【課題】縦向きの半導体基板を処理するモジュール式半導体基板洗浄システムを提供する。
【解決手段】このシステム１１は、メガソニックタンク式洗浄機１５および後続のスクラバ１７，１９を含むことができる複数の洗浄モジュールを特徴としている。入力モジュール１３は、横向きの基板を受け取って縦向きに回転させ、出力モジュール２３は、縦向きの基板を受け取って横向きに回転させる。各モジュール（入力、洗浄および出力）は、基板支持体２５を有し、隣接するモジュールの基板支持体が等間隔で離間するように配置されている。これらのモジュールは、複数の基板ハンドラ３３を有するオーバヘッド搬送機構３１によって連結されている。これらの基板ハンドラは、その下方にあるモジュールの基板支持体と同じ距離（Ｘ）で離間されている。 （もっと読む）

【課題】基板Ｗの搬送ラインの分岐に要する時間を短縮化して、多数の基板Ｗの浮上搬送する際における基板Ｗの搬送効率を十分に向上させること。
【解決手段】第１分岐コンベア本体６５の第１傾斜部６５ｓに複数の第１浮上ユニット８３が設けられ、第２分岐コンベア本体６７の第２傾斜部６７ｓに複数の第２浮上ユニット９５が設けられ、複数の第１浮上ユニット８３の内部における浮上ガスの圧力を、基板Ｗを浮上搬送する際の基準圧力と、この基準圧力よりも大きくかつ基板Ｗを第１分岐コンベア本体６５の第１傾斜部６５ｓ側から第２分岐コンベア本体６７の第２傾斜部６７ｓ側へ受け渡し可能な受渡圧力に切替える圧力切替手段１０１を具備したこと。 （もっと読む）

【課題】キャリアを高速で搬送することができ、なお且つ成膜室内の排気能力が高く、高真空度を短時間で容易に実現できるインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリア２５を非接触状態で駆動するリニアモータ駆動機構２０１と、キャリア２５の側面部に接触可能に設けられて、リニアモータ駆動機構２０１により駆動されるキャリア２５を水平方向にガイドする水平ガイド機構２０６と、キャリア２５の下端部に接触可能に設けられて、リニアモータ駆動機構２０１により駆動されるキャリア２５を鉛直方向にガイドする鉛直ガイド機構２０７とを備え、水平又は鉛直ガイド機構２０６，２０７は、キャリア２５の搬送方向に並ぶ複数の支軸２０９，２１１に制振部材を介して回転自在に取り付けられた複数のベアリング２１０，２１２を有し、この制振部材を介して支軸２０９，２１１とベアリング２１０，２１２との非接触状態が維持される。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】基板上に薄膜を供給するためのヘッドを開示する。ヘッドは、少なくとも基板の幅である第一および第二の端部間に延びる本体組立体を含む。本体は、第一および第二の端部間に画成された主ボアを含み、主ボアは、リザーバの上側に、主ボアとリザーバとの間の画成された複数の供給部を介して接続される。本体は、さらに、リザーバの下側に接続され、出口スロットへ延びる複数の出口を含む。複数の供給部は、複数の出口より大きな断面積を有し、複数の供給部は、複数の出口より数が少ない。 （もっと読む）

