【課題】ラック・アンド・ピニオンの技術を用いた縦型搬送によるインライン型の真空処理装置であって、ピニオンギヤとラックギヤが同期ずれにより、トレイに振動や衝撃を与えることなく搬送を可能にする搬送機構、及び、それを備えた真空処理装置を提供することにある。
【解決手段】複数のピニオンギヤのうち、少なくとも２つが回転してラックギヤに順次噛合することにより、該ラックギヤを現工程の処理室内に配置されるピニオンギヤから、次工程の処理室内に配置されるピニオンギヤへと受け渡して、トレイを搬送するラック・アンド・ピニオン機構、及び、それを備えた真空処理装置であって、前記ピニオンギヤをそれぞれ独立に上下移動させる上下駆動部を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スループットの向上及び低コスト化を図ることができるロードチャンバを提供する。
【解決手段】サブチャンバ４２を有するロードチャンバＬＬ１は、サブチャンバ４２内を上下方向に移動し、基板カセット５Ｌが載置される基板カセットベース４７が上昇位置にあるときには基板カセットベース４７を隔壁としてサブチャンバ４２内の上部に気密な空間を形成でき、基板カセットベース４７が下降位置にあるときには基板カセット５Ｌから搬送装置に基板を移載できる。サブチャンバ４２内に補充された基板を搬送装置側に排出するためのＧＶを必要としないため部品点数を削減できるとともに、基板カセット５Ｌへの基板１３の補充のときに排気とベントが必要な空間が限定されるためスループットを向上できる。 （もっと読む）

【課題】占有面積当たりの物品の生産量がより高く、或いは同じ生産量当たりの占有面積がより小さいことを許す少なくとも２個の処理ユニットを複数有する装置のための輸送システムを提供する。
【解決手段】少なくとも２個の処理ユニットの複数の少なくとも１個の直線状に配列されたアレイを備え、各処理ユニットにおいて１個の枚葉ウエハ形物品を処理でき、更に、かかる各処理ユニットにおいて１個の枚葉ウエハ形物品を処理し得る処理ユニット、少なくとも１個の枚葉ウエハ形物品を内部に貯蔵する少なくとも１個のカセットを保持するためのカセット保持ユニット１５、及びカセットからウエハ形物品を取り上げてこれを処理ユニットの一つの中に置くための輸送システムを備えたウエハ形物品の処理用の装置で、直線状トラック上に取り付けられた輸送ユニット４４、４６は、枚葉ウエハ形物品を、直線状トラック２４、２６と平行な実質的に垂直な平面内に保持する。 （もっと読む）

【課題】各種電子装置の製造で、基板に対して加熱処理や成膜処理等の表面処理を施す真空処理装置の基板の搬送方法であって、基板移載時におけるトレイへの基板移載機構の精度が低い場合においても、トレイに対して基板を常に安定して保持させることが可能な基板の搬送方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置の設置面に対して水平の位置にある第一のトレイに基板を搭載し保持するステップと、基板を保持した第一のトレイを設置面に対して鉛直方向に傾いた第二のトレイに装着するステップと、第一のトレイが装着された第二のトレイを、基板処理装置が有する減圧したチャンバー内に搬送機構により搬送するステップと、を有することを特徴とする基板の搬送方法である。 （もっと読む）

【課題】高速でのガス置換を行うことなく成膜処理を実行可能であり、又基板のサイズに柔軟に対応可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数の基板３を載置する載置部５を移動させることで基板を搬送する搬送手段６と、第１の空間１１に第１の処理ガスを供給する第１のガス供給手段７と、第２の空間１２に第２の処理ガスを供給する第２のガス供給手段８と、前記第１の空間又は前記第２の空間の後にそれぞれパージガス雰囲気の第３の空間１３ａ，１３ｂを形成する為にパージガスを供給するパージガス供給手段９ａ，９ｂと、少なくとも前記載置部を加熱する加熱手段１４と、前記第１の空間、前記第２の空間及び前記第３の空間がそれぞれ所定の温度となる様に前記加熱手段を制御する温度制御手段１７と、複数の基板を載置した状態で前記搬送手段が前記第１の空間、前記第２の空間及び前記第３の空間を通過する様に制御する搬送制御手段１６とを具備する。 （もっと読む）

