【課題】基板上に塗布される液状体の状態を改善することが可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】所定の塗布位置において基板を立てた状態で回転させつつ前記基板の表面及び裏面にそれぞれ液状体を吐出するノズルを有する塗布機構と、前記基板を基板搬入位置、前記塗布位置及び基板搬出位置の間で搬送する搬送機構と、前記基板搬入位置、前記塗布位置及び前記基板搬出位置とは異なる位置であって前記搬送装置が接続可能な保持位置でダミー基板を保持するダミー基板保持機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減を図ることができる真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法を提供する。
【解決手段】基板搬送装置２は、基板Ｇを垂直姿勢で保持して、搬送レール６上を搬送可能なキャリア部材４を備えており、キャリア部材４に取付けられたキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８が、搬送レール側６に取付けられたレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４から水平方向の斥力を常時受けることで、キャリア部材４は左右の搬送レール６側と非接触状態で移動できる。また、レール側ガイドマグネット２１，２３を、搬送空間Ｔとプロセス空間Ｐとの境界部分に配置することでパーティクルの除去を行う。 （もっと読む）

【課題】キャリアとベアリングとの耐摩耗性を向上させることによって、生産性の更なる向上を可能としたインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリア４に保持された基板Ｗを複数のチャンバの間で順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置であって、キャリア４を非接触状態で駆動する駆動機構２０と、駆動機構２０により駆動されるキャリア４をガイドするガイド機構２１とを備え、ガイド機構２１は、キャリア４に設けられたガイドレール２９に係合された状態で、駆動機構２０により駆動されるキャリア４を鉛直方向にガイドする主ベアリング２８と、キャリア４を挟み込んだ状態で、駆動機構２０により駆動されるキャリア４を水平方向にガイドする副ベアリング３０とを有して、これらベアリング２８，３０とキャリア４との何れかの接触面に、コルモノイ系合金による耐摩耗処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】コスト高を招くことなく、搬送中のガラス基板が搬送路にある構造物などとの接触、衝突を回避することのできる基板搬送台車を提供する。
【解決手段】車輪を有する支持台、垂直に設けたスタンド、ガラス基板を載置するフォーク３０−１〜３０−４、フォーク保持部４０、フォーク保持部を回転し固定する回転機構５０で構成される基板搬送台車にて、フォーク３０の先端部Ｃに基板保護部材８０−１，８０−４が設けられている。基板保護部材は軽量材料からなり、フォークへは着脱容易に設けられている。基板保護部材は確認し易い安全色である。 （もっと読む）

【課題】 パネル受け渡し時の表示パネルの姿勢が受け渡し部の間で異なる検査装置にも適用可能にすること。
【解決手段】 表示パネルの受け渡し装置は、支持ブラケットを上下方向へ延びる第１の軸線の周りに回転可能に支持ベースに配置し、上下方向と交差する第２の方向へ伸縮可能のアームユニットを第３の方向へ延びる第２の軸線の周りに回転可能に該アームユニットの伸縮方向における一端部において支持ブラケットに支持させ、表示パネルを解除可能に保持するパネル保持装置を第３の方向へ延びる第３の軸線の周りに回転可能にアームユニットに支持させている。支持ブラケット、アームユニット及びパネル保持装置は、それぞれの駆動機構により回転され、またアームユニットは他の駆動機構により伸縮される。 （もっと読む）

【課題】縦置きのワークを取り出して搬送することができるベルヌーイチャックを提供する。
【解決手段】本発明に係るベルヌーイチャック１は、ワークＷを非接触状態で吸着保持するもので、流路部材１１の流路を開閉する開閉弁１３と、吸着保持板３１の先端側の前記吸着面３１ｄに対して出没可能に設けられて突出状態において前記ワークＷの移動を規制する可動ストッパ３６と、前記開閉弁１３の開閉および可動ストッパ３６の出没を切り替えるスイッチ機構５とを備える。スイッチ機構５は、開閉弁１３を閉じ、且つ可動ストッパ３６を埋没させる第１切替状態と、開閉弁１３を開き、且つ可動ストッパ３６を埋没させる第２切替状態と、前記開閉弁１３を開き、且つ可動ストッパ３６を突出させる第３切替状態とを切り替える。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエハが収容された状態で意図せず乾燥してしまうことを防止することが可能なウエハ搬送方法およびウエハ搬送装置を提供すること。
【解決手段】 コンベア１によって搬送されるウエハＷｆを収容カゴ３に収容する、ウエハ搬送方法であって、コンベア１によって鉛直方向と異なる方向に搬送されるウエハＷｆを、方向転換器２によってその面内方向が鉛直方向に沿い、かつ鉛直方向下方に進行するようにウエハＷｆの進行方向を転換した後に、ウエハＷｆを、液体Ｌｑ中に配置されかつ鉛直上方に開口する収容カゴ３に収容する。 （もっと読む）

