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Fターム[5E346GG28]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 製造・加工・処理手段 (12,987) | 製造工程・製造装置 (12,564) | 積層加工工程 (2,663)

Fターム[5E346GG28]に分類される特許

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【課題】差動伝送路の差動インピーダンスの連続性を確保しつつ差動伝送路のレイアウトの自由度を向上させることが可能な配線回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ベース絶縁層10の上面に一対の伝送線路20a,20bからなる差動伝送路20が形成されている。ベース絶縁層10の下面に接地導体層40が形成されている。接地導体層40はベース絶縁層10を挟んで差動伝送路20に対向する。差動伝送路20の一部における伝送線路20a,20bの間隔Sは、差動伝送路20の他の部分における伝送線路20a,20bの間隔Sよりも小さい。差動伝送路20の一部に重なる接地導体層40の部分の厚みt42は、差動伝送路20の他の部分に重なる接地導体層40の部分の厚みt40よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】表面平滑性に優れ、かつ、信頼性に優れた積層板を安定的に生産する。
【解決手段】片面または両面に回路形成面103を有するコア層102の前記回路形成面103に、加熱加圧下、熱硬化性樹脂により形成されたビルドアップ用プリプレグ200をラミネートして積層体を得るラミネート工程と、ラミネートしたビルドアップ用プリプレグ200の表面を平滑化する第一平滑化工程とを連続的におこない、その後、ビルドアップ用プリプレグ200の表面をさらに平滑化する第二平滑化工程とをおこなう。 (もっと読む)


【課題】内部の部品の配置密度をさらに向上できる部品内蔵基板を提供すること。
【解決手段】第1の面と該第1の面に対向する第2の面とを有する板状絶縁層と、棒状の形状を有して該棒状の形状の少なくとも両端面がそれぞれ電極面とされた構造を備え、両端面のうちの一方の端面が第1の面に対向しかつ両端面のうちの他方の端面が第2の面に対向するように、板状絶縁層の厚み方向の内部に配置された部品と、板状絶縁層の第1の面上に設けられた第1の配線パターンと、第1の配線パターンと部品の一方の端面の側の電極面とを電気的に接続する第1の接続部材と、板状絶縁層の第2の面上に設けられた第2の配線パターンと、板状絶縁層の厚み方向の一部を貫通して、第2の配線パターンと部品の他方の端面の側の電極面とを電気的に接続する第2の接続部材とを具備する。 (もっと読む)


【課題】ガラス板を含む基板本体の両面に形成された配線層同士を容易に導通可能な配線基板、前記配線基板と電気的に接続された半導体チップを有する半導体装置、及び前記半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本半導体装置は、配線基板と、前記配線基板と電気的に接続された半導体チップと、を備え、前記配線基板は、一方の面から他方の面に貫通する開口部を有するガラス板と、前記開口部内に形成された樹脂部と、前記樹脂部を前記一方の面側から前記他方の面側に貫通し、前記一方の面側に形成された配線層と前記他方の面側に形成された配線層とを電気的に接続する貫通配線と、を有する。 (もっと読む)


【課題】低い線膨張率および高い耐熱性を有するとともに、金属層との密着性に優れる樹脂組成物およびこれを用いたプリプレグ、積層板、樹脂シート、プリント配線板、半導体装置を提供すること。
【解決手段】樹脂組成物は、少なくとも2つのマレイミド骨格を有するマレイミド化合物と、少なくとも2つのアミノ基を有するとともに芳香族環構造を有する芳香族ジアミン化合物と、前記マレイミド化合物と前記芳香族ジアミン化合物との反応を促す、塩基性基およびフェノール性水酸基を有する触媒と、シリカとを有している。また、前記触媒は、前記塩基性基として、トリアジン骨格、アニリン骨格およびメラミン骨格のうちの1つを有している。 (もっと読む)


【課題】部分スルーホール形成に有用なめっきレジスト用樹脂組成物およびこの組成物を用いてスルーホールが分割された部分スルーホールを有する多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】層間絶縁層と導体層とが交互に積層されてなる多層プリント配線板の層間絶縁層の一部として用いられるめっきレジスト用樹脂組成物であって、樹脂固形分に対して30〜90質量%の酸化チタンを含むことを特徴とするめっきレジスト用樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】絶縁層表面の平坦性を向上可能な配線基板、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本配線基板は、無機材料からなる基板本体と、前記基板本体の一方の面側に開口する第1の溝と、前記基板本体の他方の面側に開口する第2の溝と、前記基板本体を前記一方の面側から前記他方の面側に貫通する貫通孔と、前記第1の溝を充填する第1のプレーン層と、前記第2の溝を充填する第2のプレーン層と、前記貫通孔を充填する貫通配線と、を有し、前記第1のプレーン層は基準電位層であり、前記第2のプレーン層は電源層である。 (もっと読む)


