【課題】基板トレイの揺れ、さらには発塵を抑えて、安定した高速搬送を可能とする基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板トレイ２３が取り付けられたキャリア２０と、キャリアの搬送機構１２と、キャリアの上部を非接触に案内するキャリアの案内機構とからなり、案内機構を、前記キャリアの上部に搬送路に沿って取り付けられた第１の磁石列２２と、この上方又は下方に、搬送路に沿って真空室１０に取り付けられ第２の磁石列１４とで構成したことを特徴とする。さらに、第１の磁石列及び第２の磁石列を搬送方向に垂直な方向に所定の間隔を開け複数列配置し、対向する磁石列間で吸引力が働き、隣り向かいの磁石列間では反発力が働くように、磁石を配置する。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエハの熱処理を一枚ずつ順次開始することができる提供する。
【解決手段】 半導体ウエハの熱処理装置は、管状の加熱炉と、その加熱炉内を伸びる複数の搬送シャフトと、複数の搬送シャフトをそれぞれ回転させるアクチュエータを備えている。管状の加熱炉は、半導体ウエハを搬入可能な搬入口から、半導体ウエハを搬出可能な搬出口まで伸びている。複数の搬送シャフトは、搬入口から加熱炉内を通って搬出口まで伸びているとともに、半導体ウエハの外周縁に当接可能な位置関係で配設されている。各々の搬送シャフトには、軸方向に沿って螺旋状に伸びるとともに、半導体ウエハの外周縁を受入可能な螺旋溝が形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板の振動や変形を抑制しつつ基板を高速度で搬送する。
【解決手段】基板ハンドリングシステム１は、ガラス基板Ｇを搬送するための搬送路２０を備え、搬送路２０は、エアの吹出及び吸引によって搬送路２０上でガラス基板Ｇを浮上保持する基板浮上装置２５と、ガラス基板Ｇを保持し当該ガラス基板Ｇを移動させる駆動機構２４と、を有しており、ガラス基板Ｇを浮上保持しながら搬送方向Ｘに搬送する。この基板ハンドリングシステム１では、ガラス基板Ｇを高速度で搬送しても、ガラス基板Ｇの主面が傷付くのを確実に抑制できると共に、高い保持剛性によって、ガラス基板Ｇの振動を抑制し且つガラス基板Ｇに変形があってもこれを搬送路２０に倣った状態にすることができる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク等の基板を搬送し、基板処理を施して大量に生産する基板処理システムのスループット及び生産性の向上のため、各処理チャンバにおける処理時間（タクトタイム）を短縮する。
【解決手段】基板搬送装置は、ゲートバルブを介して連結されたチャンバと、前記ゲートバルブを開状態にして前記チャンバ間でキャリアを搬送路に沿って搬送する搬送機構と、前記キャリアが前記チャンバの停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサと、前記センサからの検知信号に基づき前記ゲートバルブの閉動作を開始するよう制御する制御器とを有する。 （もっと読む）

【課題】 基板回収動作を高速化する。
【解決手段】 基板搬送装置は、基板10を搭載する基板保持手段11と、前記基板保持手段に基板を吸着保持させるための吸着手段15と、前記基板保持手段11から基板を外すための加圧手段16と、前記基板保持手段を駆動する駆動手段19と、前記吸着手段15と前記加圧手段16と前記駆動手段19とを制御し前記基板保持手段11から前記基板10を滑らせて移動させる制御手段12と、前記基板保持手段から滑って移動する基板を回収する基板回収手段32と、移動する基板位置を規制する規制手段17と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スイッチを作動させるためのセンサ用磁石が設けられた揺動部材を確実に揺動させることができるようにした検出装置提供することにある。
【解決手段】装置本体を構成するブラケット２２及び支持部材２５と、装置本体に中途部が揺動可能に支持された揺動部材２７と、揺動部材の一端部に設けられ搬送される基板が当たることで揺動部材を中立位置から揺動位置に揺動させる検知ローラ３１と、揺動部材の他端部に対向して設けられ磁界の変化に応じて信号を出力するリードスイッチ３８と、揺動部材の他端部に設けられ揺動部材とともに揺動することでリードスイッチに与える磁界を変化させるセンサ用磁石３３と、揺動部材の他端部の揺動方向の一方と他方の少なくともどちらかに対向して設けられ上記揺動部材が揺動したときにセンサ用磁石との間で揺動部材を中立位置に戻す磁気反発力を発生する反発用磁石を具備する。 （もっと読む）