【課題】基板のセット時や搬送時の衝撃により被処理基板の被処理面に傷や割れが発生することを抑制できる基板ホルダー及び基板搬送装置を提供する。
【解決手段】被処理基板を支持するホルダー本体が、被処理基板Ｓの被処理面を露出させる第１開口２１２を有し、被処理基板Ｓの被処理面側の外周部に当接するマスク部材２１と、第１開口よりも広い第２開口１１３を有し、マスク部材の外周部に当接して被処理基板の被処理面を第１開口を介して第２開口から露出させた状態でマスク部材を支持して被処理基板を支持する支持部材１１と、支持部材とマスク部材とが当接する領域に設けられた衝撃吸収性を有する緩衝材１２とを備える。基板搬送装置はこれを有する。 （もっと読む）

【課題】ガラス板を縦姿勢搬送する場合における当該ガラス板の座屈や捩れさらには進行方向先端部の垂れ下がり等による割れや損傷等の問題を回避する。
【解決手段】ガラス板２の下辺部２ａを下部支持手段３により受止支持すると共に、ガラス板２の裏面２ｅを裏部支持手段４により受止支持しながら、ガラス板２を縦姿勢で搬送するガラス板搬送方法であって、縦姿勢のガラス板２は、搬送方向Ａと直交する断面において、その表面２ｆ側が凹状となる湾曲部２ｘを有する形態で搬送される。 （もっと読む）

【課題】基板のセット時や搬送時の衝撃により被処理基板の被処理面に傷や割れが発生することを抑制できる基板ホルダー及びこれを用いた基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー１は、被処理基板Ｓ１の被処理面側の外周部に当接する当接部１１２と、被処理基板の被処理面を露出させる開口部１１３とを有し、被処理基板の被処理面を開口から露出させた状態で当接部で前記被処理基板を支持する支持部材１１を備え、当接部には、少なくとも前記被処理基板に対向する位置に、衝撃吸収性の高い緩衝材１２が設けられている。基板搬送装置はこれを備える。 （もっと読む）

【課題】傾斜して基板を搬送する搬送装置に上乗せローラ機構を設けても、処理液の飛散を防止することが可能な基板の処理装置及び搬送装置を提供すること。
【解決手段】傾斜して搬送される基板１００の上面を処理液によって処理する処理装置１であって、搬入口１０及び搬出口１１を有する処理槽３と、搬入口１０から搬出口１１まで複数設けられ、所定の角度で傾斜して回転する搬送軸２１及びこれら搬送軸２１にそれぞれ複数設けられた支持ローラ２２を有する搬送ローラ機構１３、及び、複数の搬送軸２１の少なくともいずれか一と対向して設けられた回転軸２７、回転軸２７に設けられ基板１００の両端部の上面と当接するローラ３１及び傾斜する基板１００の下方の端部と当接するローラ３１の上斜面に設けられた整流部材３２を有する上乗せローラ機構１５を具備する搬送装置４と、処理液を基板１００に供給する供給装置５と、を備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板表面上に吐出された処理液の滞留を防止し基板全面における処理の均一化を有効に達成できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】スプレーパイプ部２２と、スプレーパイプ部２２の長手方向に一列に互いに近接して形設され処理液をその吐出口２６から基板Ｗの表面１０２へ吐出する複数のノズル部２４から構成される複数のスプレーノズル１４とを備える基板処理装置において、基板Ｗの表面１０２に対する複数のノズル部２４の吐出口２６の対向角度を、水平姿勢で搬送される基板Ｗの表面１０２の基板搬送方向Ｘに関して交差する方向における中央部付近から両端部付近にかけて、鉛直線に対して漸次大きくなるように、複数のノズル部２４を複数のスプレーパイプ部２２に形設することにより、基板Ｗの表面１０２上において吐出後の処理液の積極的な液流れを発生させる。 （もっと読む）