【課題】硬化後の硬化物の熱による寸法変化を小さくすることができ、更に硬化物の耐熱性を高めることができるエポキシ樹脂材料及び該エポキシ樹脂材料を用いた多層基板を提供する。
【解決手段】本発明に係るエポキシ樹脂材料は、下記式(1)で表されるエポキシ樹脂と、上記エポキシ樹脂のエポキシ基と反応可能な官能基を2つ以上有する硬化剤とを含む。下記式(1)中、Xはカルボニル基又はスルホニル基を表す。本発明に係る多層基板11は、回路基板12と、回路基板12の回路が形成された表面12a上に配置された硬化物層13〜16とを備える。硬化物層13〜16は、上記エポキシ樹脂材料を硬化させることにより形成されている。
【化1】
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【課題】内蔵の電気/電子部品周りに樹脂が満たされており、かつ、機械的、電気的な信頼性を向上できる部品内蔵配線板の製造方法およびその部品内蔵配線板を提供すること。
【解決手段】第1の絶縁層上に設けられた配線パターン上に電気/電子部品を電気的、機械的に接続し、第2の絶縁層を介して第1の絶縁層上に積層されるべき、補強材を含有した第3の絶縁層の電気/電子部品に対応する位置に開口を形成し、この第3の絶縁層上に第2の絶縁層とすべき、補強材を含有したプリプレグを積層し、この積層後の配線板素材が有するプリプレグの、第3の絶縁層の開口に重なる位置の補強材に切れ目を形成し、第1の絶縁層の配線パターンが存在する側の面上に、電気/電子部品に対応して開口および切れ目が位置するように配線板素材を、プリプレグの側を第1の絶縁層に対向させて配置し、さらに配線板素材の第3の絶縁層上に第4の絶縁層を配置し、積層、一体化する。 (もっと読む)


【課題】凹部の周囲の上面の電極の傾きを低減できる配線基板の製造方法および配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板の製造方法は、第1のセラミックグリーンシート1および第2のセラミックグリーンシート2を準備する工程と、低収縮部材3を設ける工程と、第1のセラミックグリーンシート1の上面に、第2のセラミックグリーンシート2を積層して積層体7を作製する工程と、積層体7を焼成する工程とを具備する。第1のセラミックグリーンシート1は第1の貫通孔1aを、第2のセラミックグリーンシート2は第1の貫通孔1aより小さな第2の貫通孔2aを有する。低収縮部材3は第1のセラミックグリーンシート1より焼成収縮率が小さく、第1の貫通孔1aに設けられる。積層体7は、第1のセラミックグリーンシート1の上面に、第1の貫通孔1aと第2の貫通孔2aとが重なるよう、第2のセラミックグリーンシート2を積層して作製される。 (もっと読む)


【課題】クラックの発生を抑制してパッドの密着強度を高め、製品としての信頼性の向上を図り、ひいてはマザーボード等との接続信頼性の向上に寄与すること。
【解決手段】配線基板10は、パッド11Pと、パッド11Pを覆い、その表面からパッド11Pの表面が露出し、その裏面にパッド11Pの裏面が露出する開口部VH1が設けられた最外層の絶縁層12と、開口部VH1内に形成されたビアと、絶縁層12の裏面に形成され、ビア13に接続された配線層13とを備え、パッド11Pは絶縁層12に埋設されて、パッド11Pの側面及び裏面が絶縁層12に接している。このパッド11Pは、第1の金属層21と、第1の金属層21上に設けられた第2の金属層22と、第2の金属層22上に設けられ、ビア13に接続された第3の金属層23とを有し、第2の金属層22の周縁部がパッド11Pの周縁部から内側に後退している。 (もっと読む)


【課題】 電極に接続された信号貫通導体のインピーダンスが整合された配線基板を提供する。
【解決手段】 配線基板1は、絶縁基板2と、信号配線層3と、電極5と、複数の接地配線層4と、信号貫通導体6と、複数の接地貫通導体7とを備えている。複数の接地導体層4の開口部のうち少なくとも他方主面に最も近い接地配線層4の開口部4bは、平面視において電極5よりも大きい。複数の接続導体のうち第1の開口部に対応して設けられた接続導体6cは、複数の接地導体層4の開口部のうち開口部4bよりも小さい開口部4aに対応して設けられた接続導体6bよりも大きい。 (もっと読む)


【課題】可撓性を有する多層プリント配線板において、可撓性シートと回路基板の層間の導通信頼性に優れ、繰り返し折り曲げても導体の切断や多層積層部分における層間剥離の発生しない優れた多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】硬質のリジット回路基板と可撓性を有するフレキシブル基板とを一体化した多層プリント配線板であり、フレキシブル基板とリジット回路基板の段差は、両側の回路基板との間と可撓性シートまたはカバーレイ層とで囲まれる凹部の四隅に樹脂による凹凸状の補強部が形成されたことを特徴とする多層プリント配線板である。 (もっと読む)


