説明

Fターム[5E346DD17]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 各層形成の方法 (10,210) | 導体層形成の方法 (4,026) | 気相 (344) | スパッタリング (196)

Fターム[5E346DD17]に分類される特許

181 - 196 / 196


【課題】 高精度、高機能で薄型化され、パッケージの小型化、低価格を図るようにする。
【解決手段】 有機ベース基板5に多層配線を行い最上層を平坦化してビルドアップ形成面3としたベース基板部2と、ビルドアップ形成面3上に薄膜技術や厚膜技術により絶縁層31,33を介して受動素子を有する多層の配線層32,34を形成した高周波回路部4とからなる。高周波回路部4の内層側配線層31に高周波用インダクタ素子37が成膜形成されるとともに内層側配線層31よりも層厚に形成される表層側配線層34に低周波用インダクタ素子38が成膜形成される。 (もっと読む)


【課題】工程数及び製造コストの削減及び信頼性に優れたインダクタ内蔵のプリント配線板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】両面に所定の回路パターンが形成された2層のプリント配線板からなる基材10上の所定位置に縦2mm、横50μm、深さ40μmの溝12を100μmピッチで複数個設ける。溝12及び絶縁層12a上に薄膜導体層を形成し、薄膜導体層上に開口部22を有する5μm厚のレジストパターン21を形成する。レジストパターン21をめっきマスクにして電解銅めっきを行い、開口部22に5μm厚の導体層31を形成し、レジストパターン21を剥離し、レジストパターン下部にあった薄膜導体層をソフトエッチで除去し、導体配線31aを形成し、さらに、低い位置に形成された導体配線31a上に磁性含有層を有するインダクタ部20aを形成し、インダクタ内蔵のプリント配線板100を得る。 (もっと読む)


【課題】 信号配線用導体層で高周波信号が高速伝送され、また半導体素子に対する電源ノイズの発生を抑え、さらにノイズ除去用のチップコンデンサの搭載を不要として小型低背化すること。
【解決手段】 信号配線用導体層3eはその信号伝送方向に垂直な断面でその上下左右に第2の導体層3gと接地導体層3cと接地用導体層3hとが配設された略同軸構造とされ、電源供給用導体層3fは内部コンデンサ用の電極部3faを有し、電極部3faと接地導体層3cおよび第2の導体層3gとが内部コンデンサを形成するとともに電極部3fa直下の第1の樹脂絶縁層2aと直上の第2の樹脂絶縁層2bの少なくとも一方の厚みが同じ樹脂絶縁層の他の部分の1/3〜2/3となっている。 (もっと読む)


【課題】上下伝送線路間の結合容量の変動を抑制するとともに、自己共振周波数の劣化を押さえる高周波伝送線路を提供することにある。
【解決手段】伝送線路導体6と、伝送線路導体6と接続され、かつ少なくとも一部が伝送線路導体6に対向した伝送線路導体7とが誘電体層2を介して積層されるとともに、伝送線路導体6と伝送線路導体7とが対向する領域の線路幅が互いに異なっている高周波伝送線路において、線路幅が広い伝送線路導体7の伝送線路導体6と対向する領域に切り欠き部10e〜10gを形成した。 (もっと読む)


【課題】 高精度、高機能で薄型化され、パッケージの小型化、低価格を図るようにする。
【解決手段】 耐熱特性や高周波特性を有する有機基材により成形したコア基材5の第1の主面5a上にパターン配線層6を形成するとともに最上層に平坦化処理を施して高周波素子層形成面3を形成してなるベース基板部2と、高周波素子層形成面3上に、薄膜技術或いは厚膜技術によって形成され、誘電絶縁層30を介してベース基板部2側から電源或いは信号の供給を受ける抵抗体27、キャパシタ26からなる受動素子を層内に構成した高周波素子層部4とからなる。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、低誘電率、低吸水率、低熱膨張率、導体や絶縁膜相互の高密着性、優れた膜強度や破断伸び率、半導体デバイス実装における応力にも耐え、信頼性を有し、高速、高密度実装に最適な高密度実装用配線基板を提供する。
【解決手段】高密度実装用配線基板用のベース基材の上に少なくとも1層の層間絶縁膜と導体配線パターンを形成し、前記絶縁膜の少なくとも1層がポリベンゾオキサゾール膜からなり、前記ポリベンゾオキサゾール膜と導体配線パターンの間にTi、Ti系化合物およびNiの少なくとも1種類からなる接着層を設ける。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減できるプリント配線板及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 プリント配線板10内にチップコンデンサ20Aを配置するため、ICチップ90とチップコンデンサ20Aとの距離が短くなり、ループインダクタンスを低減することができる。また、厚いコア基板30内にチップコンデンサ20A、チップ抵抗20B、チップコイル20Cを収容するためプリント配線板を厚くすることがない。コア基板30内にチップ抵抗20B、チップコイル20Cを収容するため、プリント配線板の高集積化を実現できる。 (もっと読む)


【課題】 直交させた平行配線群を有する多層配線基板において、クロストークノイズとともにEMIノイズを低減させる。
【解決手段】 第1の平行配線群L1を有する第1の絶縁層上に、第1の平行配線群L1と直交する第2の平行配線群L2を有する第2の絶縁層を積層し、第1および第2の平行配線群L1・L2を貫通導体群Tで電気的に接続して成る積層配線体を具備して成り、各平行配線群L1・L2中の各電源配線P1は、各絶縁層周辺側の端部を、隣接する接地配線G1の各絶縁層周辺側の端部よりも内側に位置させている多層配線基板である。電源配線P1および接地配線G1の端部における高周波電流のいわゆる縁飾りの発生を抑制して、多層配線基板の周辺部で発生し放射されるEMIノイズを低減することができる。 (もっと読む)


