【課題】基板移載時の基板支持姿勢を安定させることで高スループット化に寄与する基板支持装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るエンドエフェクターは、センタ孔９ａを有する基板を鉛直姿勢で支持するものであり、進退方向及び上下方向の動作を駆動源よって制御されるアーム部材６ａと、アーム部材６ａに取り付けられ、基板９を支持する係止機構６ｂとを備え、係止機構６ｂは、センタ孔９ａ内側の縁部分が載せられる、上方に開放された窪み状の支持溝３２が形成された支持ブロック８を有する。また、支持溝３２は、センタ孔９ａ内側の縁部分と４箇所の接点３１で接した状態で、鉛直姿勢の基板９を支持することができるため、基板支持姿勢を安定させることができる。 （もっと読む）

【課題】基板処理速度を向上できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は、垂直姿勢で水平方向に積層された複数枚の基板Ｗに対して一括して処理を施す基板処理部２と、基板受け渡し位置Ｐ１，Ｐ２と基板処理部２との間で複数枚の基板Ｗを一括搬送する主搬送機構３と、フープＦに対して複数枚の基板Ｗを一括して搬出入するとともに、その複数枚の基板Ｗを水平姿勢と垂直姿勢との間で一括して姿勢変換させる搬出入機構４と、移載機構５と、第１および第２水平搬送機構６，７とを備えている。移載機構５は、移載位置Ｐ３において、搬出入機構４との間で基板Ｗを授受し、第１および第２水平搬送機構６，７との間で基板Ｗを授受する。第１および第２水平搬送機構は、それぞれ基板受け渡し位置Ｐ１，Ｐ２で、主搬送機構３との間で基板Ｗを授受し、移載位置と基板受け渡し位置Ｐ１，Ｐ２との間で基板Ｗを搬送する。 （もっと読む）

【課題】基板表面への傷付きを防止すること。
【解決手段】基板８の斜め下側を向いた基板８裏面の周縁部を支持する複数の基板支持板５２，５３を備えた基板受け渡し機構により基板テーブル１２と基板８との隙間が制御され、基板テーブル１２には、基板受け面に配置される基板８の下側の端面を支持する基板支持突起３３と、基板支持板５２，５３を受け入れる複数の凹所３８，３９とが設けられ、基板８の受け渡し時に、搬送部４２に対して基板テーブル１２が駆動機構により進退可能に構成されているとともに、搬送部４２に対して基板支持板５２，５３が基板受け渡し機構により進退可能に構成され、基板受け渡し機構は、基板テーブル１２と基板支持板５２，５３との隙間を制御することで基板テーブル１２と基板８との隙間を制御するように構成した。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れや汚染の発生を抑えつつ被処理基板を乾燥することの可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】載置部４２には、パターンの形成された面を上面として、当該上面が液体により濡れた状態で被処理基板Ｗが横向きに載置され、基板搬送機構４１は、載置台４２からこの被処理基板Ｗを受け取って、液槽３２内の液体中に浸漬するにあたり、前記パターンの形成領域の上端が当該液体に接触した時点において、このパターン形成領域の上端の板面に液体が残るように当該被処理基板Ｗを縦向きの状態に変換してから液体に浸漬する。処理容器３１では、この液槽３２を内部に格納した状態で、当該液槽３２内の液体を超臨界状態の流体に置換することにより、被処理基板Ｗを乾燥する処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】基板移載時におけるトレイへの基板移載機構の精度が低い場合においても、トレイに対して基板を常に安定して保持させることができるようにし、基板搬送時のトレイからの基板のずれ、破損、脱落の発生を抑制すること。
【解決手段】本発明の一実施形態では、第一のトレイ106に基板102が搭載された際に与圧機構が基板102に圧力を与えて第一のトレイ106が基板102を保持した状態とし、この第一のトレイ106を第二のトレイ107に装着し、第二のトレイ107を斜めの姿勢にして搬送機構がプロセスチャンバー109に搬送する。プロセスチャンバー109では、減圧下でガスが導入され、基板102上に薄膜を堆積させる。 （もっと読む）