【課題】例え基板の撓み量が大きい場合でも、容器本体の大型化や基板の破損を抑制することができ、しかも、基板の位置ずれを防いで円滑に取り出すことのできる基板収納容器、クランプハンド、及び基板の取り出し方法を提供する。
【解決手段】複数枚の丸く薄い半導体ウェーハ１を整列収納する容器本体１０を正面が開口したフロントオープンボックスに形成してその内底面には半導体ウェーハ１の周縁部２の下方を縦に支持する第一の支持ブロック１６を設け、容器本体１０の背面壁２４内面には、半導体ウェーハ１の周縁部２の上部後方を縦に支持する第二の支持ブロック２３を設ける。容器本体１０内に半導体ウェーハ１が起立して支持されるので、例え半導体ウェーハ１が撓み量の大きいφ４５０ｍｍタイプの場合でも、半導体ウェーハ１の撓みを防ぎ、容器本体１０の大型化を防止してスペースの有効利用を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】 複数の半導体ウエハを均一に熱処理する技術を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハの熱処理装置は、管状の加熱炉と、加熱炉内で半導体ウエハを搬送する搬送手段を備えている。管状の加熱炉は、半導体ウエハを搬入可能な搬入口から半導体ウエハを搬出可能な搬出口まで伸びている。搬送手段は、前記搬入口から前記加熱炉内を通って前記搬出口まで、複数の半導体ウエハを順次搬送する。この熱処理装置にでは、半導体ウエハが搬入口から搬出口まで加熱炉内を搬送され、各々の半導体が特定の位置のみに留まることがないので、加熱炉内の温度分布が均一でなくとも、全ての半導体ウエハに同じ熱履歴を与えることができる。 （もっと読む）

【課題】基板移送装置を提供する。
【解決手段】地面に対して平行に配される基板の少なくとも一領域を把持して、基板を強制に移送させる把持移送ユニットと、把持移送ユニットに隣接して配されて、基板を移送可能に支持する補助移送ユニットと、を含むことを特徴とする基板移送装置。本発明によれば、ノイズ発生及びパーティクルの発生を減らし、従来より効率的な構造で製作することができ、また基板に対する高速移送が可能である。 （もっと読む）