【課題】 直交させた平行配線群を有する多層配線基板において、クロストークノイズとともにEMIノイズの影響を低減させる。
【解決手段】 第1の絶縁層(I3)に形成され、所定の各区分領域においてそれぞれ交点側に向かう第1の平行配線群L1と、第1の絶縁層(I3)に積層された第2の絶縁層(I4)に形成され、各区分領域においてそれぞれ第1の平行配線群L1と直交する第2の平行配線群L2と、それらを電気的に接続する貫通導体群Tとから成る積層配線体を具備して成り、第1の平行配線群L1は各区分領域においてそれぞれ接地配線G1を有するとともに第1の絶縁層(I3)の外周部に形成した環状接地配線GRにより取り囲まれており、かつ環状接地配線GRに接地配線G1が電気的に接続されている多層配線基板である。環状接地配線GRにより、また第2の平行配線群L2によりEMIノイズの影響を低減することができる。 (もっと読む)


【課題】 大量の電流を通すことができ、なおかつ、高周波特性を高めたプリント配線板及びプリント配線板の製造方法を提案する。
【解決手段】 層間樹脂絶縁層40に、相対的に大きなビア60を形成し、層間樹脂絶縁層140に、1のビア60と接続された複数個の相対的に小さなビア160を配設している。これにより、大量の電流を通すことが可能となる。また、インダクタンス分を並列接続したと同様な効果を得れるため、配線の高周波数特性が高まり、ICチップの誤動作を防止することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 直交させた平行配線群を有する多層配線基板において、クロストークノイズの発生しない差動回路を構成できるペア配線を設ける。
【解決手段】 第1の平行配線群L1を有する第1の絶縁層I1上に、第1の平行配線群L1と直交する第2の平行配線群L2を有する第2の絶縁層I3と、第2の平行配線群L2と直交する第3の平行配線群L3を有する第3の絶縁層I3とを積層して貫通導体群Tで接続した積層配線体を具備して成り、第1・第2の平行配線群L1・L2は互いに隣接する2本の信号配線から成り、貫通導体で接続された信号配線対SP1・SP2とこれに隣接する電源配線P1・P2または接地配線G1・G2とを有し、第3の平行配線群L3は信号配線対SP1に対向する2本の電源配線P3および/または接地配線P3を有する多層配線基板である。ペア配線による良好な特性の差動回路を構成できる。 (もっと読む)


【課題】 接地線及び電源線の高周波特性を改善しICチップの誤動作を防止させ得る多層プリント配線板及び該多層プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 外周部の大径スルーホール36Bを信号線とする。中央部の小径スルーホール36Aを電源線及び接地線とすることで、多数の電源線及び接地線を配設できるとともに、ICチップ90からドータボード94までの配線長を短縮できる。このため、ICチップへの電源線及び接地線のインダクタンス分が低減し、ICチップの誤動作を防止することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 スルーホールの配設密度を高め得ると共に、厚みを薄くできる多層プリント配線板及び該多層プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 コア基板30に形成されたスルーホール36は、第1電解めっき層24と、無電解めっき膜26と、第2電解めっき層28とからなる。スルーホール36をめっき充填により形成するため、コア基板30の強度が高まり、反りが発生し難くなる。このため、コア基板を薄く形成でき、多層プリント配線板の放熱性を高めることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 多層配線基板において、信号遅延やクロストークノイズの発生、電源ラインの電位の変動等を抑制するのに十分なデカップリング効果を奏し、搭載する半導体素子(チップ)の動作信頼性の向上に寄与することを目的とする。
【解決手段】 電源用の配線パターン22bとグランド用の配線パターン25bとの間に挟まれている部分の樹脂層23を、厚さが10μm以下で、且つ誘電率が20以上の無機フィラーが配合された有機樹脂からなる高誘電体層によって形成すると共に、信号用の配線パターン15,27と電源用の配線パターン22b又はグランド用の配線パターン25bとの間に挟まれている部分の樹脂層16,26、及び信号用の配線パターン27,29,31間に挟まれている部分の樹脂層28,30を、厚さが10μmよりも厚く、且つ高誘電体層23よりも低い誘電率を有する有機樹脂からなる低誘電体層によって形成する。 (もっと読む)


【課題】 コア基板を貫通して形成する導通部を高密度に形成することができ、放熱性、電気的特性に優れた多層配線基板を提供する。
【解決手段】 コア基板の両面または片面に配線パターン34、36が形成され、コア基板を貫通させて形成された導体部に前記配線パターンが電気的に接続された多層配線基板において、前記コア基板が、めっきにより形成されたビア柱26と導体コア部28とからなる導体部と、該ビア柱26と導体コア部28を電気的に絶縁する絶縁体部20とから成る。コア基板に配線パターンを形成した後、導体基板10を除去することによって多層配線基板が得られる。 (もっと読む)


【課題】 研磨などの歩留りを低下させる工程を用いることなく、多層配線構造の充填層と配線層との接続の信頼性を向上させる。
【解決手段】 下部配線層103a上に自己整合的にメッキ膜107を形成する。このメッキ膜107は、電界メッキ法によりCu膜をメッキすることで形成する。このメッキ膜107の形成により、下部配線層103aの開口部104はそのメッキ膜107により埋め込まれる。そして、下部配線層103aと充填層106とが、開口部104に埋め込まれたメッキ膜107により接続する。 (もっと読む)


181 - 196 / 196