説明

Fターム[5E346DD24]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 各層形成の方法 (10,210) | 導体層形成の方法 (4,026) | メッキ (1,757) | 電解メッキ (312)

Fターム[5E346DD24]に分類される特許

121 - 140 / 312


【課題】ハロゲン物質を使用せずに優れた難燃性と、鉛フリー化に対応可能な高いはんだ耐熱性を有し、熱膨張率が低く、導体層と層間絶縁層の接着強度が高い層間絶縁層用接着フィルム及び多層プリント配線板の提供。
【解決手段】特定構造の変性ビスマレイミド化合物(a)、エポキシ樹脂(b)、非ハロゲン系難燃剤(c)および架橋ゴム粒子(d)を含有する樹脂成分(A)と無機充填材(B)を含む樹脂組成物から形成された層間絶縁層用接着フィルムおよび該接着フィルムを用いて製造された絶縁樹脂層を有する多層プリント配線板。 (もっと読む)


【課題】回路の損傷なしに、特定面にだけ凹凸を有する回路パターンを樹脂絶縁層内に転写して埋め込めるための回路転写用キャリア部材、これを用いたコアレスプリント基板、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】キャリア層の一面に、バリア層と、外側上端にだけ凹凸が形成されている回路パターンとを有するように構成された回路転写用キャリア部材を利用して回路パターンを樹脂絶縁層に転写して埋め込めることで、高密度、高信頼度のコアレスプリント基板を製作する。 (もっと読む)


【課題】コスト増を招かず、内蔵される部品の放熱性を向上することができる部品内蔵配線板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】第1の絶縁層と、第1の絶縁層に対して積層状に位置する第2の絶縁層と、第2の絶縁層に埋設された、半導体チップを有する電子部品と、第2の絶縁層にさらに埋設された、電子部品の半導体チップの端面から離間して対向する表面を有する熱伝導体と、第1の絶縁層と第2の絶縁層とに挟まれて設けられた、電子部品用の実装用ランドと熱伝導体の固定用ランドとを含む配線パターンと、電子部品と配線パターンの実装用ランドとの間に挟設された、該電子部品と該実装用ランドとを電気的、機械的に接続する導電部材と、熱伝導体と配線パターンの固定用ランドとの間に挟設された、該熱伝導体と該固定用ランドとを熱的、機械的に接続する導熱部材とを具備する。 (もっと読む)


【課題】熱的安定性、機械的強度などに優れ、かつ既存の基板製造工程を用いながらも高い剥離強度を有してメッキ層との密着力に優れた印刷回路基板を製造できる、剥離強度が強化された印刷回路基板用難燃性樹脂組成物、これを用いた印刷回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による印刷回路基板用難燃性樹脂組成物は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、およびリン系エポキシ樹脂を含む複合エポキシ樹脂と、硬化剤と、硬化促進剤と、炭酸カルシウム系無機充填剤と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ビアホールにおいても、金属膜と絶縁層との良好な密着性を得る。
【解決手段】金属膜付き基板の製造方法が、第1の絶縁層31を準備することと、第1の絶縁層31の第1面に第1の導体回路21を形成することと、第1の絶縁層31の第1面と第1の導体回路21上に、第2の絶縁層32を形成することと、第1面から第1の導体回路21に向かってテーパーしている貫通孔(ビアホール41)を第2の絶縁層32に形成することと、重合開始剤及び重合性化合物を含む組成物を貫通孔の内壁に形成することと、組成物にエネルギーを照射することにより貫通孔の内壁にグラフトポリマー411を形成することと、グラフトポリマー411にめっき用の触媒412を付与することと、貫通孔の内壁に無電解めっき膜413を形成することと、を含む。第1の絶縁層31の第1面と第2の絶縁層32の第2面は対向している。 (もっと読む)


【課題】突起状導体の強度を十分に確保することができ信頼性の高い電子部品を提供すること。
【解決手段】セラミックコンデンサにおけるコンデンサ主面上には、メタライズ金属層151の表面に銅めっき層152を形成してなる複数の外部電極111,112が配置されている。外部電極111,112上に突設された突起状導体50は、銅めっき層152と同じ銅からなり、突起状導体50を構成する銅粒子157の最大粒径が、銅めっき層152を構成する銅粒子156の最大粒径よりも大きくなっている。 (もっと読む)


【課題】 複数層のビルドアップ配線導体を常に正常に形成することが可能な配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】 配線基板用のパネル1における捨て代領域3に形成した給電用接続導体4上の第1層目の下地めっき層上に電解めっき用の給電端子5を密着させる位置と、給電用接続導体4上の第2層目の下地めっき層上に電解めっき用の給電端子5を密着させる位置とを互いに異ならせる。給電用接続導体4の第2層目の下地めっき層上に電解めっき用の給電端子5を接続させる際に、給電端子5が接続される部位における給電用接続導体4が薄いものとなることがなく、その結果、第2層目の電解めっき層を所定の厚みで安定して形成することができる。 (もっと読む)