【課題】基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ること。
【解決手段】第１基板処理装置３の一側に第１姿勢切替用保持具３７を備えた第１姿勢切替部材２９が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板処理装置５の一側に第２姿勢切替用保持具４９を備えた第２姿勢切替部材４１が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第１姿勢切替部材２９の一側に立設した支持フレーム５３に上下方向へ延びた無端状部材６３が循環走行可能に設けられ、無端状部材６３に複数の昇降用保持具６９が周方向に間隔を置いて設けられたこと。 （もっと読む）

【課題】ロットの追い越し配置を可能にして処理効率を向上させることができる基板処理装置のスケジュール作成方法を提供する。
【解決手段】計画開始位置ＰＳＰ１〜ＰＳＰ３から、レシピに基づいて各ブロックを配置する。基板待機部ＣＷＳを使用するブロックＢから次のブロックＣまでの間に待機時間が生じる場合には、第２のロットの計画開始位置ＰＳＰ２を時間的に後にずらした調整計画開始位置ＭＳＰ２を求める。制御部は、調整計画開始位置ＭＳＰ２を含む計画開始位置ＰＳＰ１，３の時間的に早いロットの順に、ブロックの配置を開始する。これにより、計画開始位置ＰＳＰ３のままの短時間の処理を行うレシピを採用した第３のロットを、調整計画開始位置ＭＳＰ２の第２のロットよりも時間的に前に配置してスケジュールする追い越しができ、基板処理装置における処理効率を向上できる。 （もっと読む）

【課題】製膜される膜の膜質を安定させることができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】内部で製膜処理が行われる真空容器と、製膜処理が施される基板Ｓが載せられる基板テーブル１２と基板Ｓおよび基板テーブル１２における温度分布を所定の範囲内に制御する基板ヒータ１３と、基板テーブル１２の基板Ｓと接する面における複数の箇所の温度を測定する温度測定部２３−１から温度測定部２３−９と、基板Ｓが基板テーブル１２に載せられて、基板Ｓの温度分布を均一化させる温度安定化期間が終了する前に、基板Ｓに対して製膜処理を開始させる制御部６と、が設けられ、制御部６は、複数の箇所における温度の間での温度差に基づいて、安定化期間の長さを制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パレット保持の信頼性及び動作の信頼性を確保し、生産性を向上する。
【解決手段】基板支持装置が、基板１２を搭載するパレット８と、パレットを鉛直姿勢した状態で、パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構１５と、パレットの中心部を回転可能に保持するパレット中央保持機構１３と、装置本体を移動する移動機構１１と、を備え、パレット両端保持機構は、パレットの径方向両端部を板厚方向の両側から把持する機構で、移動中はパレット両端保持機構がパレットを保持し、パレット両端保持機構からパレット中央保持機構への受け渡し時は、双方の保持機構によってパレットが保持され、基板処理時はパレット中央保持機構によってパレットの中心部を回転可能に保持し、パレット両端保持機構による保持は解除される。 （もっと読む）

【課題】ハンド本体に対して移動可能な可動部としての可動フレーム、第２取付アーム、及び複数の第２クランパに作用する慣性力を相殺して、基板の実際のテンションの増大及び変動を十分に抑えること。
【解決手段】ハンド本体９の他端側に一対のカウンタウェイト３３Ａ，３３Ｂがハンド長さ方向Ｌへ移動可能に設けられ、各第１滑車３５Ａ（３５Ｂ）にカウンタウェイト３３Ａ（３３Ｂ）と可動フレーム１９を連結する第１連結ワイヤ３９Ａ（３９Ｂ）が支持され、各第２滑車４１Ａ（４１Ｂ）にカウンタウェイト３３Ａ（３３Ｂ）と可動フレーム１９を連結する第２連結ワイヤ４５Ａ（４５Ｂ）が支持されていること。 （もっと読む）

【課題】構造を簡易にでき、占有面積を小さくできる枚葉式の基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】枚葉式の基板搬送装置５は、第１枚葉ハンド４５、第２枚葉ハンド４６、第１進退機構、第２進退機構、一体移動機構、相対移動機構、および枚葉ハンド移動機構を備えている。第１進退機構は、第１水平方向Ｄ１に向かって第１枚葉ハンド４５を進退させることができ、第２進退機構は、第１水平方向Ｄ１と正反対の第２水平方向Ｄ２に向かって第２枚葉ハンド４６を進退させることができる。一体移動機構は、第１および第２枚葉ハンド４５，４６を鉛直方向に一体移動させることができ、相対移動機構は、第１および第２枚葉ハンド４５，４６を鉛直方向に相対移動させることができる。枚葉ハンド移動機構は、第１および第２枚葉ハンド４５，４６をＸ方向に一体移動させることができる。 （もっと読む）