【課題】処理液により基板を処理する際に発生する気泡に起因して基板処理が阻害されるのを防止できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを処理するための処理液を貯留する処理槽３０と、処理槽３０内で基板Ｗを保持可能な基板保持部４１と、基板保持部４１を昇降駆動する駆動部５３とを有する基板処理装置１１における基板処理方法であって、基板保持部４１が保持している基板Ｗを処理槽３０が貯留している処理液に浸漬させて処理する際に、基板保持部４１を駆動部５３により処理槽３０から上昇させて基板Ｗを処理液から引き上げ、上昇させた基板保持部４１を駆動部５３により下降させて基板Ｗを再び処理液に浸漬させることによって、基板Ｗを処理する際に発生する気泡を基板Ｗから除去する。 （もっと読む）

【課題】平板状のワークを起立姿勢で良好に固定する固定機構、並びにこの固定機構によるワークの固定方法およびワークの固定解除方法を提供する。
【解決手段】押さえ枠７２は、環状とされており、ワーク３の外縁部を押さえる。複数の付勢部材７３は、バネ等の弾性部材により形成されており、押さえ枠７２の４隅のうちの対応するコーナーと連結されている。複数の可動クランプ部６１（６１ａ〜６１ｃ）のそれぞれは、押さえ枠７２に対して近接または離隔する方向に進退する。固定クランプ部６２は、押さえ枠７２付近に固定されている。また、複数の可動クランプ部６１および固定クランプ部６２のそれぞれは、押さえ枠７２に沿って設けられている。これにより、ワーク３の外縁部は、複数の可動クランプ部６１および固定クランプ部６２と、押さえ枠７２と、によって良好に挟み込まれる。 （もっと読む）

【課題】搬送ユニットに対して起立姿勢のワークを良好に受け渡すことができる姿勢変更ユニットを提供する。
【解決手段】受渡部２０は、水平姿勢とされたワーク３を保持するとともに、起立姿勢とされたワーク３を搬送ユニットとの間で受け渡す。揺動部３０は、受渡部２０を揺動させることによって、受渡部２０に保持されたワーク３の姿勢を水平姿勢と起立姿勢との間で変更する。押圧部３５は、搬送ユニットの固定機構からワーク３に付与される荷重を調整する。これにより、搬送ユニットの固定機構は、姿勢変更ユニット１０の押圧部３５から付与される荷重によって、ワーク３の固定、およびワーク３の固定解除を実行する。すなわち、搬送ユニット５０において、ワーク３の固定、およびワーク３の固定解除を実行させるための要素は、不要となる。 （もっと読む）

【課題】基板処理のスループットを向上させることのできる基板処理装置を、提供する。
【解決手段】基板受渡台１１と、基板を１枚ずつ処理するための基板処理室１５、１６、との間における搬出入を行うための基板搬送機構３６に、前記基板を１枚ずつ保持するための基板保持具をＮ個（Ｎは３以上の整数。）設けた、基板処理装置、及び前記基板処理装置で用いる基板処理方法並びに基板処理プログラムにおいて、前記Ｎ個の基板保持具のうちの２個〜Ｎ−１個の基板保持具で複数枚（２枚〜Ｎ−１枚）の前記基板を同時に保持して、前記基板処理室に１枚ずつ前記基板の搬出入を行うことにした。 （もっと読む）

【課題】先行技術から出発して、公知の連続基盤処理装置を改良することである。
【解決手段】基盤を処理するための基盤処理装置であって、室壁１によって画成される装置室並びに、装置室の内部に少なくとも一つの基盤処理装置および、搬送方向において相前後して設けられる、基盤の縦置きまたは横置きの搬送のための搬送ローラー３の配置を備える搬送装置を有している基盤処理装置において、直接相前後して設けられる搬送ローラー３の、少なくとも第一のグループにおいて、各搬送ローラー３が、独自の駆動装置６を備えている。 （もっと読む）