コーティングシステム１は、ロックインチャンバ３とロックアウトチャンバ４を含む。更に、コーティングシステムは、ロックインチャンバ３及びロックアウトチャンバ４に接続された第１搬送チャンバ５を含む。搬送チャンバ５内には、第１可回転搬送モジュール６が配置されている。基板ホルダー７ａ、７ｂは、ロックインチャンバ３及びロックアウトチャンバ４にそれぞれ整列して配置されるように、中心軸の周りに回転してもよい。コーティングステーション１は、第１プロセスチャンバ８と第２プロセスチャンバ９を更に含んでいる。更に、コーティングシステム１は、第３基板ホルダー１２ａ及び第４基板ホルダー１２ｂを含む第２可回転搬送モジュール１１を有する第２搬送チャンバ１０を含んでいる。第２搬送チャンバは、第３プロセスチャンバ１３及び第４プロセスチャンバ１４のみならず第１プロセスチャンバ８及び第２プロセスチャンバ９に接続される。第３プロセスチャンバ１３及び第４プロセスチャンバ１４は、第２搬送チャンバ１０において並列に、即ち、クラスタ配置のように配置される。本発明は、フォワードパスＦからリターンパスＲまで、及びその逆に、基板を移動するために構成される２つの搬送チャンバ５及び１０間において、フォワードパスＦ及びリターンパスＲ上にそれぞれ配置される２つの並列なコーティングチャンバ８及び９のサンドイッチアレンジメントによってシステムの利便性を向上させる可能性を提供する。
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【課題】搬送時のウェーハに対する物理的損傷の発生を低減することができるようにする。
【解決手段】ウェーハＷを略鉛直に立ててウェーハカセット１に収容した状態とし、ウェーハカセット１にウェーハＷを略鉛直に立てて収容した状態で、ウェーハＷの平面が搬送方向と略平行となるようにしてウェーハカセット１を搬送する。ウェーハＷが略鉛直に立てた状態とされるので、水平保持時のようなたわみの発生を低減することができる。また、ウェーハＷの平面が搬送方向と略平行となるようにしてウェーハカセット１が搬送されるので、上下移動や、水平移動や、上下の振動の加速度によるウェーハＷの平面に垂直な方向に掛かる加重を低減でき、ウェーハＷへのたわみの発生を低減できる。 （もっと読む）

【課題】 成膜時においてシャドウエリアの少ない基板ホルダーを備える成膜装置を提供すること。
【解決手段】 成膜装置の基板ホルダーは、開口部を有する導電性の基板ホルダー本体と、開口部の内周から開口部内に向けて突出して形成されており、絶縁性基板の一端部を支持するための挟持部材を備える第１の支持部材と、絶縁性基板の他の端部を支持するための狭持部材を備え、開口部内に向けて突出し、または開口部内から退避するように移動可能な第２の支持部材と、を有する。 （もっと読む）

【課題】積載台車へのガラス板の積み込み及び積み降ろし時に吸着パッドまたはこれに準じる部材の使用を不要として、積載台車へのガラス板の収納効率の向上及び作業能率の改善を図ると共に、ガラス板の品位の阻害を抑制する。
【解決手段】走行車輪１ａを有する台車１の荷台に、複数枚のガラス板Ｇを縦姿勢で並列に配列させる収納部２を備え、この収納部２に、ガラス板面方向に沿って収納部２の底面上に一列に配列され且つガラス板Ｇの下辺を支持する正逆回転可能な複数個の下辺支持ローラ６と、ガラス板Ｇの背面を立て掛け支持する複数個の背面支持ローラ１３とを、ガラス板Ｇの収納可能枚数に応じた複数の収納列２Ａの各列毎に配備すると共に、複数個の下辺支持ローラ６を、駆動源９により正逆回転駆動させるように構成する。 （もっと読む）

【課題】上段と下段との間でコンベヤを昇降させるに際して、コンベヤ上に載せられる板状ワークの昇降速度を不当に高めることなく、且つコンベヤの載置面積を不当に広くすることなく、垂直搬送装置の機構上の動作を大幅に低減または簡略化させる。
【解決手段】上段Ｆ２に設置された上側搬送コンベヤ２の端部に隣接する上側移載エリアＥ２と、下段Ｆ１に設置された下側搬送コンベヤ３の端部に隣接する下側移載エリアＥ１との間を昇降する移載コンベヤ７、８を、アーム５からなる回転支持体の外周端における少なくとも１８０度を隔てた２箇所に配設すると共に、これらの移載コンベヤ７、８は、アーム５の回転角度の変化に拘わらず板状ワークＧを平置き状態で載置可能な姿勢とされ、且つアーム５の回転が停止した時点で上側移載エリアＥ２と下側移載エリアＥ１とにそれぞれ同時に位置するように構成される。 （もっと読む）

