【課題】簡易な構成により、密閉性を有し、かつ、基板面内のエッチング量のばらつきを低減させるウェットエッチング装置およびウェットエッチング方法を提供する。
【解決手段】ウェットエッチング装置１は、内部に基板を収容可能であり、エッチングのための薬液を貯留する処理槽２と、処理槽２内に対して半導体基板６を搬送する搬送アーム３ａ・３ｂとを備えている。そして、搬送アーム３ａ・３ｂは、半導体基板６を保持するためのハンドリング部を有しており、上記ハンドリング部が半導体基板６を保持した状態で、半導体基板６を回転させる。 （もっと読む）

【課題】 処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置で、搬送系において磨耗カスが発生しても、磨耗カスによる品質面での悪影響を少なくすることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】 ローディングチャンバーおよびまたはアンローディングチャンバーに、ローディングのための、あるいはアンローディングのための排気機構、給気機構とは別に、排気あるいは給気の際に、粉塵が巻き上がるのを防止するために、ローディングチャンバーの下部およびまたはアンローディングチャンバーの下部に、排気口を配して、該排気口から、粉塵が巻き上がるのを抑えるように真空引きを行う真空引き部を備えている。 （もっと読む）

【課題】搬送部内を所定の圧力に調整しつつ、搬送部内のパーティクルを効率よく排出できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１の第１搬送部１０の上部には、ファンフィルタユニットが設けられており、第１搬送部１０の底部には、スリットダンパ１９が設けられている。このため、ファンフィルタユニットからの給気と、スリットダンパ１９からの排気とによって、第１搬送部１０内は所定の圧力に調整される。また、スリットダンパ１９は、第１搬送部の底部の周縁部分に配置されている。このため、第１搬送部１０の周縁部分に気体が滞留するようなことはなく、第１搬送部１０内のパーティクルを効率よく外部へ排出できる。 （もっと読む）

【課題】ロード室内における処理に要する時間が短縮された基板予熱方法及び真空処理システムを提供する。
【解決手段】共通搬送室と、外部から基板が搬入されると大気圧下から高真空排気雰囲気下まで減圧され、高真空排気雰囲気下の状態で基板を前記共通搬送室内へ受け渡すロード室と、前記ロード室内に設けられ、搬入された基板を加熱するＩＲヒータと、前記ロード室を減圧する真空ポンプ部と、前記真空ポンプ部及び前記ＩＲヒータの動作を制御する制御装置と、を具備し、前記真空ポンプ部は、前記ロード室内を大気圧から所定の第１圧力までの減圧を行う粗引きラインと、前記第１圧力の雰囲気下から前記第１圧力よりも更に低い第２圧力までの減圧を行う高真空排気ラインと、を有し前記制御装置は、前記ロード室内の減圧を行うラインを前記粗引きラインから前記高真空排気ラインへ切り換える以前に、前記ＩＲヒータの加熱を開始とする。 （もっと読む）

【課題】基板を搬送する駆動ローラが設けられる駆動軸の組付けを容易に行なえるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】チャンバ１２と、チャンバに基板の搬送方向及び搬送方向と交差する上下方向に沿って設けられ上記基板の傾斜方向の下側の面を支持する回転可能な複数の支持ローラ１４と、基板の搬送方向に沿って所定間隔で設けられ所定の角度で傾斜した基板の下端を支持する複数の駆動ローラ１７と、駆動ローラを回転駆動して支持ローラに支持された基板を所定方向に搬送する駆動機構１８を具備し、
駆動機構は、チャンバに取付けられるベース部材２１と、ベース部材に所定間隔で回転可能に支持されチャンバ内に突出した先端に駆動ローラが着脱可能に設けられる複数の駆動軸２７と、駆動軸のチャンバの外部に位置する後端に設けられ駆動源５４からの動力を駆動軸に伝達して駆動軸を回転させる第１の歯車２８とによって構成されている。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内で基板を搬送する搬送軸を、炭素繊維を用いて形成した場合、搬送軸のコスト上昇を抑制できるようにした基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】チャンバ１と、チャンバ内に供給された基板を所定方向に搬送する搬送機構２を具備し、
搬送機構は、チャンバ内に設けられ炭素繊維を用いて形成されるとともに、軸線方向の長さがチャンバ内の上記基板の搬送方向と交差する方向の寸法に比べて短く形成され基板を支持して搬送する搬送軸３と、回転駆動される第１の連結軸１６を有し、第１の連結軸をチャンバの内部に突出させてチャンバの外部に設けられ第１の連結軸のチャンバ内に突出させた端部が搬送軸の一端に連結される駆動ユニット１１と、搬送軸の他端を回転可能に支持した支持ユニット１２とによって構成されている。 （もっと読む）