【課題】ウェハの受け渡し時におけるチャック機構の吸着不良を低減する。
【解決手段】ハンドリングユニットのウェハ保持面１８は、断面がＬ字状の金属板で円弧に沿ったＣ字状に形成されている。ウェハ保持面１８はウェハ１６の外周を囲む大きさとされ、平面部１８Ｆでウェハ１６の下面を保持している。平面部１８Ｆの外周部には、ウェハ１６の平面部１８Ｆからの高さより高い寸法で立上り部１８Ｈが立ち上げられ、立上り部１８Ｈでウェハ１６の外周を囲んでいる。ウェハ保持面１８の一部は切り欠かれ、切り欠き部を利用して、後述するシャトル２４の軸部３８を側方から囲むことができる。ウェハ保持面１８の平面部１８Ｆには、平面部１８Ｆから突出された２本の固定ピン２８と、平面部１８Ｆからの突出高さが固定ピン２８より高い１本の固定ピン３０が周方向に間隔を開けて突設されており、ウェハ１６の下面との接触部とされている。 （もっと読む）

【課題】搬送により発生するパーティクルが基板へ付着するのを広範囲にわたり低減させ、メンテナンス時、低減させたパーティクルの処理を容易にできる基板処理装置を提供することにある。
【解決手段】処理基板をトレイに搭載した状態で、排気可能な処理室の間を、トレイごと搬送しながら処理基板に処理室内で所定の処理を施す基板処理装置であって、トレイの搬送路の下方に、該トレイの搬送路の方向に沿って同じ磁極で向き合う磁性体を配置し、かつ、その上を非磁性材料からなる部材で覆われているパーティクル吸着体が備えられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置への基板の搭載および基板搬送装置からの基板の取り出しを自動化する。
【解決手段】ロボットアーム１１の先端に取り付けられた基板ハンドリング装置１０を使用して基板搬送装置１３へ基板２１を搭載する方法であって、基板２１を立てた状態で保持した基板ハンドリング装置１０を基板搬送装置１３の挿入する工程と、基板ハンドリング装置１０を基板搬送装置１３の基板保持枠２７に向けて前進させる工程と、基板ハンドリング装置１０を傾ける工程と、基板ハンドリング装置１０のロック機構１７を解除する工程と、基板２１の底部付近を基板保持枠２７に押し付ける工程と、基板２１を基板保持枠２７に押し付けたまま降ろして基板２１の荷重を基板保持枠２７に移す工程と、基板２１を垂直に立てて基板保持枠２７でクランプする工程と、基板ハンドリング装置１０を基板保持枠２７から離間させる工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板を支持して搬送される基板支持機構を備える真空処理装置において、異常を有する基板支持機構を検出することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】直列に連結された真空処理室内で連続的に基板６３を搬送する基板搬送機構は、基板６３を保持した状態で移送される基板支持機構５０を撮影するＣＣＤカメラ１０３を有しており、ＣＣＤカメラ１０３によって撮影された映像から基板支持機構５０が基板６３を支持する位置を測定し、基板支持位置が異常な基板支持機構５０を検出する。 （もっと読む）