【課題】 ラックの基板収容部にエンドエフェクトを挿入せずに、収納ピッチが密で、且つ間隔をあけた２つの板状部材の間に板状部材を搬入し、並んだ複数の板状部材の中から何れの板状部材でも搬出可能な板状部材移載設備を提供する。
【解決手段】 ストッカ設備１は、ガラス板２が立てた状態で前後方向に並べて収納されるラック２１と、ガラス板２を左右に移動させてラック２１との間で受け取りするストッカ４を備えている。ストッカ４は、基台５と、フリップ８と、スライド部材１６と、駆動部材１８とを有する。フリップ８は、フリップ駆動機構１０により基台５に対して軸線Ｌ１回りに回動し、回動することでそこに載せられたガラス板２を立てたり倒したりするように構成されている。駆動部材１８は、スライド部材１６に回動可能に設けられ、回動することでガラス板２をラック２１内に送れるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】生産効率の向上と処理品質の向上とを両立させることが可能となる連続拡散処理装置を提供する。
【解決手段】複数枚の板状の被処理物を載せる搬送台５０と、直線状に延びる筒状の加熱炉１と、加熱炉１内に搬送台５０を順次搬入し、加熱炉１内を搬送した搬送台５０を順次搬出する搬送装置２と、加熱炉１内を通過する搬送台５０に載せた被処理物を加熱する加熱装置３と、加熱炉１内の搬入部１１から搬出部１２までの間を、搬送方向に複数のゾーンに区画している複数の隔壁部材７と、ゾーン毎に個別にガスを供給すると共に、当該ゾーン毎に個別にガスを排出するガス給排装置４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板を鉛直方向に向けて搬送する場合にも安定した高速搬送が可能な基板搬送装置及び真空処理装置を提供する。
【解決手段】基板３ａ、３ｂを保持するトレイ４ａ、４ｂ、軸受（案内部材）６を介して搬送路７の上を移動するキャリア２０、キャリア２０を搬送路７に沿って移動させる駆動手段を具備する。駆動手段の駆動により搬送路に沿って基板を搬送路を含む面に対して鉛直方向に向けて搬送する。その際、駆動手段は搬送路に沿って取り付けられたラックギア１６を有し、キャリア２０とラックギア１６との間に搬送路７に沿って防振材８を配置し、キヤリア２０の搬送時の振動を抑制する。 （もっと読む）

【課題】カップリング装置が摩耗や損傷することの無い真空装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空装置１３〜１５では、搬送ローラ３８を支持するローラ支持装置３２と、搬送ローラ３８を回転させる駆動モータ４２とが、それぞれ真空槽２０のチャンバ本体２１を閉じる扉部２２に取り付けられている。従って、扉部２２を開閉する際に、搬送ローラ３８と駆動モータ４２とは、扉部２２の移動に伴って移動し、扉を開閉しても、搬送ローラ３８の真空槽２０内の位置は変化しない。カップリング装置を用いていないから、摩耗や損傷は無い。 （もっと読む）

【課題】基板を鉛直方向に向けて搬送する場合にも安定した高速搬送が可能な基板搬送装置及び真空処理装置を提供する。
【解決手段】基板３ａ、３ｂを保持するトレイ４ａ、４ｂ、軸受（案内部材）６を介して搬送路７の上を移動するキャリア２０、キャリア２０を搬送路７に沿って移動させる駆動手段を具備する。駆動手段の駆動により搬送路に沿って基板を搬送路を含む面に対して鉛直方向に向けて搬送する。その際、搬送路７の床面との接触部分に搬送路７に沿って防振材８を配置し、キヤリア２０の搬送時の振動を抑制する。 （もっと読む）