【課題】ガラス板収納装置の収納部へのガラス板の搬入及び搬出を該ガラス板の品位低下を招くことなく行えるようにした上で、収納部へのガラス板の収納効率を向上させる。
【解決手段】ガラス板収納装置１における収納部２のガラス板面方向に隣接して、ガラス板Ｇを収納部２に搬入及び搬出する搬送部３を配設し、収納部２に、ガラス板Ｇの下辺を支持して正逆回転駆動される複数個の下辺支持ローラ６と、ガラス板Ｇの背面を立て掛け支持する複数個の背面支持ローラ１３とをガラス板Ｇの収納可能枚数に応じた複数の収納列２Ａの各列毎に配備し、搬送部３に、ガラス板Ｇの下辺を支持して正逆回転駆動される複数個の下辺支持ローラ２１と、ガラス板Ｇの背面を立て掛け支持する複数個の背面支持ローラ２７とを備えてなる搬送ユニット４を、収納部２におけるガラス板Ｇの配列方向に沿って移動可能となるように配備する。 （もっと読む）

【課題】ウルトラクリーンルームにおいて、大きくて薄いガラス板の搬送を確実に行う。
【解決手段】本発明は、大きくて薄いガラス板をスパッタシステムに供給するため、ウルトラクリーンルームにおいて該ガラス板を固定する装置及び方法に関する。本発明に係る装置は、ａ）輸送フレーム（１９）を上記装置の水平方向中央に配置させるセンタリングユニットへ輸送フレーム（１９）を搬送し、更に、その輸送フレーム（１９）をセンタリングユニットからスパッタシステムへと搬送するよう設計されたローラドライブ（１２）と、ｂ）磁性レールマウント（２）中で輸送フレーム（１９）を持ち上げる及び下降させるフレームリフト装置（７）と、ｃ）輸送フレーム（１９）を固定及び解放する固定ユニット（５、８）、及びガラス板（１８）を受け入れるフレームクリップ（１７）を開閉する開放ヘッド（３）と、ｄ）ガラス板（１８）を持ち上げて旋回させ、垂直配置とし、そのガラス板（１８）を輸送フレーム（１９）に設置するリフトユニットと、を備える。 （もっと読む）

【課題】一辺が１ｍを超える大型ガラス基板の加工後の洗浄において、大型ガラス基板の各洗浄、乾燥工程間の搬送経路が短く、広い設置スペースを必要としないコンパクトな構成の大型基板洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】薬液用スプレーノズル３１と、該ノズルの上部に配置され、上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツールを１つ以上３２、３３有し、且つ、１つ以上の上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツール３３の最上部に配置された対向する一対のシャワーノズル３４と、該ノズルの上部に配置された対向する一対のジェットノズル３５とを有する洗浄部３０と、洗浄部３０の上方に配置された対向する一対のエアーナイフ４１を具備する乾燥部４０と、大型基板９０を直立させて保持する基板保持搬送治具５０と、洗浄部３０の下方に配置された投入払出部６０とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板を正確かつ迅速に高密度で梱包することができる梱包方法を提供する。
【解決手段】梱包方法は、基板５０に吸着可能な吸着部２５を有し基板を吸着保持可能な搬送装置２０を用い、鉛直方向に沿って延びる収納領域６５へ、基板を収納する方法である。梱包方法は、基板の少なくとも一側領域に吸着部を吸着させ、基板を吸着保持する工程と、基板の反りを評価する工程と、鉛直方向に沿った上面視において基板が収納領域内へ位置するように、収納領域の上方へ基板を位置決めする工程と、基板を前記収納領域へ搬送する工程と、を備える。基板の反りは、一側領域の吸着部によって吸着された部分が鉛直方向に沿うようにして基板が保持されている状態で、評価される。 （もっと読む）

