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Fターム[5E346CC54]の内容

Fターム[5E346CC54]に分類される特許

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【課題】反りを低減可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】本配線基板は、複数の配線層と、同一組成の絶縁性樹脂から構成された複数の絶縁層とが交互に積層され、各絶縁層は、同一組成のフィラーを含有し、前記各絶縁層の前記フィラーの含有量は、何れも30vol%以上65vol%以下の範囲にあり、前記各絶縁層の熱膨張係数は、何れも12ppm/℃以上35ppm/℃以下の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】多層配線が簡易な方法によって低コストで形成される電子装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第1配線層30の上に、絶縁層22の上に金属層32aが積層された積層膜CFを形成する工程と、積層膜CFの上に開口部23aが設けられたレジスト23を形成する工程と、レジスト23の開口部23aを通して金属層32aをエッチングすることにより金属層32aに開口部32xを形成する工程と、ウェットブラスト法により、金属層32aの開口部32xを通して絶縁層22をエッチングすることにより、第1配線層30に到達するビアホールVHを形成する工程と、ビアホールVHに導電性ペースト40又ははんだからなるビア導体を形成することにより、第1配線層30と第2配線層32となる金属層32aとをビア導体で接続する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】感光性フィルムで構成された絶縁層に露光及び現像工程によりチップ内臓のためのキャビティーが形成される埋め込み印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は埋め込み印刷回路基板及びその製造方法に関するものであって、キャビティーが形成された絶縁層;前記キャビティーに実装されたチップ;及び前記絶縁層上に形成された回路層;を含んで、前記絶縁層は光感応性モノマー及び光開始剤を含む感光性組成物で形成されて、絶縁層のみ選択的にキャビティーを形成することができるため、埋め込み印刷回路基板の設計自由度を確保することができるという効果を有する。 (もっと読む)


【課題】微細な内層配線パターンであっても横倒れや剥がれが起こりにくく、樹脂絶縁層との間に十分な密着性が付与されている多層配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の多層配線基板K1は、複数の樹脂絶縁層16,17,30,31を積層してなり、基板主面32a及び基板裏面33aを有する基板本体20を備える。隣接する樹脂絶縁層16,17,30,31間には、基板本体20の面方向に沿って延びかつめっき層41,42からなる内層配線パターン28,29が挟まれるようにして配置されている。内層配線パターン28,29は、上面43及び底面44を有するとともに、上面43側にて接する樹脂絶縁層30,31及び底面45側にて接する樹脂絶縁層16,17の両方に対して埋まっている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子を搭載する配線基板において、コア用の絶縁板に形成されたスルーホール直上にビルドアップ用のビアホール形成ができ、コア用の配線導体においてもその幅や間隔を20μm以下とした高密度な微細配線を有し、かつ厚みが140μm以下のコア用の絶縁板を使用可能な薄型の配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】スルーホール7を有するコア用の絶縁板1のスルーホール7内壁のみにスルーホール7と同軸の貫通孔を有するように第1のめっき導体層13を被着させ、次に貫通孔内および絶縁板1の上下面に、貫通孔内を充填するとともにコア用の絶縁板1の上下面において配線導体4を形成する第2のめっき導体層14を被着する。 (もっと読む)


【課題】 高い容量を備える電子部品を提供する。
【解決手段】 Siコンデンサ10では、下部電極42と誘電体層44と上部電極46とから成るコンデンサ部40が、Si基板20に形成されたトレンチ30の壁面上に形成されているめ、下部電極42−誘電体層44−上部電極46の面積を広げることができ、高い容量を得ることができる。また、トレンチ30の内部に樹脂充填材52が充填されているため、トレンチ30の側壁で生じる応力を可撓性の有る樹脂充填材52で吸収することができ、凹部(トレンチ)を狭い間隔で設け容量の増大を図っても、トレンチ30の側壁へクラックが入ることが無い。 (もっと読む)


【課題】回路基板とその製造方法、及び半導体装置において、回路基板の信頼性を高めること。
【解決手段】コア基材20に貫通孔20aを形成する工程と、導電ピン11の外周側面に、発泡剤が添加された樹脂15を塗布する工程と、樹脂15を塗布した後、貫通孔20aに導電ピン11を挿入する工程と、導電ピン11を挿入した後、樹脂15を加熱して発泡させる工程とを有する回路基板の製造方法による。 (もっと読む)


【課題】樹脂絶縁層におけるクラックの発生を防止して信頼性の高い多層配線基板を提供すること。
【解決手段】配線積層部30の上面31側の樹脂絶縁層24には複数の開口部35,36が形成され、下面32側の樹脂絶縁層20には複数の開口部37が形成される。各開口部35,36,37に対応して複数の接続端子41,42,45が配置される。接続端子41,42の端子外面41a,42aの外周部は樹脂絶縁層24により被覆され、接続端子45の端子外面45aの外周部は樹脂絶縁層20により被覆される。第2主面側接続端子45は端子外面45aの中央部に凹部45bを有し、その凹部45bの最深部は端子外面45aの外周部よりも内層側に位置する。 (もっと読む)