【課題】ワークを次工程の処理装置に搬送するために前工程の処理装置の前で待機する搬送装置の待機効率を向上させ、ひいてはシステム全体のスループット（処理能力）を向上させることができるワーク枚葉搬送システムを提供する。
【解決手段】ワーク７を一連の処理工程に従ってそれぞれ処理する複数のワーク処理装置３ａ〜３ｎに、ワーク７を枚葉搬送するために隣り合うワーク処理装置３ａ〜３ｎ間をそれぞれ往復する複数のシャトル１１ａ〜１１ｎと、このシャトル１１ａ〜１１ｎに搭載され、これらシャトル１１ａ〜１１ｎとワーク処理装置３ａ〜３ｎとの間でワークを移載する移載装置と、を具備している。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の半導体ウエーハ等の平板状物の全面にわたってウオーターマークやステインを残さず、清浄な状態で乾燥させることができる平板状物の乾燥システム及び乾燥方法を提供する。
【解決手段】平板状物を純水でリンスした後に該ウエーハを乾燥させるためのシステムであって、少なくとも、平板状物Ｗを立てた状態で該平板状物の周辺部を支持し、該平板状物を純水でリンスするための水槽３と、前記純水から出た平板状物に対して上方からクリーンエアを吹き付けるための給気ダクト４と、前記クリーンエアが吹き付けられた前記平板状物の周辺部を把持し、前記水槽から前記平板状物を搬出するためのロボットハンド５と、前記ロボットハンドで把持された前記平板状物と接触することなく、該平板状物の下部を吸引乾燥するための乾燥ステージ６とを備えたものであることを特徴とする平板状物の乾燥システム１。 （もっと読む）

【課題】処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置で、搬送系において強磁性体材料からなる磨耗カスが発生しても、磨耗カスによる品質面での悪影響を無くすことができる成膜装置を提供する。
【解決手段】搬送系における磨耗カス発生箇所近辺に、該磨耗カス発生箇所において発生した強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気により吸着して、磨耗カスの発生箇所からの分散を防止するための、第１の磨耗カス吸着部１０を備えているもので、該第１の磨耗カス吸着部１０は、磁性体材料からなる吸着用材１１に接してマグネット１２を配して、該吸着用材１１に磁気を帯びさせたものである。 （もっと読む）

【課題】一括処理するバッチを構成する基板の配列順序を変更できる基板処理装置及びバッチ編成装置並びにその方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】基板処理部７と、基板処理部７で一括処理するバッチを編成するバッチ編成部とを有する基板処理装置１において、各キャリア３に収容された複数枚の基板２を搬送する基板搬送機構１４と、基板搬送機構１４によって搬送された基板２の配列間隔を変更してバッチを形成するバッチ形成機構１５と、基板搬送機構１４によって搬送された基板２の配列順序を変更する配列順序変更機構１６とを有し、キャリア３に収容された複数枚の基板２を基板搬送機構１４によって配列順序変更機構１６に搬送し、基板２の配列順序を変更した後にバッチ形成機構１５に搬送し、このバッチ形成機構１５によって基板２の配列間隔を変更してバッチを編成する。 （もっと読む）

【課題】 処理基板とターゲットとを、平行に対向させ、且つ、処理基板を、ターゲットに対して上側、水平もしくは鉛直方向から斜めに傾けた状態として処理する場合において、処理基板の自重により、ソリが発生し、これが原因で、成膜される膜品質にばらつきが発生するという問題を、解決できる方法を採り入れたインラインスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 処理基板の成膜する側の面とターゲットとを、平行に対向させ、且つ、処理基板側をターゲットに対して上側として、水平もしくは鉛直方向から斜めに傾けて配しているもので、前記キャリアには、搭載された処理基板のスパッタ処理面側でない裏面側から、裏面の少なくとも一部を、静電吸着により吸着して、裏面側に引っ張る静電吸着部を設けている。 （もっと読む）

【課題】台車と接触するガイドローラ部材において、表面硬化処理が施されて耐摩耗性を向上させることができるとともに、表面硬化処理が施されていても仕上げ加工時間を少なくさせることのできるガイドローラ装置を提供する。
【解決手段】ワークを保持する台車Ｗを真空中で搬送するためのガイドローラ装置である。支軸部材１と、この支軸部材１に外嵌している転がり軸受２，３と、この転がり軸受２，３に外嵌しており表面硬化処理が施されている筒状のガイドローラ部材４とを備えている。ガイドローラ部材４の内周面４ａは凹凸面１９とされており、この凹凸面１９は、底部が機械加工されずに表面硬化処理面のままとされている凹部と、研削加工によって平滑とされている平滑面部とを有している。内周面４ａは転がり軸受２，３との嵌め合い精度を確保するために研削加工されるが、これにより研削加工部を少なくできる。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに反りを生じることがないように搬送できるようにすることを目的とする。
【解決手段】少なくとも前面側が透明な一対の基板を基板間に複数の放電セルを形成して対向配置した平板形状のプラズマディスプレイパネル１０５の搬送方法において、一対の基板の両面に平行に配した平板（底面１０２及び上蓋１０７）に延伸剥離式の複数の短冊形状の接着材１０４により粘着させて搬送する方法であり、プラズマディスプレイパネル１０５を縦方向に配置して搬送する。 （もっと読む）