【課題】無電解メッキ法により形成された各パンプにおいて、丈を所望の高さに維持させること、丈を一定化させること、および、電極パッドとの密着性を向上させることができるメッキ処理装置を実現する。
【解決手段】無電解メッキ装置６０は、半導体ウエハ１の回路形成面２０が、水平方向よりも上方を向くように、ウエハキャリア１１を傾斜させた姿勢で保持する角度可変チャック９と、角度可変チャック９より保持されているウエハキャリア１１の、浮上、沈降、および搬送を行う搬送アーム１０と、を備え、角度可変チャック９による、ウエハキャリア１１の傾斜角度θは、２０°以上かつ４０°以下となる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を所定の載置位置に高精度に位置決めする事が可能なキャリア、およびこれを備えた基板搬送装置を提供する。
【解決手段】位置決め手段３１は、略Ｌ字状の支持部材３２と、この支持部材３２を回動させる付勢部材３３とを備えている。支持部材３２は、例えば、全体が樹脂によって形成された略Ｌ字型の部材である。この支持部材３２は、回転軸３４によってキャリアフレーム１５に回動自在に軸着されている。また、支持部材３２は、ガラス基板１１の底辺１１ｂ、および側辺１１ｃにそれぞれ当接する。こうした、支持部材３２がガラス基板１１に当接する部分は、円周面を成す形状、例えば、半円形のロール部３２ａ、３２ｂを形成しているのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】装置の占有面積を抑制しながら、基板処理速度を向上する。
【解決手段】基板処理装置１０は、基板処理部と、払出機構７０と、搬入機構７１と、プッシャ６と、主搬送機構３とを含む。基板処理部は、複数枚の基板Ｗに対して一括して処理を施す。払出機構７０は、払出チャック７３を基板移載位置Ｓと基板受け渡し位置Ｐとの間で第１横行経路１０１に沿って横行させる。搬入機構７１は、搬入チャック７４を基板移載位置Ｓと基板受け渡し位置Ｐとの間で第１横行経路１０１よりも下方の第２横行経路１０２に沿って横行させる。プッシャ６は、昇降保持部１０５を基板移載位置Ｓにおいて昇降させる。主搬送機構３は、基板受け渡し位置Ｐと前記基板処理部との間で複数枚の基板Ｗを一括して搬送する。払出チャック７３、搬入チャック７４および昇降保持部１０５は、それぞれ、複数枚の基板Ｗを一括して保持することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス板等の板状体を吊り下げ支持した状態で、搬送経路に沿って搬送する場合でも、省スペース化を図りつつ、板状体の搬送効率を可及的に向上させる。
【解決手段】ガラス板Ｇを吊り下げ支持した状態で、搬送経路に沿って搬送する板状体搬送装置１であって、搬送経路上に設けられた複数の板状体受渡エリアＸと、複数の板状体受渡エリアＸそれぞれの定位置に配置される第１支持手段２と、搬送経路上の複数箇所で隣接する板状体受渡エリアＸを相互に搬送経路に沿って往来する第２支持手段３とを備え、各々の第２支持手段３で、搬送経路の上流側の板状体受渡エリアＸに配置された第１支持手段２に吊り下げ支持されたガラス板Ｇを順次受け取って、その下流側に隣接する板状体受渡エリアＸに配置された前記第１支持手段まで搬送して引き渡すように構成されている。 （もっと読む）

【課題】加熱用浮上ステージの上で（特にステージ入口付近で）被処理基板に反りが発生するのを防止し、浮上ステージ上の基板浮上ギャップを一定に保つ。
【解決手段】プリベークユニット４８内には、基板搬送ラインに沿って、第１のコロ搬送路８０、２段縦列の浮上ステージ８２，８４および第２のコロ搬送路８６が設置されている。第１のコロ搬送路８０の後半部ないし後端部は前段ステージ８２の入口（始端）８２ａに向かって一定の傾斜角で下りる傾斜搬送路１３０に構成されている。この傾斜搬送路１３０の頂上部に自由回転可能なフリーコロ１３２(i)が基板搬送ラインと直交する方向（Ｙ方向）に複数個並べて配置されている。 （もっと読む）

【課題】搬送時間、真空ポンピング時間及び処理時間を同期させるのに時間がかかり、システム全体のスループットを低下させる。
【解決手段】真空環境への基板の搬入は、清浄な排気環境の発展につれて同時に移送する基板の数を徐々に減少さることによって達成される。カセットは清浄な大気環境内に維持され、真空環境内に浸入させない。次第に高いレベルの真空環境を導入するようにいくつかの真空ロックを直線的にスタガ配置する。この配置を経て搬送される基板の数は各カセットに存在する基板の数の一部分とする。スタガ配置の真空ロックは一連の処理チャンバにつながり、これらのチャンバ内を更に少数の基板、例えば１つ又は２つの基板が搬送される。 （もっと読む）