【課題】放熱性が良好で、かつ小型で薄型のパッケージ構造およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板110の開口116に、電子デバイス120が配置され、接着剤層130上のパターン化金属層140が基板110の下表面113上にラミネートされるとともに、電子デバイス120の底表面124を露出させる。露出された底表面124上に散熱コラム150が形成され、第1ラミネート構造160が基板110の上表面111および電子デバイス120の頂表面122を被覆し、第2ラミネート構造170が散熱コラム150ならびにパターン化金属層140を被覆する。 (もっと読む)


【課題】電気的な接続不良の原因となり得るビア流れを抑制することが可能な、部品内蔵モジュール、および部品内蔵モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】導電性ペーストが充填されたビアホール402と、電子部品404が内蔵されるキャビティ403と、調整用空隙405と、を、樹脂を含むシート部材401に形成する形成ステップと、基板にシート部材401を当接させて熱プレスを行う熱プレスステップと、を備え、形成ステップにおいて形成される調整用空隙405は、電子部品404に向かう、ビアホール402近傍での熱プレス時における樹脂の流動ベクトルEaが、調整用空隙405に向かう、ビアホール402近傍での熱プレス時における樹脂の流動ベクトルEbによって打ち消されるように形成される、部品内蔵モジュールの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】従来の高周波回路基板に比べて、さらに伝送遅延および伝送損失が充分に小さいフッ素樹脂基板の製造方法を提供する。
【解決手段】表面が粗面化処理およびプライマー処理されていない配線用の金属導体とフッ素樹脂を積層して積層体を作製する積層体作製工程と、積層体に100ppm以下の酸素濃度および前記フッ素樹脂の融点以上で前記フッ素樹脂の融点+30℃未満の温度の雰囲気下、電離性放射線を50〜500kGyの照射量で照射する電離性放射線照射工程と有している高周波回路基板の製造方法。金属導体およびフッ素樹脂を交互に積層して多層化した状態で電離性放射線を照射する高周波回路基板の製造方法。金属導体の表面粗さRzが、2.0μm以下である。フッ素樹脂が、PTFE、PFA、FEP、ETFEの1種または2種以上である。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板の絶縁基板の耐熱温度よりも高い融点を有し、電子部品のはんだ付け温度に耐えることが可能な金属間化合物からなる導体回路用の回路基板の製造方法の提供を提供すること。
【解決手段】基板のビアホール内に、第1の金属からなる複数の粒子と、前記第1の金属の融点より低い融点を有する第2の金属からなる複数の粒子とを含む導電性ペーストを供給し、前記基板を加熱して、前記第1の金属と前記第2の金属との金属間化合物内に前記複数の粒子が分散した導体を形成する回路基板の製造方法であって、前記基板にはんだを使用して電子部品を搭載可能であり、前記金属間化合物の融点が前記はんだの溶融温度よりも高いことを特徴とする回路基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】配線基板と電気絶縁層を積層して一体化した多層配線基板において、電気絶縁層に形成されたビアと、配線基板に形成されたビアランド間の接続信頼性を向上させる。
【解決手段】貫通するビアホールに導電性ペーストが充填されて形成されたビア202を有する電気絶縁層201の表裏の、ビアに対応する位置に、ビアの、電気絶縁層の面方向の断面積より大きいビアランド207が形成された多層配線基板251、252が積層して一体化され、少なくとも一方の多層配線基板には、電気絶縁層に埋め込まれた電子部品が実装されている。ビアとビアランドとの間には、一部隙間205が形成されており、ビアと接触するビアランドの接触面積は、ビアの断面積の20%以上75%以下である。 (もっと読む)


【課題】基板の製造時及び製造後に基板の撓みを防止し、支持体が基板の撓みを防止するとともにソルダレジスト層の機能を有するので、別途のPSR工程が不要になる。
【解決手段】本発明の製造方法は、両面または片面の銅張積層板に回路パターン(56)を形成し、その上部にビルドアップ層(57)を積層した後、ビルドアップ層(57)の上面にソルダレジスト層(58)を形成する。これにより、ビアホール(54)を持ち、一面に、回路パターン(56)を含む第1回路層が形成され、他面に、前記ビアホール(54)上に突出したソルダボール実装用接続パッドを含む第2回路層が形成された絶縁樹脂層(50)、前記第1回路層上に形成された多数の絶縁層及び多数の回路層を含むビルドアップ層(57)、及び前記ビルドアップ層(57)の最外層に形成されたソルダレジスト層(58)を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、接合材料を微細ピッチで供給し電気的な接続が可能な電子部材を提供することを目的とする。
【解決手段】回路基板に設けられた一つ以上の接続端子に対して、電子部材に設けられた一つ以上の電極が接合層を介して電気的に接合され、前記接合層は焼結銀を主体として構成され、前記接合層と接していない電極表面の全面あるいは一部が酸化銀の粗化層であり、当該酸化銀の粗化層の厚さは400nm以上5μm以下であり、前記酸化銀の層の最表面は1μmより小さい曲率半径となっていることを特徴とする電子部品。 (もっと読む)


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