発生がなく、精度の良い配線層が形成可能な配線基板の製造方法及び配線基板を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基材11の両面に導体層21が形成された両面銅張り積層版にビア用孔12を形成し、ビア用孔12を導電化処理した後電気銅めっきによりビア用孔12をフィリングしてフィルドビア23を、絶縁基材11上の導体層21上に銅からなる導体層22を形成した後、引き続き、導体層22を同じ電気銅めっき液からなる硫酸酸性液でPR(パルスリバース)電解エッチングを行って導体層表面研磨を行い、配線層24a及び21aを形成し、配線層24aと配線層21aがフィルドビア23にて電気的に接続された配線基板10を作製するというものである。 (もっと読む)


【課題】 半導体チップを内蔵した配線基板の薄型化を実現し、かつ当該配線基板の反りを抑制する。
【解決手段】 半導体チップを内蔵した配線基板であって、前記半導体チップが埋設された絶縁層と、前記半導体チップに接続される配線と、を有し、前記絶縁層の第1の側と、当該第1の側と反対側の第2の側とに、それぞれ当該絶縁層を補強する補強層が形成されていることを特徴とする配線基板。 (もっと読む)


【課題】貫通孔の直径を75〜130μm程度の小さいものとしても貫通導体に断線が発生することがない極めて高密度な配線が可能な配線基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】絶縁樹脂板1の上下両面に銅箔から成る内層導体2A・2Bが被着された両面銅張板の上下両面に絶縁樹脂板1よりもレーザ光の照射による分解度合いが大きな絶縁樹脂層3A・3Bが被着されているとともに、絶縁樹脂板1、内層導体2A・2Bおよび絶縁樹脂層3A・3Bを上下に貫通し、かつ絶縁樹脂層3A・3Bにおいて外側に向けて拡径する複数の貫通孔4がレーザ加工により形成され、この貫通孔4内壁に内層導体2A・2Bに接続された貫通導体5および絶縁樹脂層3A・3Bの表面に貫通導体5に接続された表層導体6A・6Bがそれぞれめっきにより被着形成されて成り、さらに内層導体2A・2Bは全ての貫通孔4に対応して設けられている。 (もっと読む)


【課題】貫通孔の直径を75〜130μm程度の小さいものとしても貫通導体に断線が発生することがない極めて高密度な配線が可能な配線基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】絶縁樹脂板1の上下両面に銅箔から成り、内層配線導体パターンWおよび内層配線導体パターンWから電気的に独立したダミー導体パターンDを有する内層導体2A・2Bが被着された両面銅張板の上下両面に絶縁樹脂板1よりもレーザ光の照射による分解度合いが大きな絶縁樹脂層3A・3Bが被着されているとともに、絶縁樹脂板1、内層導体2A・2Bおよび絶縁樹脂層3A・3Bを上下に貫通し、かつ絶縁樹脂層3A・3Bにおいて外側に向けて拡径する複数の貫通孔4がレーザ加工により形成され、貫通孔4内壁に内層導体2A・2Bに接続された貫通導体5および絶縁樹脂層3A・3Bの表面に貫通導体5に接続された表層導体6A・6Bがそれぞれめっきにより被着形成されて成る。 (もっと読む)


【課題】配線幅を小さくしながらもビア接続信頼性のある両面回路基板用部材もしくは多層回路基板用部材とその製造方法を提供する。
【解決手段】ビアホール形成用の孔を有する絶縁層の上に孔の内部表面を含む表面上に複数層からなる金属層が形成されている回路基板用材料において、複数層からなる金属層の最表層がニッケル、クロム、チタン、モリブデン、コバルト、鉄、亜鉛、アルミニウム、もしくはこれらの金属を含む合金の金属層であり、前記金属層の下部は銅もしくは銅を含む合金層である回路基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 L/S=20μm/20μm以下、すなわち最大配線幅Mが20μm以下になる場合でも、耐電食性が良好な配線板(マザーボード、半導体チップ搭載基板)及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 配線の最大配線幅をM、配線のボトム幅をb、配線のボトムから最大配線幅までの高さをy、配線のボトムからトップまでの配線高さをtとした配線と、配線が形成された絶縁層とを有する配線板において、0.1≦b/M<1で、かつ0.1≦y/t≦0.9となる配線を有する配線板。 (もっと読む)