【課題】複数枚の基板の一括搬送および１枚の基板の枚葉搬送の切り換えに要する時間を短縮することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、バッチハンド２４によりフープ保持部に保持されたフープに対して複数枚の基板Ｗを一括して搬入および搬出するバッチ式の第１搬出入機構４と、第１および第２枚葉ハンド４５，４６によりそれぞれバッチハンド２４およびフープに対して１枚の基板Ｗを搬入および搬出する枚葉式の第２搬出入機構５とを含む。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置のスループットを向上させるために装置内の処理ユニット搭載数を増やした場合においても、装置全体のフットプリントを増大させない。
【解決手段】基板に所定の処理を施す液処理ユニットと熱処理ユニット４１に対して、搬送手段によって前記基板を搬送する塗布現像処理システム１において、前記液処理ユニットに対しては、搬送手段により前記基板が水平状態で搬入、搬出され、熱処理ユニット４１に対しては、搬送手段により基板が搬入出口４０から垂直状態で搬入、搬出される。熱処理ユニット４１の幅ｄを高さｈよりも小さくして縦型ユニットとして縦置きすることができる。 （もっと読む）

【課題】大型の板状の搬送物を、局部的な応力集中や撓みが生じることなく、安全に搬送しうるようにした吊り下げ搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送経路に沿って走行する走行台車４に、搬送物支持部材１１を吊支し、この搬送物支持部材１１に板状の搬送物Ｗを載置して搬送するようにした吊り下げ搬送装置において、搬送物支持部材１１を、走行台車４に吊支されたフレーム１５と、このフレーム１５に取り付けられ、かつ搬送物Ｗを斜めに立て掛けて支持する側面支持部材１６、１７と、フレーム１５の下部に所要範囲に亘って上下動可能として装着され、かつ搬送物Ｗの下端を受支する複数の受け部材３０と、フレーム１５に設けられ、各受け部材３０を上方に向かって付勢する圧縮コイルばね３５とを備えるものとする。 （もっと読む）

リソグラフィ加工物処理装置は、加工物をロードするローディングエリア（１０８）と、加工物を処理する処理エリア（１０６）とを含む。加工物処理装置はさらに、ローディングエリアと処理エリアとの間に配置されたマルチテーブルシステム（１０）を含む。マルチテーブルシステムは、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動しながら、すれ違うように構成された少なくとも２つのテーブル（１１０，１１２）を含む。少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、加工物を保持するように構成される。
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【課題】箱から基板を取り出して他の箱や搬送装置に渡すのに、多機能、コンパクトで簡易な構造であって、高スループットの基板取出装置を提供する。
【解決手段】蓋付きの箱３内に垂直方向に立てて並べて収納される複数枚の基板５を１枚ずつ取り出して、他の装置に移載する基板取出装置１が、箱３を左右に挟んで設けられる平行な一対の走行レール２と、一対の走行レール２上をそれぞれ走行自在に設けられる走行体１１と、両方の走行体に連結され、走行体の高さ方向に沿って昇降自在に設けられる昇降体２０と、走行体の高さ方向に沿って昇降体を昇降駆動する昇降機構２３と、昇降体に、箱の蓋４と対面して設けられる蓋把持手段４０と、昇降体に設けられ、基板を垂直状態及び水平状態に回転自在に保持する基板把持手段６０と、基板把持手段を回転駆動する回転機構６３とを有している。 （もっと読む）

【課題】大型半導体ウエハをコンテナ内に撓みを防止してコンパクトに収納するために、複数のウエハを縦方向に搬入、搬出する円盤状物把持装置を提供する。
【解決手段】コンテナ内のウエハ８の中心を通る水平な線より上側に配置され、先端が厚み方向、且つ、ウエハ奥側の周縁に沿う方向に曲がった細長板状のエンドエフェクタ３と、エンドエフェクタ先端の曲がり側の厚み部に備えウエハの周縁部を把持する奥側パッド４と、奥側パッドがウエハ周縁に接触する位置とウエハ中心とを通る直線の下側にあって、ウエハに接触して周縁部を把持する下部手前側パッド６と、その直線の上側にあって、ウエハに接触して周縁部を把持する上部手前側パッド５とを有し、前記各パッドはウエハ周縁と接触する部分に凹部を有し、前記各パッドの少なくとも１つが動作してウエハを周縁部で把持する装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】一方向からの測定によって対象物の位置情報を精度よく取得することを課題とする。
【解決手段】成膜装置１０００が有する位置測定装置１１００は、基板４００が有する測定対象平面４００ａ上の３つの測定点４００ａ１、４００ａ２、４００ａ３に対し、測定点までの水平方向の距離をそれぞれ測定する測距部を備える。測距部は、３つの変位センサ１１１０、１１２０、１１３０を有する。これらの変位センサ１１１０、１１２０、１１３０は、垂直仮想平面６００に正対するように配置される。位置測定装置１１００は、水平方向から基板４００の測定対象平面４００ａの投影画像を撮像する撮像部を備えている。撮像部は、画像センサ１１５０と、この画像センサ１１５０が接続された画像取得部１１６０を備えている。 （もっと読む）