【課題】反りの発生を防止して、奇数の導電層を生産性の高い手法で積層、形成する上で有利な多層配線基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】第一の絶縁層101aと、第一の絶縁層101aの厚さ方向の一方の面に形成された第一の導体層100aとを有する第一の基材を用意する。第二の絶縁層101bと、第二の絶縁層101bの厚さ方向の一方の面に形成された第二の導体層100bとを有する第二の基材を用意する。第三の絶縁層101cと、第三の絶縁層101cの厚さ方向の一方の面に形成された第三の導体層100cとを有する第三の基材とを用意する。第一の基材の第一の導体層100aの上に薄膜接着層103を介して第二の絶縁層101bを接着して第二の基材を積層する。第一の基材の第一の絶縁層101aの下に薄膜接着層103を介して第三の絶縁層101cを接着して第三の基材を積層する。 (もっと読む)


【課題】熱変動等に起因した反りの発生を抑制することのできる配線板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】配線板が、基板(絶縁層11)と、基板の表面又は内部に形成される第1導体パターンと、第1導体パターン(導体パターン22)と同一の層に所定の間隔をもって配置される複数のパッド(第1パッド31、第2パッド32)と、複数のパッドの各々に配置された導電性の接合層33と、電極を有する電子部品50と、を備える。電子部品50は、基板の内部に配置される。電子部品50の電極(バンプ50a)と複数のパッドとは接合層33を介して互いに電気的に接続される。複数のパッドの各々の高さは、少なくともそれらパッドの周辺に配置された第1導体パターンの高さよりも高い。少なくとも複数のパッド及び第1導体パターンが形成された層には、接合層33に関する保護材(ソルダーレジスト)が形成されない。 (もっと読む)


【課題】半導体素子等を内蔵した配線基板を製造するにあたり、工程の簡素化を図り、配線の微細化を実現するとともに、より一層の高密度実装を比較的簡単に実現すること。
【解決手段】基板40Aの電極パッド41上に突起部を有するバンプ43を形成し、シート状の部材51を絶縁層44に圧着して突起部43bの一部を絶縁層44の上面に露出させたものを個片化して電子部品40を得る。さらに、この電子部品40を第2の絶縁層内に再配置して再配線を行う。さらに、絶縁層44を覆う第3の絶縁層(半硬化状態)を形成後、上記再配線を介して突起部43bに接続される導体が形成された第1の構造体と、これと同様の工程を経て作製された第2の構造体とを重ね合わせ、第3の絶縁層を熱硬化させて一体化したものに対し、さらに再配線を行う。 (もっと読む)


【課題】導電層が絶縁層を介して積層された多層配線基板において、導電層と絶縁層の密着強度を高め、歩留まりを向上させる製造方法を提供する。
【解決手段】第1配線パターン12a上に感光性ポリイミド前駆体を用いて、ポリイミド絶縁層13を形成し、このポリイミド絶縁層13上にフォトリソグラフィーにて、図1(3)に示すようにコンタクトホール14を形成する。次に、酸素プラズマ処理をおこなった後、0.95%(重量百分率)の酸性フッ化アンモンNHF・HF(NH4F・HF=1:1)水溶液に20秒浸漬する。 (もっと読む)


【課題】低コストでPOP(パッケージ・オン・パッケージ)接続を容易に行えるようにし、その接続信頼性の向上を図ること。
【解決手段】配線基板(パッケージ)10は、複数の配線層が絶縁層を介在させて積層され、各絶縁層に形成されたビアを介して層間接続された構造を有している。この基板の一方の面側の最外層の絶縁層12の、チップ搭載エリアの周囲の領域には、当該絶縁層12の一部分を突出させて成形された当該部分の表面を覆ってバンプ状に形成されたパッドP2が配置され、チップ搭載エリア内には、その表面が当該絶縁層12から露出するパッドP1が配置されている。そして、このパッケージ10のパッドP1にチップ31がフリップチップ接続され、その周囲のバンプ状のパッドP2に他のパッケージ40が接続されている(POP接続)。 (もっと読む)


【課題】プリント回路基板(PCB)又はフレキシブルプリント回路基板(FPCB)を直接印刷により作製する方法を提供する。
【解決手段】1)導電性粒子、バインダ−としてポリアミド酸、及び溶媒を含むペ−スト組成物で、基板にパタ−ンを印刷するステップ、2)上記プリント回路基板を焼成して、ポリアミド酸をイミド化するステップ、3)上記プリント回路基板を電気メッキするステップ、を備える。また、上記方法で作製したプリント回路基板(PCB)又はフレキシブルプリント回路基板(FPCB)を提供する。
【効果】製造工程を簡素化し、時間や費用を節約し、廃棄物を最小限にしながら、直接印刷のアディション法を適用して、プリント回路基板(PCB)又はフレキシブルプリント回路基板(FPCB)を作製できる。 (もっと読む)