【課題】基板の総厚を低減化できるプリント基板の製造方法および薄型プリント基板を提供する。
【解決手段】本発明に係るプリント基板の製造方法は、コア絶縁層201、コア絶縁層201上に接着された離型フィルム202、離型フィルム202の周囲を取り囲むように積層された絶縁材203、および離型フィルム202の上下面に積層された銅箔204a、204bを備えるベース基板200を用意する工程と、ベース基板200の上下面にソルダレジスト205を形成する工程と、ベース基板200の上下面に回路層208および絶縁層209を順次積層する工程と、離型フィルム202を取り囲む絶縁材203を含む部分を除去するため、ベース基板200の端部を切断する工程と、離型フィルム202を分離し、ベース基板200を、コア絶縁層201を中心に2枚の基板に分離する工程と、分離された各基板の片面に露出した銅箔204a、204bを除去する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】両側回路層に形成された一対のビアポストを用いて、層間接続層に形成されたスルーホールに伝導性を付与するパラレル多層プリント基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】パラレル多層プリント基板は、複数のスルーホールが形成された絶縁性の内層1010と、内層1010の両面に積層された一対の回路層であって、内層1010の各スルーホールに対応する位置に伝導性物質からなるビアポスト1030、1030’が突出し、ビアポスト1030、1030’が互いに接触して層間を導通させるようにした一対の回路層1024b、1024b’とを含む。 (もっと読む)


【課題】必然的な厚さを有する絶縁層コアを除去することが可能な新規のプリント基板の製造方法を提供する。
【解決手段】銅箔の一面に、紫外線によるパターニングが可能な絶縁材をコートし、前記絶縁材に紫外線でパターニングを行い、前記絶縁材上に、電解メッキにより、回路パターンを形成し、前記回路パターン上に絶縁層を積層し、前記絶縁層および前記銅箔の他面にビアホールおよび回路パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】電気・電子機器の小型・高信頼性への要求に対応した多層回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】層間接続にあらかじめ形成した側壁にテーパ形状を有する貫通穴の中に柱状突起を有し、該貫通穴と柱状突起との間は導電体にて充填されている多層回路基板の製造法において、ポリイミドを層間絶縁材とする両面銅張積層板1の貫通穴となる部位の少なくともその片面にある銅箔を除去し、これをコンフォーマルマスクとして化学エッチングの手法にてポリイミドにテーパ形状を有する穴6を一括で形成する。そして、必要に応じて該穴の底部に露出した銅箔をポリイミドをマスクとしてエッチングする事により貫通穴7を一括形成し、該貫通穴7と柱状突起9との間は導電体12で充填する。 (もっと読む)


【課題】良好な解像性、アルカリ水溶液による現像性を有し、得られる硬化物は耐めっき液性および耐熱性に優れるとともに、導体配線との密着性に優れ、現像処理後に熱ダレが起こり難い絶縁層を形成することのできる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記のA成分〜D成分を含有することを特徴とする絶縁層形成用感放射線性樹脂組成物。
〔A成分〕アルカリ可溶性樹脂、
〔B成分〕エポキシ化合物、
〔C成分〕分子内にオキセタニル基及びチイラニル基からなる群から選ばれる基を有する化合物、および
〔D成分〕溶剤。 (もっと読む)


【課題】 貫通孔導体の膜厚を増大すると共に貫通孔導体とパネルメッキ層との接続面積を増大することにより、パネルメッキ層の膜厚を薄くして、高密度導体パターンを実現すると共に貫通孔導体の信頼性を向上した多層プリント配線板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 多層プリント配線板のコア部材となる配線板基材1にメッキレジスト膜を形成した後、貫通孔3を形成し、貫通孔3の壁面及びメッキレジスト膜2の貫通孔面に沿って貫通孔導体4を形成することにより、貫通孔導体4に突出部4aを形成する。メッキレジスト膜を剥離した後、配線板基材1及び貫通孔導体4の表面にパネルメッキ層5を形成することにより突出部4aを被覆した状態で貫通孔導体4とパネルメッキ層5とを接続するので接続面積を大きくすることができる。 (もっと読む)


【課題】 電気めっきによってブラインドビアホール内にめっき層を容易に形成することを目的とする。また、ブラインドビアホール内に電気めっきで形成しためっき層によって異なる導体層間を接続することを目的とする。
【解決手段】 プリント配線板の製造装置1は、プリント配線板10の原板10’と、めっき液Lを貯留するめっき槽20と、めっき液Lをめっき槽20内で循環させる循環装置30と、電気めっきのための電圧をプリント配線板10の原板10’と陽極板50に印加する給電装置40と、から構成されている。そして、給電装置40のマイナス極41は、めっき液Lの液面から突出した原板10’の第2導体層11Bのみに接続されている。 (もっと読む)