【課題】成膜装置の稼働率と被処理物の処理効率を向上させることができるハースライナーカバー交換機構を提供する。
【解決手段】小径孔１６Ｂと大径孔１６Ａとで構成された鍵穴状の穴１６が形成された鍔部１０Ｂを有し成膜装置のハース１４の上部に設けられるハースライナーカバー１０を交換するハースライナーカバー交換機構であって、垂直方向に移動可能となり、かつ垂直方向に延びる軸３０の軸回りに回転可能になるハンド３６を有し、ハンド３６は穴１６に引っ掛けてハースライナーカバー１０を保持する保持部３８を備え、ハンド３６が軸の軸回りに回転するときの回転方向の接線は小径孔１６Ｂから大径孔１６Ａに延びる穴１６の中心線と一致し、保持部３８が穴１６に挿入された状態でハンド３６が軸３０の軸回りに回転することにより保持部３８と穴１６が係合する。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ成分がオゾン洗浄液に混入することを抑制して、オゾン洗浄能力の低下が抑制できる洗浄方法を提供する。
【解決手段】 チャック部材で、予めオゾン洗浄槽内のオゾン洗浄液に浸漬していた他の被処理物を保持するに先立ち、搬送アームの一部およびチャック部材に付着したアルカリ成分を洗浄除去して、アルカリ成分がオゾン洗浄液に混入するのを抑制することを特徴とする洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】装置コストを増大させることがなく、乾燥処理により形成される塗布膜の膜厚のムラの発生を防止できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板を搬送する搬送路３４と、搬送路３４の途中に設けられ、気体を噴出する多数の噴出孔が狭ピッチで形成されたステージ面１１１を有し、被処理面に処理液が塗布処理された基板に噴出孔から噴出した気体を吹き付けることにより、基板をステージ面１１１の上で浮上させ、基板を乾燥処理する浮上ステージ１１０と、噴出孔から噴出する気体を常温より高い温度で噴出孔に供給する第１の供給源と、搬送路３４の搬送方向に沿って浮上ステージ１１０の上流側に設けられ、基板を浮上ステージ１１０に搬入駆動する搬入駆動部１５０と、搬送路３４の搬送方向に沿って浮上ステージ１１０の下流側に設けられ、基板を浮上ステージ１１０から搬出駆動する搬出駆動部１５２とを有する。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板に傷や割れが発生することを抑制できると共に、部品点数が少なく、パーティクルが付着しにくい基板ホルダー及びこれを用いた基板搬送装置を提供する。
【解決手段】 基板ホルダー１は、被処理基板Ｓの被処理面側の外周部に当接する当接部１１２と、被処理基板の被処理面を露出させる開口１１３とを有し、被処理基板の被処理面を露出させた状態で当接部で被処理基板を支持する支持部材を備え、当接部１１２には、被処理基板の端部に対向する位置に凹部１４が設けてある。基板搬送装置は、これを備える。 （もっと読む）

【課題】基板を規則正しく整列させることのできる基板整列治具を提供し、また、当該基板整列治具を用いた基板の移送方法を提供する。
【解決手段】基板１１収納する基板カセットに用いられる基板整列治具２５であって、前記基板カセットは、上部及び下部が開放したカセット本体２を備え、前記カセット本体２内部には、基板１１を整列させるために、相対向する一対の面に、上部から下部に向かって溝部７が設けられており、前記基板整列治具２５は、前記カセット本体２の開放した下部に設けられ、基板１１を整列させて保持するための溝２３が設けられたコーム２４が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板をセットする際に、基板の下辺が下辺支持部材に不適当に接触する事態を防止すると共に、搬送時に生じる振動による衝撃を確実に軽減することにより、基板の破損を可及的に低減し得る基板フォルダを提供する。
【解決手段】基板搬送装置でガラス基板を搬送するに際して、ガラス基板２の下辺を下辺支持部材４で支持した状態で前記基板を縦姿勢で保持する基板フォルダ１であって、下辺支持部材４が、ガラス基板２の下辺が載置されるし平面を有する載置部７と、該載置部７を下方から支持し且つ載置部７に載置されるガラス基板２の重量で弾性変形可能な弾性変形部８とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板を収納する基板用カセットに対して、様々なサイズの基板に対応して棚板の位置決めを行うことができる、汎用性の高い位置決め冶具を提供する。
【解決手段】枠体内に互いに平行に設けられた複数対の棚板の対向する面に、同一方向に平行に延びる複数の溝を備え、複数の基板を各対の棚板の溝に差し込んで収納する基板用カセットの棚板の位置決めに用いられる位置決め治具であって、前記基板と同じ幅のダミー基板７、第一の挟持部を有する支持板１、前記第一の挟持部の端縁に突状に設けられたサイドガイド３及び第二の挟持部を有する押さえ板２から構成され、前記ダミー基板７は、前記ダミー基板７の端面と前記サイドガイド３の端面とを合わせて配置され、前記第一の挟持部と前記第二の挟持部で挟持され、固定されることを特徴とする基板用カセットの位置決め治具である。 （もっと読む）