【課題】接続端子の密着強度を十分に高めることができ、信頼性の高い多層配線基板を提供する。
【解決手段】多層配線基板10において、配線積層部30の上面31には、ICチップ接続端子41及びコンデンサ接続端子42が形成され、下面32側には、母基板接続端子45が形成されている。配線積層部30の下面32側の樹脂絶縁層21には複数の開口部37が形成される。母基板接続端子45は、開口部37内に埋設されかつ端子外面45aが樹脂絶縁層21の表面21aよりも内層側に位置している。 (もっと読む)


【課題】製造工程を減らし、生産品の信頼性を高めることのできる回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】2つの金属層102の周縁を接合して、密封エリアを形成する。密封エリアを貫通する少なくとも1つのスルーホールを形成する。2つの絶縁層112を2つの金属層の上に形成する。2つの導電層122を2つの絶縁層の上に形成する。2つの絶縁層および2つの導電層を2つの金属層の上にラミネートして、互いに接合された2つの金属層を2つの絶縁層の中に埋め込み、且つ2つの絶縁層をスルーホール内に充填する。2つの金属層の密封エリアを分離して、それぞれ分離された2つの回路基板を形成する。このようにして、後続のパターン化プロセスおよび電気めっきプロセス等において、比較的薄い基材を操作することができる。また、この製造方法により、奇数層または偶数層の基板を製造することが可能である。 (もっと読む)


【課題】フィルドビア構造を有し、表面平滑性および接続信頼性に優れるビルドアップ多層プリント配線板を提供すること。
【解決手段】導体回路と層間樹脂絶縁層とを交互に積層して多層プリント配線板を製造する方法において、層間樹脂絶縁層にバイアホール用の開口部を形成する工程と、前記層間樹脂絶縁層の表面および開口部の内壁表面に無電解めっき膜を形成する工程と、前記バイアホールと前記導体回路とを形成するためのめっきレジストを前記無電解めっき膜上に形成する工程と、前記めっきレジストの開口部に電解めっき膜を形成することで、前記無電解めっき膜によって囲まれた開口内部に電解めっきを充填して表面が平坦な前記バイアホールを形成すると同時にそのバイアホールのバイアホール径の1/2未満の厚さの前記導体回路を形成するとともに、前記バイアホールの表面とそのバイアホールと同じ層に位置する前記導体回路の表面とを同一の高さに形成する工程と、を具える多層プリント配線板の製造方法。 (もっと読む)


フレキシブル多層基板の金属層構造及びその製造方法を提供する。該金属層構造は、第1金属層(300)及び誘電層(308)を含み、該第1金属層(300)は本体(302)及び組み込みベース(304)から構成される。該本体(302)は、組み込みベースの上方に位置し、かつ組み込みベース(304)の底面積は本体(302)の底面積より大きい。誘電層(308)が第1金属層(300)の本体(302)及び組み込みベース(304)に被覆された後、第1金属層(300)の位置にビアホールを形成して、第1金属層(300)の本体(302)と誘電層(308)上の第2金属層(310)とが接合されるようにする。本体(302)及び組み込みベース(304)は一体成形され、かつ同時に形成することができる。該金属層構造をフレキシブル多層基板のパッド、又は金属回路として使用される場合、金属層と誘電層との間の分離現象を防止し、かつフレキシブル多層基板は高い信頼性を備える。
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【課題】ビアホール内を良好に充填するとともに上面が平坦な配線導体を有する配線基板を提供すること。
【解決手段】下層配線導体2を有する下層絶縁樹脂層1上に、上層絶縁樹脂層3を積層し、次に上層絶縁樹脂層3にビアホール4を形成し、次に上層絶縁樹脂層3上およびビアホール4内の全面にわたり電解めっきのための下地導体層5aを被着し、次に下地導体層5aの表面に、上層配線導体5に対応する形状の開口パターン7を有するめっきレジスト層6を形成し、次に開口パター7内の下地導体層5a上に、開口パターン7内を上層配線導体5を超える高さで充填する電解めっき導体層5bを被着し、次に開口パターン7内の電解めっき導体層5bを、電解めっき導体層5bの上面が平坦になるようにエッチングして厚みを減らし、次にめっきレジスト6を除去した後、電解めっき導体層5bから露出する下地導体層5aをエッチング除去する。 (もっと読む)