【課題】環境に配慮してガラス基板間での紙の使用を廃止しかつ効率良くガラス基板を搬送できるガラス基板搬送用梱包構造を提供する。
【解決手段】ガラス基板搬送用梱包構造１は、ベース部材１０と、ベース部材１０上に立設された支持部材２０と、支持部材２０に支持されるガラス基板積層体３０と、ガラス基板積層体３０を支持部材２０に対して固定する固定部材５０とを備えている。ガラス基板積層体３０では、隣接するガラス基板３１同士間に水溶性のパウダー３２を介在させている。これにより、従来のような合紙や保護紙の使用を廃止することができ、環境悪化を防ぐと共にガラス基板３１の搬送コストを低減できる。また、各ガラス基板３１同士間の間隔を小さくできるので、ベース部材１０にガラス基板３１を載置できる枚数が増えて搬送効率を向上できる。 （もっと読む）

【課題】 ２６インチ以上の大形表示装置用基板を複数枚集積梱包して輸送するときの梱包手間を省くと共に、梱包資材の節約を図ってコストを減少させ、梱包出荷作業の省力化・効率化を達成できる表示装置用基板の出荷方法を提案する。
【解決手段】 薄形表示装置用基板が水平状態で載置されると共に、載置された該表示装置用基板をトレイ底から浮かせた状態で工程間を搬送するトレイを使用して、トレイの上面開口部にトレイ蓋を設置して前記トレイの段部とトレイ蓋とで前記基板を挟持する。
パレット付きコンテナを使用して、前記搬送トレイが該コンテナ内に横置されるようにトレイを所定枚数積層して投入する。次に、コンテナ内に投入した前記搬送トレイが縦置き状態になるように該コンテナを９０度反転させる。反転させたコンテナの開口部を閉じ、前記搬送トレイの積層体を該コンテナを介して一括輸送または保管する。 （もっと読む）

【課題】 搬送経路１６，１８に存在する全ての基板を同時に搬送することが可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】 被処理基板を縦型保持するキャリア３０と、キャリア３０の第１搬送経路１６および第２搬送経路１８と、搬送経路１６，１８に沿って配設された、前記キャリア３０の上部を非接触支持する支持装置４５と、第１搬送経路１６から第２搬送経路１８にキャリア３０を移載するため、キャリア３０を昇降させる昇降装置４０とを備え、前記支持装置４５は、昇降装置４０に同期して昇降可能とされている構成とした。 （もっと読む）

【課題】 搬送用ガイドローラ６０の破損を防止することが可能な、搬送装置を提供する。
【解決手段】 被処理基板を縦型支持するキャリア３０と、キャリア３０の第１搬送経路１６および第２搬送経路１８と、搬送経路１６，１８に沿ってキャリア３０を案内する搬送用ガイドローラ６０と、第１搬送経路１６から第２搬送経路１８へとキャリア３０を移載する際に、キャリア３０を第２搬送経路１８上に案内する昇降用ガイドローラ７０とを備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】設置スペースが少なくてすむばかりか、基板の供給と搬出とを同じ箇所で行なうことができる処理装置を提供することにある。
【解決手段】装置本体１と、装置本体に設けられ基板を所定の角度で傾斜させて搬送する搬送ローラと、搬送ローラによって搬送される基板を処理する処理部３と、装置本体の上部に設けられ基板を水平な状態で、傾斜させて搬送する搬送方向と逆方向に搬送する上部搬送部４と、装置本体の少なくとも一端に設けられ上部搬送部によって水平に搬送された基板を受けると、この基板を下降させると同時に所定の角度に傾斜させて搬送ローラに受け渡す傾斜受け渡しユニット６１とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 搬送効率、加工効率の向上、搬送時間の短縮及び設備コストの低減を図ることができる半導体ウェハ等の搬送システムを提供すること。
【解決手段】 本発明は、複数の各種加工装置Ａ〜Ｈ、Ｒに対してウェハキャリアＷＣの加工装置間搬送を行う搬送システム１０において、所定の基数の加工装置に対して加工装置間搬送を行うよう構成された複数の基本搬送モジュールＭと、相互に隣接する基本搬送モジュール間でウェハの搬送を中継する中継プラットホームＴＰとを備える。また、このシステムでは、各基本搬送モジュールは、対応の加工装置に沿って配置された単一の搬送路１４と、この搬送路により案内され正逆両方向に移動可能である単一の搬送機１６とを有する。この構成により、搬送機間の渋滞、衝突の恐れなしに、ループやバイパス搬送路を設けることなくスキップ前進・逆進搬送を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 複数のワークを効率良く処理し、先に収納されたワークの滞留時間を低減させる。
【解決手段】 ワークである基板Ｗを収納する基板収納装置１は、基板Ｗを搬入された順番に上から収納する第一基板カセット１０と、第一基板カセット１０に収納された基板Ｗを下から順番に搬出する搬出コンベア３と、搬出コンベア３で搬送される基板Ｗを上から順番に収納する第二基板カセット２０とを有している。第一基板カセット１０から第二基板カセット２０に基板Ｗが移載される際に、基板Ｗの配置順番が逆転するので、第二基板カセット２０から基板Ｗを搬出するときには、最初に搬入された基板Ｗから搬出される。 （もっと読む）