【課題】互いに直交した搬送経路に沿って基板を傾斜姿勢で搬送しながらより少ないスペースで効率良く基板の搬送方向を転換できるようにする。
【解決手段】姿勢変換装置２２は、支持テーブル２２１とこのテーブル２２１を揺動させる揺動機構とを含む。揺動機構は、テーブル上面が特定方向から見て傾斜しかつ当該方向に傾斜姿勢で搬送される基板Ｓを受入れる基板受入れ姿勢と、テーブル上面が特定方向と直交する方向から見て傾斜しかつテーブル上に支持した基板Ｓを当該方向に傾斜姿勢で送り出す基板受渡し姿勢とに亘って支持テーブル２２１を揺動させる。基板受渡し姿勢は、基板受入れ姿勢で受入れた基板Ｓの先頭側の辺Ｓ１を一辺として基板Ｓ上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板Ｓの先頭下位側の頂部を通る対角線と平行な軸回りに辺Ｓ１が前記直交方向と平行となる位置まで基板Ｓを回動させた姿勢とされる。 （もっと読む）

【課題 】FIMSシステムにおいてポッドの蓋等に付着する塵等のミニエンバイロンメント内への持込を抑制するFIMSシステムを提供する。
【解決手段】 FIMSシステムのポッド側開口部の対辺に隣接させて、ポッド−該開口部間の存在する空間領域に対して清浄気体を供給するガスノズルを配置する。当該ガスノズルに設けられたノズル開口は、ガスノズルの延在方向に対して垂直な平面内において少なくとも２つ配置され、且つ該位置関係を維持して延在方向にも連続的に設けられる。 （もっと読む）

【課題】基板表面への傷付きを防止するとともに、傷が付く場合においても基板の端部に限定することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】基板８を搬送する架台３１，搬送部３２と、鉛直方向から斜めに延び、上側を向いた基板受け面に基板８が配置される基板テーブル１２と、の間で基板８の受け渡しが行われる真空処理装置であって、基板テーブル１２には、基板受け面に配置された基板８を上に載せる受爪部３５が設けられ、搬送部３２には、基板８を上下方向から挟んで、基板テーブル１２よりも鉛直方向から浅い角度で保持する上側爪部３３および下側爪部３４と、基板８の受け渡し時に、下側爪部３４を下方に向かって移動させる下側駆動部３４Ｂと、基板８の受け渡し時に、上側爪部３３を基板テーブル１２に向かって移動させるとともに、上方に向かって移動させる上側駆動部と、が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】板状ワークの移送時間および移送に要するスペースの低減化を図る。
【解決手段】板状ワークの移送設備１０は、多関節を有する一連の可動アーム１３を有し、一連の可動アーム１３の先端に板状ワーク３の一面を保持取得するための保持部２３を設けた多関節ロボット１１を備え、この多関節ロボット１１により、取得位置４に供給された板状ワーク３の供給側の下面３ａを保持して、下面３ａとは反対側の上面３ｂを載置位置の載置面２６に載置するように構成される。取得位置４と載置位置とは対向配置されると共に、対向空間９の側方に多関節ロボット１１が配置される。多関節ロボット１１は、一連の可動アーム１３の旋回・屈伸運動により板状ワーク３を取得位置４から対向空間９上を通って載置位置まで移送する動作を行い、かつ、この移送動作の一部で板状ワーク３の上面３ｂを載置面２６に載置するための反転動作を兼ねるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化に伴う基板処理装置の占有面積の増大を抑制することを課題とする。
【解決手段】基板処理装置を、基板保持具、内部に第一の方向に向いた第一のガイドレールを有するロードロックチャンバー並びに第二のガイドレールを有するベース部材及び前記ベース部材が移動可能に取り付けられている、前記ベースを貫く前記第一の方向とは異なる第二の方向に延在するガイドロッドを有する中間チャンバーを有し、前記ロードロックチャンバーの前記第一のガイドレールと前記ベース部材の前記第二のガイドレールが同一直線状になった状で前記基板保持具が前記第一の方向に第一方向移動手段で移動し、前記基板保持具が前記ベース部材に載置された状態で、第二方向移動手段で前記ベース部材が前記第二の方向に移動するという構成とする。 （もっと読む）