【課題】背合わせ分離面の配線形成まで寸法安定性を維持しながら加工することができ、高い作業効率を確保することのできる配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、2枚の基板を背合わせにして1枚の基板とする工程A、前記1枚の基板の両面に配線形成を行う工程B、前記配線面に2つの支持体をそれぞれ積層する工程C、前記支持体に固定されたまま2枚の基板を分離する工程Dを有することを特徴とする配線板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】基板の反りを抑え、薄型化が可能なコア基板を備えない多層配線基板を提供する。
【解決手段】中央配線層20、配線層21、22、23、24を含む配線層は、ビア25を介して電気的に接続され、中央配線層20の一方の側のビア25と、他方の側のビア25とが、中央配線層20に向かう側が幅狭の台形状の断面形状となる対称向きに形成され、中央配線層20の一方の側に半導体素子搭載面が形成され、中央配線層20の一方の側の絶縁層31、33では他方の側の絶縁層32、34よりビア数が多く形成される。
【選択図】図1
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【課題】モバイル機器の小型、薄型、軽量、高精細、多機能化等を実現するためには、スタックビア構造やパッドオンビア構造による小型化が必要であったが、従来の配線基板では、電解銅めっきやクイックエッチング工程を有するため、工数削減や低コスト化に限界があった。
【解決手段】ブライドビア側面へ、フィラーもしくは有機繊維の一部を露出させ、この露出部にPdと、このPdを無電解めっきの反応触媒として形成した、銅、ニッケル、金、銀、白金、コバルト、錫の内、少なくとも一つ以上からなる粒子状の粒状析出体を設け、この粒状析出体でブラインドビアが充填されている配線基板とすることで、スタックビア構造やパッドオンビア構造による小型化が可能であり、かつ電解銅めっき及びクイックエッチング工程を省いて工程数を削減し、安価でかつ配線剥がれの無く、配線厚みが均一なプリント配線基板を提供する。 (もっと読む)


【課題】熱変動等に起因した反りの発生を抑制することのできる配線板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】配線板が、基板(絶縁層11)と、基板の表面又は内部に形成される第1導体パターンと、第1導体パターン(導体パターン22)と同一の層に所定の間隔をもって配置される複数のパッド(第1パッド31、第2パッド32)と、複数のパッドの各々に配置された導電性の接合層33と、電極を有する電子部品50と、を備える。電子部品50は、基板の内部に配置される。電子部品50の電極(バンプ50a)と複数のパッドとは接合層33を介して互いに電気的に接続される。複数のパッドの各々の高さは、少なくともそれらパッドの周辺に配置された第1導体パターンの高さよりも高い。少なくとも複数のパッド及び第1導体パターンが形成された層には、接合層33に関する保護材(ソルダーレジスト)が形成されない。 (もっと読む)


【課題】半導体素子等を内蔵した配線基板を製造するにあたり、工程の簡素化を図り、配線の微細化を実現するとともに、より一層の高密度実装を比較的簡単に実現すること。
【解決手段】基板40Aの電極パッド41上に突起部を有するバンプ43を形成し、シート状の部材51を絶縁層44に圧着して突起部43bの一部を絶縁層44の上面に露出させたものを個片化して電子部品40を得る。さらに、この電子部品40を第2の絶縁層内に再配置して再配線を行う。さらに、絶縁層44を覆う第3の絶縁層(半硬化状態)を形成後、上記再配線を介して突起部43bに接続される導体が形成された第1の構造体と、これと同様の工程を経て作製された第2の構造体とを重ね合わせ、第3の絶縁層を熱硬化させて一体化したものに対し、さらに再配線を行う。 (もっと読む)


【課題】 ビアホールを介した下層の配線導体層と上層の配線導体層との電気的な接続信頼性が高い配線基板を提供すること。
【解決手段】 下層の配線導体2が形成された下層の絶縁層1上に、上層の絶縁層3を積層し、次に上層の絶縁層3にビアホール4を形成し、次にビアホール4内を含む上層の絶縁層3表面をデスミア処理し、次にビアホール4底面に露出する下層の配線導体2の表面を、下層の配線導体2とビアホール4周辺の上層の絶縁層3下面との間に空隙部Vが形成されるようにソフトエッチングし、次に上層の絶縁層3の表面およびビアホール4内にクリーナーコンディショナー処理をし、次に上層の絶縁層3の表面に無電解めっき用の触媒を吸着させ、次に上層の絶縁層3の表面に無電解めっき層5を被着させ、次に無電解めっき層5の表面に電解めっき層7を被着させる工程を含む配線基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】チップ部品との接続信頼性に優れた面接続端子を有する多層配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の多層配線基板11は、導体層51及び樹脂絶縁層43〜46を交互に積層して多層化した積層構造体40を有する。チップ部品21の端子22を面接続するための複数の面接続端子30が積層構造体40の主面41上に形成されている。複数の面接続端子30に接続する複数のビア導体57が樹脂絶縁層46に形成されている。複数の面接続端子30は、銅層31、ニッケル層32及び金層33をこの順序で積層した構造を有する。金層33は、少なくとも銅層31よりも大径である。金層33は、銅層31の外周部から基板面方向に延びる張出部33aを有している。 (もっと読む)


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