【課題】基板体の剛性を確保することができ、しかも、大掛かりな設備等の設置を要しない基板体の貼着装置及び基板体の取り扱い方法を提供する。
【解決手段】携帯可能なケース内に供給ステージ１、貼着ステージ１０、取り扱い機構３０を内蔵して供給ステージ１と貼着ステージ１０とを横一列に並べ備え、これら供給ステージ１と貼着ステージ１０の間で基板体を形成する半導体ウェーハ、基板保持具、半導体ウェーハを着脱自在に保持した基板保持具を取り扱い機構３０のハンド３２により選択的に取り扱う。剛性の基板保持具２２を使用するので、半導体ウェーハに剛性を容易に付与して各種の加工を施したり、ハンドリングしたり、搬送等することができる。 （もっと読む）

【課題】ケース内のマスクブランクを均一な固定荷重でしっかりと固定でき、しかもケースの気密性を向上させたマスクブランクの収納ケースを提供する。
【解決手段】上方が開口したケース本体５と、該ケース本体５に被せる蓋体６とを備えて、内部にマスクブランクを収納するマスクブランク収納ケースである。ここで、ケース本体５に蓋体６を被せたときの接合部の全周にわたって囲繞する固定用枠１０と固定片１１から構成される固定部材を係合させることにより、接合部の全周にわたって均一に固定荷重がかかるように蓋体５とケース本体６とを固定する。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置や基板処理装置の設計の精度に関わらず、薄膜を均一に成膜することができる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被処理面が露出するように基板Ｐを基板保持部５に保持して基板Ｐを基板処理装置５２まで搬送する基板搬送装置１において、基板保持部５を前記被処理面の略法線方向に進退可能であると共に、基板Ｐを基板処理装置５２に対して位置決め可能な基板進退機構２０を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板を垂直に立てた状態で搬送するキャリヤの軽量化を図ることができる基板搬送装置、基板搬送方法及び真空処理装置を提供すること。
【解決手段】基板搬送装置は、矩形状の枠体を有し、水平方向に沿って伸び枠体と平行な回動軸Ｌに回動可能に支持されたフレーム３７と、フレーム３７に配設され基板Ｗを吸着する複数の吸着パッド４６と、フレーム３７を水平状態と垂直状態との間で回動させる駆動部３５とを有する移載機構２２と、移載機構２２を制御する制御装置とを備えた。そして移載機構２２は、水平状態のフレーム３７にて基板Ｗを吸着させ、フレーム３７を回動させて垂直に立った状態のキャリヤ２３に基板Ｗを収容するようにした。 （もっと読む）

【課題】工場の設置スペースを削減可能な薄膜太陽電池製造システムを提供する。
【解決手段】薄膜太陽電池製造システムは、第１共通基板保管ラック４０−１と第２共通基板保管ラック４０−２と複数の処理装置１〜１６−２とを具備する。第１共通基板保管ラック４０−１と第２共通基板保管ラック４０−２は、基板を傾けて保管する。複数の処理装置１〜１６−２は、薄膜太陽電池の製造工程で基板の処理に使用され、第１共通基板保管ラック４０−１と第２共通基板保管ラック４０−２との間の領域に、基板の搬出部及び搬入部のいずれか一方が第１共通基板保管ラック４０−１に面し、他方が第２共通基板保管ラック４０−２に面するように配置されている。第１共通基板保管ラック４０−１及び第２共通基板保管ラック４０−２は、複数の処理装置１〜１６−２に共用される。 （もっと読む）

【課題】液晶表示パネルに用いられるガラス基板などの基板を薬液や純水などの処理液を供給して処理する際の各処理液の温度の差が大きいことにより基板が撓んでしまうことが抑制される基板処理方法を提供すること。
【解決手段】一定方向に搬送される基板の処理面に薬液を供給して薬液処理するに際し、隔壁で仕切られる複数の薬液処理室の各薬液処理室にて前記基板に供給される各薬液の温度を前記基板の搬送方向の上流側から下流側に向けて段階的に下げるようにした。 （もっと読む）

【課題】この発明は処理される基板を侍従による撓みが生じないように搬送することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を処理する処理装置において、
固定ステーション８と、この固定ステーションの側面に設けられ上記基板を立位状態で搬送する搬送手段１０と、上記固定ステーションの側面を上記搬送手段によって立位状態で搬送される上記基板に所定の処理を行う処理手段１７，１８，１９とを具備する。 （もっと読む）