【課題】無電解銅めっきとの高接着力を示す半導体パッケージの高密度化に対応可能な絶配線板用絶縁樹脂材料並びにそれを用いた多層配線板を提供する。
【解決手段】(a)絶縁樹脂層と、厚みが1〜10μmの(b)接着補助層とからなる配線板用絶縁樹脂材料であって、前記(b)接着補助層を形成するための接着補助層用樹脂組成物が、(A)多官能型エポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、(C)平均一次粒径1μm以下の架橋有機フィラーを含有し、前記(C)架橋有機フィラーの含有量が20質量%以上である、配線板用絶縁樹脂材料。 (もっと読む)


【課題】信頼性の向上を実現し得る回路基板及びその製造方法並びに半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の配線層24,32,40,48,56と絶縁層18H,26H,34L,42L,50H,58Hとが交互に積層された積層体10を有し、積層体のうちの一方の面側の部分である第1の部分12内の絶縁層50H,58Hの弾性率、及び、積層体のうちの他方の面側の部分である第2の部分14内の絶縁層18H,26Hの弾性率は、第1の部分と第2の部分との間の第3の部分16内の絶縁層34L,42Lの弾性率より高い。 (もっと読む)


【課題】超音波を利用して付着フィルム及び絶縁材を硬化することで、チップのシフトの発生をなくし、製造工程時間を短縮させる電子部品内蔵型プリント基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電子部品支持部100の上部に、下面に付着フィルム500が塗布された電子部品300を配置し、電子部品300及び電子部品支持部100の上部に絶縁材900を塗布した後、前記付着フィルム500及び絶縁材900を同時に超音波硬化し、前記電子部品300を前記電子部品支持部100に固定する。 (もっと読む)


【課題】穴部内の配線層上に形成された金属層の厚みの差が小さい配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板(1)は、穴部(4)が形成された絶縁基板(2)と、穴部(4)の内壁面に形成された配線用の導体層(3)と、導体層(3)上に形成された金属層(5)とを有する。金属層(5)は、厚みが0.1〜1.0μmの電解めっき層(5a)と、電解めっき層(5a)上に形成された、該電解めっき層(5a)と同一の材料を含む無電解めっき層(5b)とを備える。 (もっと読む)


【課題】安定生産が可能で、且つ、発生する廃棄物量が少ないコアレスビルドアップ法による多層プリント配線板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】この目的達成のため、支持基板作成工程(ベース銅箔2Bの有機防錆剤皮膜3を備える面と絶縁層構成材4とを張り合わせて支持基板5を製造。)、ビルドアップ配線層形成工程(支持基板の前記ベース銅箔の表面にビルドアップ配線層を設け、ビルドアップ配線層付支持基板を製造。)、ビルドアップ配線層付支持基板分離工程(ビルドアップ配線層付支持基板の支持基材のベース銅箔と絶縁層とで分離して、多層銅張積層板を製造。)、多層プリント配線板形成工程(多層銅張積層板に配線形成し、多層プリント配線板を得る。)を含む製造方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】配線の形成において信頼性が高い狭ピッチの配線巾と間隙を形成でき、また、微細な層間接続機能を形成するためのプリント配線板の製造方法を提供することを課題としている。該プリント配線板の製造方法を用いたプリント配線板を提供することを課題としている。
【解決手段】配線部以外への無電解めっきと配線部の電解めっきのエッチングが必要なくなるため、より精度の高く細い配線の形成が可能となる。また、配線以外の部分への無電解めっきを行わず、配線間の間隙に金属や触媒の残渣が残らない工程であるため、配線と間隙の巾を小さくした際の信頼性が向上し、さらに層間接続部を任意のパターンの開口部によって行うことができるため、従来のレーザーとめっきの組み合わせによるビアホールに比べ、より微細な層間接続配線を可能にするプリント配線板の製造方法を提供できる。前記のプリント配線板の製造方法を用いたプリント配線板を提供できる。 (もっと読む)


【課題】高容量でかつ絶縁抵抗が確保されたコンデンサ装置を製造することのできるコンデンサ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】積層された複数のコンデンサ350a、350b、350cから構成されるコンデンサ積層体450に貫通孔470P、470Gを形成する貫通孔形成工程と、貫通孔形成工程の後、貫通孔470P、470Gに、乾式のデスミア処理を施すデスミア工程と、デスミア工程の後、貫通孔470P、470Gに、乾式法によりシードメタルを形成するシードメタル形成工程と、を備える。 (もっと読む)


121 - 140 / 312