【課題】配線パターンの特性インピーダンスバラツキを抑える。
【解決手段】外層に金属箔12,13が貼着された基板にバイアホール6を形成し、バイアホール6の内部を含む基板表面に金属メッキ処理を施し、金属メッキ処理が施された基板表面のバイアホール6が形成された開口部7以外の領域にメッキレジスト15を施し、基板表面の開口部7及びバイアホール6内に厚付けメッキ処理を施し、基板表面より上記メッキレジスト15を除去し、基板表面にエッチングレンジスト17を貼着し、上記開口部7及びバイアホール6を除く領域に貼着された金属箔12,13をエッチングすることにより配線パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】ビアホールの内部回路の中断現象なしで微細な回路パターンを形成することができるプリント基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層と、前記絶縁層を貫通するように形成される少なくとも一つのビアホールと、前記ビアホールの内壁および前記絶縁層の少なくとも一面に所定のパターンに形成され、前記所定のパターンの角部に対する角部が、形成厚さに比例する大きさにエッチングされている第1無電解メッキ層と、前記第1無電解メッキ層上に形成される第2無電解メッキ層と、前記第2無電解メッキ層上に形成され、前記第1無電解メッキ層の厚さに比例する大きさに角部がエッチングされている電解メッキ層とを含む。 (もっと読む)


【課題】抵抗素子のサイズを縮小させ、且つ段差等に起因した信頼性の低下を阻止する。
【解決手段】 基板20と、基板20上に形成された絶縁層30と、絶縁層30上に選択的に形成された1対の第2配線層90A,90Bとを備えたプリント配線板であって、絶縁層30内に、基板20上に選択的に形成された1対の第1配線層40A,40Bと、各第1配線層40A,40B間に各第1配線層40A,40Bに対してハーフエッチングされて形成された1対の導電層50A,50Bと、各導電層50A,50Bの一部を被覆するように形成された貴金属層60A,60Bと、各導電層50A,50B間に貴金属層60A,60Bに密着して形成された抵抗体70と、各第1配線層40A,40Bと各第2配線層90A,90Bとを電気的に接続する接続層80とを備えたプリント配線板。 (もっと読む)


【課題】 部品の周辺にボイドや空隙を発生させず、部品とプリント配線板の電気的接続安定性に優れた部品内蔵型プリント配線板の提供。
【解決手段】 部品が設置される内層の絶縁基板に予め貫通穴を設けた後、チップ部品実装パッド部に部品を設置し、次いで絶縁基材と導体基材を交互に積層して絶縁基材にて部品を封止する。 (もっと読む)


【課題】基板相互あるいは基板と電子素子との結合信頼性を向上させる接続構造を提供する。
【解決手段】超小形電子回路パネル260間の相互接続用の間挿体はその表面に接点250を有している。各接点は表面と直交する中心軸線と、係合された回路パネルのパッド262により印加される力に応答して中心軸線から半径方向外方へ拡張するようになっている周辺部とを有している。かくして、回路パネル260が間挿体とともに圧縮されると、接点は半径方向に拡張してパッド262をぬぐう。このぬぐい作用により、接点自体に担持されている導電結合材料246によるような、パッドに対する接点の結合は容易となる。 (もっと読む)


【課題】下層導体回路上に電解メッキにて形成される層間接続用ポストに於いて下層導体回路との密着力を向上しメッキ高さ均一化の方法及びそれを利用した多層配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】下層導体回路が設けられた絶縁基材上へ下層導体回路を含む全面に給電用導電性薄膜層を設けた後、全面にメッキレジスト層を形成して、接続する下層導体回路上にポストをメッキ形成する為の開口をレジスト層に形成した状態で電解溶液中にて該基材を陽極接続し電圧を印加することでポスト形成される部分の給電用導電性薄膜層全部及び下層導体回路の一部を溶解除去処理し金属メッキ液中にて該開口部内に電解メッキ析出させることでポストを形成する。 (もっと読む)


【課題】 導電性突起を用いて層間接続を行う回路基板において、微細回路パターンの形成、さらには厚膜回路パターンおよび微細回路パターンの両者を同一基板上に形成することができる回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】 第1の導電性金属層1を有するコア基板5を用意する。第2の導電性金属層の一方の面にバリアメタル層2が設けられ、かつこのバリアメタル層の露出面に導電性突起3が設けられた回路素板4を用意する。コア基板の少なくとも一方の面に、絶縁樹脂層6を介して回路素板を導電性突起が第1の導電性金属層に当接するように積層し、第2の導電性金属層を除去してバリアメタル層を露出させ、バリアメタル層の露出面にメッキレジスト7を塗布し、バリアメタル層を給電層として電解メッキによりバリアメタル層上に回路を形成し、メッキレジストを除去し、バリアメタル層を除去して回路基板を形成する。コア基板は、他の導電性金属に替えてもよい。 (もっと読む)


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