【課題】ウエーハの破損を防止しつつ、ウエーハの分離搬送に要するサイクルタイムの安定化、短縮化を図る。
【解決手段】積層ウエーハ２を積層ウエーハ２の送り出し側が高くなるよう水面１２に対し傾斜させて支持し、送り出し方向Ｓに回転する切出ローラ４により積層ウエーハ２の一番上にあるウエーハ１を送り出し方向へスライドさせて対向する送りローラ５と阻止ローラ６との間にウエーハ１を送り込んで積層ウエーハ２を一枚ずつ分離するウエーハ分離搬送装置１００において、送りローラ５及び阻止ローラ６は、切出ローラ４の回転中心を支点Ｐとして回動する可動フレーム７により支持されて可動フレーム７と一体的に回動し、可動フレーム７に回転自在に取り付けられた倣いローラ８によって、積層ウエーハ２の傾斜とウエーハの送り出し方向とを一致させる。 （もっと読む）

【課題】真空処理装置の真空処理室内部のメンテナンス性を改善する。
【解決手段】真空処理装置１は、被処理物１０７を収容して真空処理を施す第１の処理室１０１と、真空処理される前の被処理物と、真空処理された後の被処理物と、を収容する真空排気可能な第２の処理室１０２と、第１の処理室と第２の処理室との間に、第１の処理室と着脱可能に介装されるゲート部１０３と、ゲート部１０３を通じて、真空処理される前の被処理物を搬入部１０８から真空処理部１０４へと搬入し、真空処理された後の被処理物を真空処理部１０４から搬出部１１９へと搬送する搬出する搬送装置２０２と、第１の処理室と第２の処理室とを離間させる移動機構２００とを備える。 （もっと読む）

【課題】小型化を実現することができるウェーハフレームの搬送装置および搬送方法を提供する。
【解決手段】倒立部４は、ウェーハフレームＷをその平面を鉛直方向に沿わせた状態に倒立させる。移動部５は、ウェーハフレームＷをその状態で搬送する。これにより、ウェーハフレームＷの平面を水平方向に沿わせた状態で搬送する場合に比べて、ウェーハフレームＷの搬送経路に要する面積が小さくなるので、結果として、小型化を実現することができる。すなわち、本実施の形態では、ウェーハフレームＷの平面を鉛直方向に沿わせた状態に倒立させて搬送するので、搬送経路は、少なくとも、ウェーハフレームＷの移動距離とウェーハフレームＷの厚さとを乗じた面積だけで済むので、従来よりも搬送経路に要する面積を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】インライン型基板処理装置を製造するに際し、その作業効率を向上させることの可能な製造システム及び製造方法を提供する。
【解決手段】
インライン型基板処理装置の製造システムは、複数のチャンバが縦列に連結されてなるインライン型基板処理装置を少なくとも１つのチャンバから構成されるユニット毎に製造するものである。当該製造システムは、一のユニットに係る複数の製造工程に対応付けられて複数のユニットが配置される複数の作業スペース１１〜１７，２１，２２，３１〜３３，４１，５１〜５３，６１と、複数の工程の各々に対応付けられて工程毎の作業の準備に用いられる複数の作業準備スペースとを備える。また、複数の作業スペースにおける作業が終了する毎に、当該工程に対応する作業スペースから当該工程の次の工程に対応する作業スペースまでユニットを搬送する搬送装置を更に備える。 （もっと読む）